基于soi技术集成多传感器芯片的制作方法

文档序号:6099080阅读:117来源:国知局
专利名称:基于soi技术集成多传感器芯片的制作方法
技术领域
本发明涉及一种传感器芯片,特别涉及一种基于SOI技术的集温度、压力、湿度和加速度于一体的多传感器集成芯片。
背景技术
目前,随着MEMS研究的不断深入,以及其工艺的不断成熟与完善,国内外已经具有非常成熟的技术方法研究和制作基于MEMS技术的分离器件和传感器,包括压力传感器、加速度计、湿度和温度传感器在内的各独立传感器,具有较好的研究基础和代表性的产品。单个器件作为传感器测量元件时,在一定的应用领域和场合发挥了巨大的作用,然而,在航空航天领域、军事工业领域、汽车领域以及手机行业等一些特定研究应用领域,由于受到体积、重量以及功能的要求,越来越多地关注到在尽可能小的体积、尽量轻的重量上拥有尽量多的测量参数。

发明内容
本发明的目的在于解决传统多传感器的体积过大、重量过重的缺点,提供一种基于SOI技术的集温度、压力、加速度和湿度传感器于一体的MEMS集成多传感器芯片,其具有体积微小、重量轻、抗干扰能力强以及多功能的特点。
本发明所采用的技术方案是,基于SOI技术集成多传感器芯片,包括硅膜,硅膜与玻璃底座在真空环境下通过静电键合结合,中间形成相对独立的真空环境,硅膜的岛结构下端固定有重锤,硅膜的岛结构上集成有湿度传感器和温度传感器,温度传感器的电阻条走向沿100晶向或010晶向,硅膜上岛结构的四周集成有压力传感器和加速度传感器,压力传感器和加速度传感器的压阻电阻条沿110或110晶向,加速度传感器包括Y方向加速度测量电路、X方向加速度测量电路和Z方向加速度测量电路。
本发明较佳的技术方案在于还包括以下特点湿度传感器包括SOI单晶硅叉指电极,单晶硅叉指电极上覆盖有薄膜形铝电极,且单晶硅叉指电极与铝电极大小一致,铝电极之间涂覆聚酰亚胺薄膜,薄膜厚度与单晶硅叉指电极厚度一致。
温度传感器为沿100晶向或010晶向的锯齿型电阻条。
压力传感器的测量电路包括电阻Rp1,电阻Rp1与电阻Rp2、电阻Rp3和电阻Rp4组成惠斯登测量电桥。
Y方向加速度测量电路包括电阻Ry1,电阻Ry1与电阻Ry2、电阻Ry3和电阻Ry4组成惠斯登测量电桥。
X方向加速度测量电路包括电阻Rx1,电阻Rx1与电阻Rx2、电阻Rx3和电阻Rx4组成惠斯登测量电桥。
Z方向加速度测量电路包括电阻Rz1,电阻Rz1与电阻Rz2、电阻Rz3和电阻Rz4组成惠斯登测量电桥。
本发明的集成多传感器芯片由于采用了SOI技术,将温度传感器、压力传感器、加速度传感器和湿度传感器集成在一块芯片上,用一块芯片就可得到尽量多的测量参数,而且解决了多传感器各参量之间相互干扰的问题,其体积小、重量轻,尤其在航空航天领域、军事工业领域、汽车领域以及手机行业等特定领域,具有重要的应用前景。


图1是本发明多传感器芯片的结构示意图;图2是本发明的硅膜上集成的各传感器示意图;图3是压力传感器的测量电路图;图4是Y方向加速度测量电路图;图5是X方向加速度测量电路图;图6是Z方向加速度测量电路图;图7是加速度传感器工作原理图,其中a是重锤在X、Y方向产生力的示意图,b是重锤在Z方向产生力的示意图,c是应力大小与X、Y方向加速度的对应关系图,d是应力大小与Z方向加速度的对应关系图;图8是温度传感器结构示意图;图9是湿度传感器结构示意图。
图中,1.硅膜,2.重锤,3.玻璃底座,4.温度传感器,5.X方向加速度测量电路,6.Z方向加速度测量电路,7.温度传感器,8.Y方向加速度测量电路,9.压力传感器,10.单晶硅叉指电极,11.铝电极。
具体实施例方式
下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作详细说明。
参见图1、图2,本发明的集成多传感器芯片,包括硅膜1,硅膜1与玻璃底座3在真空环境下通过静电键合结合,中间形成相对独立的真空环境,硅膜1的岛结构下端固定有重锤2,硅膜1的岛结构上集成有湿度传感器4和温度传感器7,尽量将湿度传感器4和温度传感器7分开布置,以避免参量之间相互干扰,温度传感器7的电阻条走向沿100晶向或010晶向,且沿100晶向或010晶向的电阻条为锯齿型,硅膜1上岛结构的四周集成有压力传感器9和加速度传感器,压力传感器9和加速度传感器的压阻电阻条沿110或110晶向,加速度传感器包括Y方向加速度测量电路8、X方向加速度测量电路5和Z方向加速度测量电路6。
参见图3,压力传感器9的测量电路包括电阻Rp1,电阻Rp1与电阻Rp2、电阻Rp3和电阻Rp4组成惠斯登测量电桥。由于硅膜1和玻璃底座3之间的真空环境,使得硅膜1的膜片在大气压的作用下发生变形,这种变形导致硅膜1岛结构的压力传感器测量电路9的惠斯登的四个电阻发生变化,大气压不同,引起压力传感器测量电路9的电阻变化率不同,变化信号通过惠斯登电桥输出,从而达到检测大气压的目的。
参见图4,Y方向加速度测量电路8包括电阻Ry1,电阻Ry1与电阻Ry2、电阻Ry3和电阻Ry4组成惠斯登测量电桥。
参见图5,X方向加速度测量电路5包括电阻Rx1,电阻Rx1与电阻Rx2、电阻Rx3和电阻Rx4组成惠斯登测量电桥。
参见图6,Z方向加速度测量电路6包括电阻Rz1,电阻Rz1与电阻Rz2、电阻Rz3和电阻Rz4组成惠斯登测量电桥。
三加速度测量电路工作原理如下参照图7a、b,由于重锤2质量m的影响,当外界施加或产生的加速度为a时,沿加速度a的方向会产生力F的作用,其中F的大小为F=ma (1)加速度沿X、Y或Z方向时,重锤2上会产生沿X、Y或Z方向产生力F,力F通过硅膜1的岛结构会在硅膜1的应变膜片上产生应力,应力大小正比于加速度大小,硅应变方向如图7c、d所示,根据应变方向的不同,依据压阻效应,Y、X、Z方向加速度组成相对独立的惠斯登测量电路,由于组成惠斯登测量电路的独立和结构次序的变化,在对应的惠斯登测量电路上输出与之对应的加速度信号,由于具有相对独立的测量电路,X、Y、Z方向测量电路具有抗较高的相互干扰的能力。
参见图8,为减少压力传感器和加速度计应力因数对SOI热敏温度传感器的影响,利用沿100或010晶向,其压阻系数几乎为零的特点,温度传感器的电阻条走向沿100和010方向设计成锯齿型结构。从而提高温度传感器对于压力、加速度作用的影响,提高其抗干扰的能力。在一定掺杂浓度下,电阻与温度的关系可表示为R(t)=R0(1+At) (2)图9中,湿度传感器4包括SOI单晶硅叉指电极10,单晶硅叉指电极10上覆盖有薄膜形铝电极11,且单晶硅叉指电极10与铝电极11大小一致,铝电极11之间涂覆聚酰亚胺薄膜,薄膜厚度与单晶硅叉指电极10厚度一致,为提高湿度传感器测量灵敏度,湿度传感器单晶硅叉指电极10之间涂覆一层聚酰亚胺薄膜材料,其厚度为SOI单晶硅厚度(约1.5um),作为湿度传感器电容的介电材料。外界湿度发生变化时,介电材料聚酰亚胺吸收或排出水分,外界湿度大于湿度传感器电容中的湿度时,介电材料聚酰亚胺吸收水分;反之,则排出水分。最终达到湿度平衡。湿度传感器的电容可表示为C=e0erSd---(3)]]>其中d=叉指状电极之间的距离;S=电容电极的面积;ε0=真空介电常数,8.85pF/m;
εr=聚酰亚胺介电常数。
因此,通过检测湿度传感器在不同湿度下的电容,即可达到检测湿度的目的。
传统体硅压力传感器、加速度计等是PN结隔离,当温度升高到120℃以上时,由于硅的杂质能级向本征能级靠拢,PN结漏电流很大,而使敏感器件无法工作,从而造成稳定性较差。本发明的集成多传感器芯片应用MEMS微加工技术的硅隔离SOI技术,将多个传感器集成,解决了参量之间相互干扰的问题,而且较传统压力传感器、加速度计等具有较高的测量灵敏度和较强的输出。
本发明的集成多传感器芯片所用硅片为100mm、N型100晶向的双面抛光片,电阻率为5~8Ω·cm,为了防止顶部硅层和衬底非晶化,衬底温度控制在650℃时进行氧离子注入,在此温度下注入过程中造成非晶化的损伤会因退火而消除,从而保持顶部单晶硅层。在注入能量为200keV,氧离子注入剂量为1.8×1018cm-2条件下,可以得到上部硅层0.2u下0.3~0.4u的二氧化硅隔离层。在1300℃高温条件下退火6小时,顶部硅全部从氧化物沉淀中脱出,顶部硅层与隐埋氧化层界面呈现出原子级陡峭,并且几乎可以消除注入过程中包括晶格缺陷在内的所有缺陷。为得到较好的SOI材料质量,退火时在添加了0.5~2%氧气的氩气中进行,氧的存在会使硅层上表面生长一层氧化硅,以防止在高温纯氩气中退火时硅表面出现凹坑。用LPCVD方法外延并得到满足压阻效应的单晶硅层厚度(大约1.5~2u)和上层0.1~0.3u的氮化硅应力匹配层和保护层。以SOI膜结构为基础,压力传感器、三自由度加速度计、湿度传感器和温度传感器进行集成。
权利要求
1.基于SOI技术集成多传感器芯片,包括硅膜(1),硅膜(1)与玻璃底座(3)在真空环境下通过静电键合结合,中间形成相对独立的真空环境,硅膜(1)的岛结构下端固定有重锤(2),其特征在于,所述硅膜(1)的岛结构上集成有湿度传感器(4)和温度传感器(7),所述温度传感器(7)的电阻条走向沿100晶向或010晶向,硅膜(1)上岛结构的四周集成有压力传感器(9)和加速度传感器,所述压力传感器(9)和加速度传感器的压阻电阻条沿110或110晶向,所述加速度传感器包括Y方向加速度测量电路(8)、X方向加速度测量电路(5)和Z方向加速度测量电路(6)。
2.根据权利要求1所述的多传感器芯片,其特征在于,所述湿度传感器(4)包括SOI单晶硅叉指电极(10),单晶硅叉指电极(10)上覆盖有薄膜形铝电极(11),且单晶硅叉指电极(10)与铝电极(11)大小一致,铝电极(11)之间涂覆聚酰亚胺薄膜,薄膜厚度与单晶硅叉指电极(10)厚度一致。
3.根据权利要求1所述的多传感器芯片,其特征在于,所述温度传感器(7)为沿100晶向或010晶向的锯齿型电阻条。
4.根据权利要求1所述的多传感器芯片,其特征在于,所述压力传感器(9)的测量电路包括电阻Rp1,电阻Rp1与电阻Rp2、电阻Rp3和电阻Rp4组成惠斯登测量电桥。
5.根据权利要求1所述的多传感器芯片,其特征在于,所述Y方向加速度测量电路(8)包括电阻Ry1,电阻Ry1与电阻Ry2、电阻Ry3和电阻Ry4组成惠斯登测量电桥。
6.根据权利要求1所述的多传感器芯片,其特征在于,所述X方向加速度测量电路(5)包括电阻Rx1,电阻Rx1与电阻Rx2、电阻Rx3和电阻Rx4组成惠斯登测量电桥。
7.根据权利要求1所述的多传感器芯片,其特征在于,所述Z方向加速度测量电路(6)包括电阻Rz1,电阻Rz1与电阻Rz2、电阻Rz3和电阻Rz4组成惠斯登测量电桥。
全文摘要
基于SOI技术集成多传感器芯片,包括硅膜,硅膜与玻璃底座在真空环境下通过静电键合结合,中间形成相对独立的真空环境,硅膜的岛结构下端固定有重锤,硅膜的岛结构上集成有湿度传感器和温度传感器,硅膜上岛结构的四周集成有压力传感器和加速度传感器,加速度传感器包括Y方向加速度测量电路、X方向加速度测量电路和Z方向加速度测量电路。本发明的集成多传感器芯片采用SOI技术,将温度传感器、压力传感器、加速度传感器和湿度传感器集成在一块芯片上,用一块芯片就可得到尽量多的测量参数,而且解决了多传感器各参量之间相互干扰的问题,其体积小、重量轻,尤其在航空航天领域、军事工业领域、汽车领域以及手机行业等特定领域,具有重要的应用前景。
文档编号G01D21/02GK1664510SQ200510041809
公开日2005年9月7日 申请日期2005年3月17日 优先权日2005年3月17日
发明者赵玉龙, 蒋庄德, 赵立波 申请人:西安交通大学
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