一种具有自动清洗与自动清除功能的光离子化侦测器之改良量测系统的制作方法

本发明系有关于一种使用一挥发性气体侦测器之自动清除与自动清洗系统，其可应用于一在连续量测模式下操作的固定式光离子化侦测器(Photo-Ionization Detector, PID)。

背景技术：

光离子化侦测器(Photo-Ionization Detector, PID)是用来监测气体的装置，其可用来监测：

•工业卫生与安全

•室内空气质量

•环境污染

•无尘室空气质量

PID使用通常波长在紫外光(UV)范围的高能光子，将气体分子分解成带正电的离子。可侦测挥发性气体的典型PID由一电离室(ionization chamber)、足以电离可离子化分子(ionizable molecule)的UV灯、加速电极所用的电压源，以及能够量测电流的放大器所组成。可离子化分子会被高能光子轰炸，当这些分子吸收高能UV光时会离子化。UV光激发这些分子，造成分子暂时失去电子而形成带正电荷的离子，其可表示为：

R+ hvR++e-

其中R =可离子化分子(ionizable molecule)

hv= 光子能量(photon energy)

R+ = 可离子化分子形成的离子(parent molecule ion)

e-= 电子(electron)

在电离室内，吸收了UV光子的R+离子会由一电极收集，其中所产生的电流会与被离子化的种类呈比例关系。具有低于UV能量的离子化电位之分子可被离子化，因此所产生的电流可用来量测分析物的浓度。

以独立的检测器来说，PID将任何进入电离室而其离子化能量低于或等于灯具输出的物质都离子化。待量测的气体可能不纯，其中会有灰尘粒子或其他气体物质，而这类灰尘也会被离子化。等到PID装置已经使用一段时间，像是灰尘粒子、油粒子、焊剂、特别是在高湿度条件下的水粒子，以及长时间暴露在空气中所吸收的杂质等污染物，通常都会堆积在电离室内。这些杂质会被电极吸引然后堆积在上面。除了在电离室内、PID窗口、电极等，这些污染物与杂质通常会堆积在管内壁还有进气管。如此一来，由于杂质会干扰到电极对离子和电子的收集，挥发性气体浓度量测的准确度就会受到影响。堆积在PID窗口的污染也会降低UV光的强度，从而影响到挥发性气体浓度量测。在此情况下，使用者必须把PID拆开以清洗电极和PID窗口，将杂质移除。清洗后需要用标准零气(standard zero gas)，通常是合成空气/氮气，以及校正用气体（通常是异丁烯气体）重新校正，以确定PID组装回去后会正确操作。

美国专利号6,225,633一案揭示了一种光离子化侦测器(PID)，包含(a)一侦测器外壳，其中具有一电离室，该电离室系被设定用以让气体进出该电离室；(b)一紫外线(UV)灯，将UV光照射进电离室；(c)一置于该电离室内的离子检测器，该离子检测器包含一第一电极结构，其系电性偏压以吸引负电荷，以及一第二电极结构其系电性偏压以吸引正电荷，其中一介于该第一电极与该第二电极结构之间的电场系与该UV光行进的方向垂直，以及其中该电场系与气体流动方向垂直。

美国专利号6,734,435一案揭示了一种光离子化侦测器(PID)，包含：一控制单元，以及一气体侦测单元，用以量测一对应周围气体(ambient gas)内的挥发性气体浓度之电流，其中该气体侦测单元包含：一让周围气体流过的电离室；一离子化该电离室内的周围气体的紫外线灯；一偏压电极用以加压驱赶周围气体离子化所产生的正电荷；以及一量测电极用以加压吸引周围气体离子化所产生的正电荷，其中控制单元控制气体侦测单元，使得电离室内的周围气体的流动会间歇性地被打断，其中该UV灯将封闭的周围气体内的氧气转换为臭氧。PID更包含一耦接至电离室的容器，容器包括一含氧气体，其中该含氧气体会在电离室内的周围气体的流动被打断时被注入电离室内，因此含氧气体会被转换为臭氧。

美国专利号6959610一案揭示了一种流量组件手动清除系统，其可作为一系统，随时安装至连接差压流量组件(differential pressure flow element)的高压连结与低压链接之仪器管。该系统具有一第一清除／操作阀，连接至该高压管，以及一第二清除／操作阀，连接至该低压管。每一个清除／操作阀都是一个三向阀，具有一入口埠、一出口埠，以及一排出埠。当入口埠与压力管流体连通时，排放埠系与高压清除气体或液体源流体连通，视流体是气体还是液体而定。每一个出口埠系与一仪表归零和隔离阀的入口流体连通，而仪表归零和隔离阀的出口系与一差压计流体连通。

PID包括光学窗口所面临的污染，会降低UV强度，因此须加以克服。污染通常是在PID正常使用下，由金属原子、油膜、或灰尘粒子沉积所形成像是聚合物的涂层。用户必须常常拆解PID以清洗光学窗口。此种清洗不仅费时而且累赘。因此，较佳为提供一自行清洗的PID系统。

PID可能会因为水蒸气而产生假性读数。雨经常会影响PID的效能。高湿度可能会造成灯具起雾并影响到灵敏度。当湿度高的时候，此一情形会更明显。若有这种情形，水蒸气会影响到侦测器的灵敏度。水蒸气会对侦测器产生极大的伤害，使得侦测器发出假的警报。

在高湿度环境下，PID所产生的讯号会被压缩，衰减的原因是水，以及／或者其他具有高离子化电位(ionization potential, IP)的化合物吸收了UV灯所发出的光子，因而不会产生离子电流。如此会减少可用来离子化目标分析物的光子数目，造成读数下降。

当湿度高而湿气凝结时，问题会更加显著，也可能会发生短路、甚至造成｢假性高指数与超过范围的数值，因此湿度高会造成很多错误警报。

由于水蒸气通常是造成固定式PID误判的主要原因，许多人会使用最省成本的「挡水｣装置或过滤器，将水蒸气滤掉。然而，这种挡水装置或过滤器的过滤能力有限，通常还没到使用寿命之前就会饱和。一旦如此，水蒸气会被隔膜泵(diaphragm pump)抽进电离室，使得PID发生上述诸多问题。

技术实现要素：

本发明的一目的是提供一种在一连续／或不连续量测系统中用于一光离子化侦测器(PID)的清除与清洗功能，该PID具有一第一导管(20)，用以在一量测周期内将端口(16)的周围气体导入用以在该PID的一电离室(10)内量测，一泵(48)，一第二导管(22)用以流通埠(18)的周围空气(ambient air)，以及该PID的一清洗室(12)，其移除在周围空气内的污染物与杂质，以及一第一阀(30A)用以将埠(16)的周围气体或埠(18)的周围空气引导流入该电离室(10)，而一第二阀(30B)用以将埠(16)的清洗与过滤后的周围气体和埠(18)的周围空气排出，电离室(10)内残留的空气中污染物与杂质在该量测周期后会被端口(16)的周围气体排出，其特征在于该第一阀(30A)系被放置为，该第一导管(20)与该第二导管(22)进入该第一阀(30A)，而一出口从该第一阀(30A)连至该电离室 (10)，以及该第二阀 (30B)系被设置为连接该泵 (48)，并连至一进入空气中的流出导管，以及连至该第一导管(20)；在该第一周期的一量测周期中，在端口(16)的周围气体会因为该泵(48)的操作被抽至该电离室(10)，而在一清洗与清除周期的第二周期，端口(18)的周围空气会在该清洗室 (12)内被清洗并抽出，以排出在量测周期内因为端口(16)的周围气体离子化而在该电离室(10)的空气中所产生的杂质和污染物，并经由该第一导管(20)排至埠(16)而排放到空气中。

本发明的进一步目的是提供一种在一量测系统中用于一光离子化侦测器(PID)的清除与清洗功能，该PID具有一第一导管(20)，用以在一量测周期内将端口(16A)的周围气体导入用以在该PID的一电离室(10)内量测，一泵(48)，以及一第一阀(30A)用以将埠(16)的周围气体或埠(18)的周围空气引导流入该电离室(10)，而一第二阀(30B)用以将来自泵(48)的周围气体经由第一导管(20)导入气体埠(16A)或经由导管(26)导入气体埠(16B)。

本发明的又另一个目的是提供一种在一量测系统中用于一光离子化侦测器(PID)的清除与清洗功能，该PID具有一第一导管(20)，用以在一量测周期内将端口(16A)的周围气体导入用以在该PID的一电离室(10)内量测，一第二导管(22)用以流通周围空气(18)，以及该PID的一清洗室(12)，其移除在该周围空气内，以及流入埠(16B)的另一股周围气体的污染物与杂质，一流出导管(26)通至周围气体环境，以及一第一阀(30A)，用以让埠(16A)的周围气体或埠(18)的周围空气直接流入电离室(10)，一泵(48)，以及第二阀(30B)用以将埠(16)的清洗与过滤后的周围气体和埠(18)的周围空气排出，电离室(10)内残留的空气中污染物与杂质在该量测周期后会被端口(16)的周围气体排出，其特征在于该第一阀(30A)系被放置为，该第一导管(20)、该第二导管(22)，以及该流出导管(26)会进入该第一阀(30A)，而一出口系连至该电离室(10)，该第二阀 (30B)系被设置为一端连接泵(48)而连接至电离室(10)，而出口的一端连接至该第一导管(20)与该流出导管(26)而通至空气中；在该第一周期的一量测周期中，在端口(16A)的周围气体会因为该泵(48)的操作被抽至该电离室(10)以于埠(16B)执行量测与清除，而在一清洗与清除周期的第二周期，端口(16B)的周围空气会被泵(48)抽至电离室(10)，并于埠(16A)执行量测与清除；而在一清洗与清除周期的第三周期，其中端口(18)的周围空气会在该清洗室(12)内并清洗并抽出以透过流出导管(26)排出在该电离室(10)内于该量测周期中端口(16A, 16B)的周围气体离子化以产生的杂质与污染物；在一清洗与清除周期的第四周期，其中端口(18)的周围空气会在该清洗室(12)内并清洗并抽出以透过流出导管(26)排出在该电离室(10)内于该量测周期中端口(16)的周围气体离子化以产生的杂质与污染物。

本发明的又另一个目的是提供一种在一量测系统中用于一光离子化侦测器(PID)的清除与清洗功能，该PID具有一第一导管(20)，用以在一量测周期内将端口(16A)的周围气体导入用以在该PID的一电离室(10)内量测，一泵(48)，一第二导管(22)用以流通埠(18)的周围空气，以及该PID的一清洗室(12)，其移除在该周围空气内，以及流入埠(16B)的另一股周围气体的污染物与杂质，以及一第一阀(30A)，用以引导埠(16A)的周围气体或埠(18)的周围空气排出至该第二阀(30B)，而该第二阀(30B)系与该第三阀(30C)连接，出口连至该电离室(10)，该第三阀(30C)系连接至该流出导管(26)与该第二导管(22)，用以引导埠(18)的周围空气，以及一第四阀(30D)用以引导来自该泵(48)的气体并经由埠(16A)或埠(16B)排出至空气中，其特征在于该第一阀(30A)系被设置为该第一导管(20)与该第二导管(22)进入该第一阀(30A)，其出口系连结至该第二阀(30B)，而该第三阀(30C)系连接至该流出导管(26)与该第二导管(22)，而其出口系连接至该第二阀(30B)，另一端则连接至该电离室(10)，该第四阀(30D)系被设置为其一端为该泵(48)，一端出口连接至该第一导管(20)，以及另一端连接至该流出导管(26)而通至空气中；在该第一周期，系执行量测与清除，而在该第二周期，系执行清洗与清除，而在该第三周期，系执行量测与清除，在该第四周期，系执行清洗与清除。

本发明的又另一个目的是提供一种在一量测系统中用于一光离子化侦测器(PID)的清除与清洗功能，其特征在于具有一周围气体埠(16A)经由一第一导管(20)接入，一气体埠(16B)经由一流出导管(26)而排出，一第一阀(30A)，一第二导管(22)用以流动埠(18)的周围空气，以及该PID 的清洗室(12)，其移除在周围空气的污染物与杂质，一第二阀(30B)，一电离室(10)，一泵(48)以透过流出导管(26)排出埠(16B)的周围气体，其特征在于该第一阀(30A)系被设置为该第一导管(20)与该流出导管(26)系进入该第一阀(30A)，出口系连结至一第二阀(30B)，该第二阀(30B)系连结至来自清洗室(12)的第二导管(22)，其出口系连结至电离室(10)，以及该泵(48)，而该第三阀(30C)系被设置为一端连接至该泵(48)并具有一端出口连至第一导管(20)，另一端出口连接至该流出导管(26)而通至空气中；在该第一周期，系执行量测与清除，而在该第二周期，系执行另一量测与清除，而在该第三周期，系执行清洗与清除，在该第四周期，系执行另一清洗与清除。

附图说明

图1A所示为根据本发明的一使用光离子化侦测器(PID)的清除与清洗系统在第一周期内让端口(16)的周围气体流入以便量测的操作方块图；

图1B所示為根据本发明的使用光离子化侦测器(PID)的清除与清洗系统在第二周期内让端口(18)的周围气体流入以便清除与清洗埠(16)的操作方块图；

图2A所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期内端口(16A)的周围气体在量测并从埠(16B)清除时流动之方块图；

图2B所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第二周期内端口(16B)的周围气体在连续量测并从埠(16A)清除时流动之方块图；

图3A所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期的操作中端口(16A)的周围气体在量测与清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀；

图3B所示为根据本发明的PID在第二周期的操作中周围气体在埠(16B)被量测与在埠(16A)被清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀。

图3C所示为根据本发明的PID在第三周期的操作中端口(18)的周围气体被量测与在埠(16A)被清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀。

图3D所示为根据本发明的PID在重复周期的操作中端口(18)的周围气体被量测与在埠(16B)被清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀。

图4A的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期的操作中周围气体在埠(16A)被量测与在埠(16B)被清除时的流动；

图4B的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第二周期的操作中周围气体在埠(18)被清洗与在埠(16A)被清除时的流动；

图4C的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第三周期的操作中周围气体在埠(16B)被量测与在埠(16A)被清除时的流动；

图4D的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第四周期的操作中周围气体在埠(18)被清洗与在埠(16B)被清除时的流动；

图5A的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期的操作中周围气体在埠(16A)被量测与在埠(16B)被清除时的流动；

图5B的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第二周期的操作中周围气体在埠(16B)被量测与在埠(16A)被清除时的流动；

图5C的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第三周期的操作中周围气体在埠(18)被清洗与在埠(16A)被清除时的流动；以及

图5D的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第四周期的操作中周围气体在埠(18)被清洗与在埠(16B)被清除时的流动。

具体实施方式

图标中相近的组件系以相似的参考标号表示。

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。熟知此技艺者应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，但并不用于限定本发明。

参考图1A，图中所示为根据本发明的一使用光离子化侦测器(PID)的清除与清洗系统(purging and cleaning system)在第一周期的操作，端口(16)的周围气体流入以便量测。此一清除与清洗系统的特点在于采用2个3:2阀(30A, 30B)，并使用第一导管(first conduit) (20)与流出导管(outflow conduit)(26)以控制和调节周围气体／或周围空气的流动。埠(16)的周围气体经过第一导管(20)会被量测，接着进入PID的电离室(ionization chamber) (10)，而不会经过清洗室(cleaning chamber)(12)。本发明的清除与清洗系统包含2或更多个阀、第一导管(20)以及流出导管(26)，一连结至周围空气入口的清洗室(12)，以及用以流动周围空气(18)的第二导管(second conduit)(22)。PID的电离室(10)移除周围空气内的污染物与杂质，以及第一阀(30A)用来将埠(16)的周围气体或埠(18)的周围空气引进电离室(10)，而第二阀(30B)在量测周期后将端口(16)的周围气体遗留在电离室(10)的污染物和杂质，以清洗与过滤后的周围气体 (16)与埠(18)周围空气排出。根据本发明的较佳实施例，第一阀系被设置为第一导管(20)与第二导管(22)进入第一阀(30A)，而一出口从第一阀(30A)连至电离室 (10)，以及第二阀 (30B)系被设置为一入口连接泵(48)，并连至流出导管(26)以进入空气中，以及连至该第一导管(20)。如图1A所示，在第一周期的量测周期中，端口(16)的周围气体会因泵(48)的操作而通过电离室(10)，而PID会完成埠(16)的周围气体的量测，而在第二周期（如图1B所示），其为清洗与清除周期，端口(18)的周围空气会在清洗室(12)被清洗然后被抽出以排出PID的电离室(10)内因为埠(16)的周围气体在量测周期中离子化所产生的杂质和污染物。第一周期与第二周期的量测程序与清洗与清除程序是交替进行的。

在第一周期的量测程序与第二周期的清洗与清除程序中，PID的特征为采用2个3:2阀，而第一个3:2阀(30A)系用以将埠(16)的周围气体或埠(18)的周围空气引进电离室(10)。第二阀(30B)也是3:2阀，在量测周期后将端口(16)的周围气体遗留在电离室(10)的污染物和杂质，以清洗与过滤后的周围气体 (16)与埠(18)周围空气透过第一导管(20)在埠(16)排出。根据本发明，周围空气(18)是在清洗室(12)清洗，而电离室(10)是在PID操作的第二周期进行清除。

图2A所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在每一周期内端口(16A)的周围气体在量测和清除时流动之方块图，而图2A所示为根据本发明的PID在交替的流程中端口(16B)的周围气体在量测和清除时流动之方块图。在此一较佳实施例中，PID的清除与持续量测包含2个周围气体埠(16A, 16B)，一第一导管(20)与一流出导管(26)，第一阀(30A)，以及一第二阀(30B)，一电离室(10)，以及泵(48)。第一阀(30A)系连结至第一导管(20)与流出导管(26)，以及电离室(10)，后者连接至泵(48)。第二阀(30B)连接至泵(48)，而第二阀(30B)的出口系连接至第一导管(20)与流出导管(26)，而接至周围气体埠(16B)。

在操作中，如图2A所示，周围气体埠(16A)经由第一导管(20)与第一阀(30A)而连至电离室(10)，由PID进行量测，周围气体通过第二阀(30B)并经由流出导管(26)到清除埠(16B)。参考图2B，埠(16B)的周围气体会通过导管(26)与第一阀(30A)而到电离室(10)，接着经由泵48与第二阀(30B)还有第一导管(20)以清除埠(16A) 的入口的周围气体。此系统的流程会交替进行，使得PID在每一周期都会连续量测与清除。

在图中的较佳实施例，系采用2个3:2阀，而在此操作中并没有进行清洗流程。

图3A所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期的操作中端口(16A)的周围气体在量测与清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀。图3B所示为根据本发明的PID在第二周期的操作中端口(16B)的周围气体在量测与清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀。图3C所示为根据本发明的PID在第三周期的操作中端口(18)的周围气体经由清洗室(12)而被量测与清除时的流动，其中系采用2个阀(4:3与3:2)，或多种的阀。

在此较佳实施例中，系采用2个阀(4:3与3:2) (30A, 30B)。根据本发明的系统提供量测、清洗与双清除效果。如图3A所示，在量测与清除操作的第一周期，系统包含依第一周围气体埠(16A)与一气体埠(16B)，以及连结至一清洗室(12)的周围空气埠(18)。第一阀(30A)系连接至第一导管(20)而连结周围气体埠(16)，清洗室(12)连结周围气体埠(18)，以及第二导管(26)连结至气体埠(16B)。第一阀(30A)同时连接至电离室(10)。第二阀(30B)连接至第一导管(20)与第二导管(26)，以及泵(48)。

在操作中，埠(16A)的周围气体通过第一导管(20)与阀(30A)以进行量测与清除，其中气体之后会通过第二阀(30B)经由流出导管(26)以清除周围气体(16B)的入口。换句话说，在PID的第一周期，是完成量测与清除埠(16A)的周围气体。在第二周期，端口(16B)的周围气体经由流出导管(26)与第一阀(30A)进入，以完成量测与清除。埠(16B)的周围气体会在电离室(10)被量测，然后经由第一导管(20)清除周围气体埠(16A)，如图3B所示。

参考图3C，其中所示为根据本发明的PID 在第三周期中端口(18)的周围空气被清洗与清除的方块图。在第三周期，周围空气(18)通过清洗室(12)而被清洗。被清洗的空气通过清洗室(12)与第一阀(30A)进入电离室(10)，然后经过泵(48)，以及第二阀(30B)和第一导管(20)，以清除周围气体埠(16A)。因此，在第三周期的操作中，会执行清洗与清除。参考图3D，其为系统操作的第四周期，在此周期会执行清洗与清除流程。在此较佳实施例中，第一阀(30A)系连接至导管(22)而连结至清洗室(12)，流出导管(26)连接至气体埠(16B)以及电离室(10)。第二阀(30B)系连接至泵(48)与流出导管(26)。因此，在第四周期操作中，系执行清除与清洗。

此一配置的成果是在第一周期与第二周期执行量测与清除，而在第三与第四周期执行清洗与清除，接着流程会重复。

图4A的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期的操作中端口(16A)的周围气体在量测与清除时的流动。图4B所示为根据本发明的PID 在第二周期中端口(18)的周围空气被清洗与清除的方块图。图4C的方块图所示为根据本发明的PID在第三周期的操作中端口(16B)的周围气体在量测与清除时的流动。图4D所示为根据本发明的PID 在第四周期中端口(18)的周围空气被清洗与清除的方块图。

在此较佳实施例中，系采用复数个，比如说4个3:2阀，4个阀(30A、30B、30C，及30D)都是相同的。如图4A所示，第一阀(30A)连结至第二阀(30B)，第三阀(30C)也连结至第二阀(30B)。第一阀 (30A)的一个埠系连结至第一导管(20)，而另一埠系连结至清洗室(12)。第三阀(30C)的一个埠系连结至流出导管(26)，而另一埠系连结至清洗室(12)，又另一埠则是连结至第二阀(30B)。

图4A的方块图所示为根据本发明的PID在第一周期的操作中端口(16A)的周围气体在量测与清除时的流动。埠(16A)的周围气体进入第一导管(20)与第一阀(30A)、第二阀(30B)，一路通至电离室(10)，然后由泵(48)透过流出导管(26)抽出以清除埠(16B)的周围气体。在第一周期中，端口(16A)的周围气体在埠(16B)被量测与清除。

图4B所示为根据本发明的PID 在第二周期的方块图。在第二周期，周围空气通过端口(18)而进至清洗室(12)，周围空气会被清洗，然后被清洗的空气会通过第一阀(30A)到第二阀(30B)，然后流至电离室(10)而被抽出，通过第四阀(30D)至第一导管(20)，并于周围气体埠(16A)被排出。在第二周期，周围空气在清洗室(12)会被清洗，然后用来清除埠(16A)的周围气体。

图4C的方块图所示为根据本发明的PID 在第三周期中周围气体在量测与清除时的流动。在此周期中，端口(16B)的周围气体通过流出导管(26)到第三阀(30C)，然后流至第二阀(30B)。周围气体接着通过电离室(10)，然后被抽出至第一导管(20)，在埠(16A)被排放。换句话说，在第三周期，系执行量测与清除。

图4D的方块图所示为根据本发明的PID 在第四周期中周围空气在清洗与清除时的流动。埠(18)的周围空气流进并于清洗室(12)被清洗，接着通过第三阀(30C)而到达第二阀(30B)；被清洗的空气进入电离室(10)并经由第四阀(30D)被抽出以于流出导管(26)排放。在此较佳实施例中，第一周期系执行量测与清除，而第二周期则执行清洗与清除。

以第一与第三周期来说，系执行量测与清除流程，而在第二和第四周期，系执行清洗与清除流程。这些流程会依序重复，因此，较佳实施例的PID一直都会有清除流程。

图5A的方块图所示为根据本发明的光离子化侦测器(PID)在第一周期的操作中端口(16A)的周围气体在量测与清除时的流动。图5B的方块图所示为根据本发明的PID 在第二周期中端口(16B)的周围气体在量测与清除时的流动。图5C的方块图所示为根据本发明的PID在第三周期的操作中端口(18)的周围空气在清洗与清除时的流动。图5D的方块图所示为根据本发明的PID 在第四周期中端口(18)的周围空气在清洗与清除时的流动。

在此较佳实施例中，系采用复数个，比如说3个3:2阀，3个阀(30A、30B，及30C，及30D)都是相同的。如图5A所示，第一阀(30A)被设置为第一导管(20)与流出导管(26)系进入第一阀(30A)，出口系连结至第二阀(30B)，而第二阀(30B)系连结至导管(22)而通往清洗室(12)，第二阀(30B)出口系连结至电离室(10)，接着连接泵(48)，第三阀(30C)系被设置为泵(48)连接至其中一端，一端出口为第一导管(20)，而另一端出口为流出导管(26)并通往空气中。

参考图5A，周围气体(16A)通过第一导管(20)与第一阀(30A)，以及第二阀(30B)，一路到达电离室(10)，并被泵(48)透过流出导管(26)抽出以于周围气体埠(16B)排出。在第一周期的流程中，端口(16A) 的周围气体会被量测而于埠(16B)排出。图5B所示为根据本发明的第二周期的流程。在第二周期，端口(16B)的周围气体通过流出导管(26)到第一阀 (30A)与第二阀(30B)，一路到达电离室(10)，并被泵(48)透过第一导管(20)抽出以清除埠(16A)的周围气体。参考图5C，其中所示为根据本发明的第三流程。周围空气通过埠(18)到清洗室(12)，其中周围空气会被清洗，接着被清洗的空气会通过第二阀(30B)而到达电离室(10)，然后被泵(48)透过第三阀(30C)抽出至第一导管(20)并清除埠(16A)的周围气体。换句话说，在第三周期，系执行量测与清除。

图5D的方块图所示为根据本发明的PID 在第四周期中端口(18)的周围空气在清洗与清除时的流动。埠(18)的周围空气流入并于清洗室(12)被清洗，然后通过第二阀(30B)而到达电离室(10)，并被泵(48)透过第三阀(30C)抽出至流出导管(26)并清除埠(16B)的周围气体。在此较佳实施例中，本发明的所有4个周期都会执行清除流程。

以上该仅为本发明之较佳实施例，并非用来限定本发明之实施范围；如果不脱离本发明之精神和范围，对本发明进行修改或者等同替换，均应涵盖在本发明申请专利范围的保护范围当中。