技术总结
本实用新型公开了一种定位基站和定位系统，该定位基站包括：底座；第一旋转轴，设置于所述底座上的第一位置，所述第一旋转轴上设置有第一激光扫描器和第二激光扫描器；第二旋转轴，设置于所底座上的第二位置，所述第二旋转轴上至少设置有第三激光扫描器。由于采用了在定位基站上设置两个旋转轴，并且在两个旋转轴上分别设置两个和一个激光扫描器的技术方案，利用了光沿直线传播的特性，根据三个激光扫描信号来确定定位终端相对于定位基站的位置，由于激光扫描定位的精度在毫米级，并且定位速度都在毫秒级，所以定位速度较快且定位结果精度较高，因此实现了快速和精准地实现空间定位的技术效果。
技术研发人员：李小虎;张超;冯洲
受保护的技术使用者：成都理想境界科技有限公司
文档号码：201621196377
技术研发日：2016.10.28
技术公布日：2017.06.06