一种硅钢片层间电阻双层叠加测试方法
【专利摘要】本发明公开了一种硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法，即两层硅钢片试样层叠并置于测试台与压头之间，测试台底面设置支撑台；拉力机上、下夹具分别抵靠压头顶面和支撑台底面并施压，上层硅钢片试样沿压头两侧折弯，使两层硅钢片试样非施压区域分离；采用两个电路夹分别夹持两层硅钢片试样两端，电路夹金属卡槽接触硅钢片试样铁基体；通过电路夹连接测试电路，分别串接电源和电流表及电压表；读出电流值和电压值，则两层硅钢片试样的层间电阻值R=（V/A）*S，S为测试区域面积。本方法方便实施硅钢片层间绝缘电阻测试，试样无需加工处理，保证施压与测试面积的一致性，避免接触电阻对测试结果的影响，提高测试的稳定性和可靠性。
【专利说明】一种硅钢片层间电阻双层叠加测试方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法。
【背景技术】
[0002]硅钢片表面涂层绝缘性能是评价硅钢片产品质量的一项重要指标。国际上通用两种方法，一种方法是Franklin法，即国际电工委员会“磁性钢片和钢带表面绝缘电阻的测定方法(IEC60404-11:1999)”。该方法通过在硅钢片单面施加规定电压，通过测量通过涂层的电流大小来测量一定面积涂层的电阻。该方法由于涉及的干扰因素较多，测试结果有较大离散性。第二种是美国标准“通过将两片绝缘涂层叠加测试层间电阻的标准方法(ASTMA937)”。其采用四端法原理，测量两片叠加的硅钢片绝缘涂层的电压降来计算两片硅钢片涂层的绝缘性能，该方法优点是更贴合硅钢片的使用情况，同时避免了接触头等产生的接触电阻对测试结果的影响。但按照ASTM A937标准规定的方法进行操作，采用一定尺寸的圆形压头对两片没有尺寸限制的硅钢片试样施加压力，硅钢片试样间压力区域以外的涂层也会因挤压而紧密接触，造成实际测试面积与理论不一致的情况，容易导致结果出现偏差，同时该测量方法较为复杂，硅钢片试样还需要一定的加工处理。
【发明内容】
[0003]本发明所要解决的技术问题是提供一种硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法，利用本方法可方便实施硅钢片层间绝缘电阻测试，硅钢片试样无需加工处理，保证硅钢片试样的施压面积与测试面积的一致性，避免接触电阻对测试结果的影响，提高测试的稳定性和可靠性。
[0004]为解决上述技术问题，本发明硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法包括如下步骤:
步骤一，上层硅钢片试样与下层硅钢片试样层叠设置，并放置于底面中部设有半球的测试台上，测试台底面设置支撑台，上层硅钢片试样顶面设置压头；
步骤二、拉力机的上夹具和下夹具分别抵靠压头顶面和支撑台底面，并通过拉力机的上夹具和下夹具对层叠设置的上层硅钢片试样和下层硅钢片试样施加50N-2000N的压力，上层硅钢片试样沿压头两侧向上折弯，使上层硅钢片试样与下层硅钢片试样非施压区域分离；
步骤三，采用两个电路夹分别夹持上层硅钢片试样和下层硅钢片试样两端的两侧面，电路夹的绝缘块两侧分别设有金属卡槽，电路夹的金属卡槽接触硅钢片两侧面的铁基体；步骤四、通过上层硅钢片试样和下层硅钢片试样两端的电路夹连接测试电路，从电路夹绝缘块两侧的金属卡槽分别引出导线，上层硅钢片试样一端与下层硅钢片试样另一端之间通过导线串接测试电源和电流表，上层硅钢片试样另一端与下层硅钢片试样一端之间通过导线串接电压表；
步骤五、通过电压表和电流表分别读出上层硅钢片试样与下层硅钢片试样受压区域涂层的电压值V和电流值A，则上层硅钢片试样与下层硅钢片试样在测试区域的层间电阻值R= (V/A)*S，其中S为测试区域面积，层间电阻值R的单位是Ω ?mm2。
[0005]进一步，压头底面两侧分别设有圆弧角，圆弧角的圆弧半径是5mm。
由于本发明硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法采用了上述技术方案，即两层硅钢片试样层叠设置并置于测试台与压头之间，测试台底面设置支撑台；拉力机的上夹具和下夹具分别抵靠压头顶面和支撑台底面，并对两层硅钢片试样施加50N-2000N的压力，上层硅钢片试样沿压头两侧向上折弯，使上层硅钢片试样与下层硅钢片试样非施压区域分离；采用两个电路夹分别夹持两层硅钢片试样的两端，电路夹的金属卡槽接触硅钢片两侧面铁基体；通过电路夹连接测试电路，分别串接测试电源和电流表及电压表；读出电压值V和电流值A，则两层硅钢片试样的层间电阻值R= (V/A)*S，其中S为测试区域面积。本方法可方便实施硅钢片层间绝缘电阻测试，硅钢片试样无需加工处理，保证硅钢片试样的施压面积与测试面积的一致性，避免接触电阻对测试结果的影响，提高测试的稳定性和可靠性。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的详细说明:
图1为本发明硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法示意图；
图2为本方法中电路夹夹持上层硅钢片试样和下层硅钢片试样的示意图；
图3为本方法中测试电路示意图。
【具体实施方式】
[0007]如图1、图2和图3所示，本发明硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法包括如下步骤:`
步骤一，上层硅钢片试样I与下层硅钢片试样2层叠设置，并放置于底面中部设有半球41的测试台4上，测试台4底面设置支撑台5，上层硅钢片试样I顶面设置压头3 ;半球41可在测试台4的槽口中活动，以保证压头3的压力均匀分布在硅钢片试样的受力区域；步骤二、拉力机的上夹具6和下夹具7分别抵靠压头3顶面和支撑台5底面，并通过拉力机的上夹具6和下夹具7对层叠设置的上层硅钢片试样I和下层硅钢片试样2施加50N-2000N的压力，上层硅钢片试样I沿压头3两侧向上折弯，使上层硅钢片试样I与下层硅钢片试样2非施压区域分离；
步骤三，采用两个电路夹8分别夹持上层硅钢片试样I和下层硅钢片试样2两端的两侧面，电路夹8的绝缘块81两侧分别设有金属卡槽82，电路夹8的金属卡槽82接触硅钢片试样两侧面的铁基体11 ;利用该电路夹8无需去除硅钢片试样表面涂层12即可连通电路，电路夹8的绝缘块81保证通电回路不受电路夹金属部分影响；
步骤四、通过上层硅钢片试样I和下层硅钢片试样2两端的电路夹8连接测试电路，从电路夹8绝缘块81两侧的金属卡槽82分别引出导线9，上层硅钢片试样I 一端与下层硅钢片试样2另一端之间通过导线串接测试电源E和电流表A，上层硅钢片试样I另一端与下层硅钢片试样2 —端之间通过导线串接电压表V ；
步骤五、通过电压表V和电流表A分别读出上层硅钢片试样I与下层硅钢片试样2受压区域涂层的电压值V和电流值A，则上层硅钢片试样I与下层硅钢片试样2在测试区域的层间电阻值R= (V/A)*S，其中S为测试区域面积，层间电阻值R的单位是Ω._2。
[0008]进一步，压头3底面两侧分别设有圆弧角31，圆弧角的圆弧半径是5_。压头3底面设置的倒角结构，保证了上层硅钢片试样I向上折弯时不至使表面涂层11受损，从而确保测试的可靠性和准确性。
[0009]本方法实施简单，操作方便，克服了传统测试方法的缺陷，通过折弯上层硅钢片试样使得压头的施压区域面积等同测试区域面积，提高了测试精度，采用与硅钢片试样两侧面铁基体接触的电路夹构建测试电路，避免对硅钢片试样的加工，消除了硅钢片试样表面涂层的接触电阻对测量过程的影响，提高了测试的稳定性和可靠性。
【权利要求】
1.一种硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法，其特征在于本方法包括如下步骤: 步骤一，上层硅钢片试样与下层硅钢片试样层叠设置，并放置于底面中部设有半球的测试台上，测试台底面设置支撑台，上层硅钢片试样顶面设置压头； 步骤二、拉力机的上夹具和下夹具分别抵靠压头顶面和支撑台底面，并通过拉力机的上夹具和下夹具对层叠设置的上层硅钢片试样和下层硅钢片试样施加50N-2000N的压力，上层硅钢片试样沿压头两侧向上折弯，使上层硅钢片试样与下层硅钢片试样非施压区域分离； 步骤三，采用两个电路夹分别夹持上层硅钢片试样和下层硅钢片试样两端的两侧面，电路夹的绝缘块两侧分别设有金属卡槽，电路夹的金属卡槽接触硅钢片两侧面的铁基体； 步骤四、通过上层硅钢片试样和下层硅钢片试样两端的电路夹连接测试电路，从电路夹绝缘块两侧的金属卡槽分别引出导线，上层硅钢片试样一端与下层硅钢片试样另一端之间通过导线串接测试电源和电流表，上层硅钢片试样另一端与下层硅钢片试样一端之间通过导线串接电压表； 步骤五、通过电压表和电流表分别读出上层硅钢片试样与下层硅钢片试样受压区域涂层的电压值V和电流值A，则上层硅钢片试样与下层硅钢片试样在测试区域的层间电阻值R= (V/A)*S，其中S为测试区域面积，层间电阻值R的单位是Ω ?mm2。
2.根据权利要求1所述的硅钢片层间绝缘电阻双层叠加测试方法，其特征在于:压头底面两侧分别设有圆弧角，圆弧角的圆弧半径是5mm。
【文档编号】G01R27/02GK103675453SQ201210356581
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2012年9月24日 优先权日:2012年9月24日
【发明者】沈杰, 施强忠, 周星, 张益
申请人:上海宝钢工业技术服务有限公司