多的测量波长(例如数十个测量波长)实施测量。在该情况下，对测量对象在多个测量波长进行上述的预备曝光，或在每次改变测量对象时进行预备曝光，与在数个左右的波长进行测量的情况相比，预备曝光所耗费的时间变长。因此，如本发明那样，在不需要进行预备曝光的结构中，在使用法布里佩罗滤波器的情况下，能够进一步实现测量时间的缩短。
[0039]本发明的分光测量方法是分光测量装置中的分光测量方法，所述分光装置具备:从入射光选择性地出射规定的波长的光且可改变出射的光的波长的分光元件，通过曝光从所述分光元件出射的光输出与曝光量对应的检测信号的受光元件，以及获取所述检测信号并进行处理的处理部，其特征在于，对多个所述波长分别获取所述曝光量不同的多个检测信号，选择获取的多个所述检测信号中信号电平小于与所述受光元件的饱和曝光量对应的最大信号电平且最大的检测信号。
[0040]在本发明中，与上述分光测量装置的发明同样，选择对各波长获取的与多个曝光量对应的检测信号中的、不超过最大信号电平且信号电平最大的检测信号。
[0041]另外，如上所述，不需要按每个测量对象对各波长进行预备曝光，故能缩短测量时间。而且，不需要进行预备曝光，故在改变测量对象并连续进行测量的情况下，也能进一步地缩短测量时间。
【附图说明】
[0042]图1是示出本发明的第一实施方式的分光测量装置的概略结构的框图。
[0043]图2是示出上述实施方式的波长可变干涉滤波器的概略结构的平面图。
[0044]图3是示出上述实施方式的波长可变干涉滤波器的概略结构的截面图。
[0045]图4是示出曝光时间和检测信号的关系的一个例子的曲线图。
[0046]图5的㈧和⑶是示出对多个曝光时间的测量波长和检测信号的关系的一个例子的曲线图。
[0047]图6是示出上述实施方式的分光测量处理的流程图。
[0048]图7是示意性地示出曝光时间和检测信号的关系的曲线图。
[0049]图8是示出本发明的第二实施方式的分光测量装置的概略结构的框图。
[0050]图9是示意性地示出上述实施方式的受光元件的一个像素的结构的图。
[0051]图10的㈧和⑶是示意性地示出曝光时间和检测信号的关系的曲线图。
[0052]图11是示出上述实施方式的分光测量处理的流程图。
【具体实施方式】
[0053](第一实施方式)
[0054]以下，基于【附图说明】本发明的第一实施方式。
[0055](分光测量装置的结构)
[0056]图1是示出本发明的分光测量装置的概略结构的框图。
[0057]分光测量装置I是分析在测量对象X反射的测量对象光中的各波长的光强度并测量分光光谱的装置。此外，在本实施方式中，示出测量在测量对象X反射的测量对象光的例子，但作为测量对象X，也可例如在使用液晶面板等的发光体时，将从该发光体发出的光作为测量对象光。
[0058]而且，该分光测量装置1，如图1所示，具备光学模块10，以及控制光学模块10并处理从该光学模块10输出的信号的控制部20。
[0059](光学模块的结构)
[0060]光学模块10具备波长可变干涉滤波器5，受光元件11，检测信号处理部12，电压控制部13，以及受光控制部14。
[0061]该光学模块10使在测量对象X反射的测量对象光通过入射光学系统(省略图示)，导向波长可变干涉滤波器5，在受光元件11接收透过波长可变干涉滤波器5的光。然后，从受光元件11输出的检测信号，经由检测信号处理部12向控制部20输出。
[0062](波长可变干涉滤波器的结构)
[0063]图2是示出波长可变干涉滤波器的概略结构的平面图。图3是对图2的III 一III线取截面时的波长可变干涉滤波器的截面图。
[0064]波长可变干涉滤波器5是波长可变型的法布里佩罗标准具。该波长可变干涉滤波器5例如是矩形板状的光学部件，具备厚度尺寸例如形成为500 μ m左右的固定基板51，以及厚度尺寸形成为例如200 μ m左右的可动基板52。这些固定基板51及可动基板52分别由例如钠玻璃、结晶性玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃等的各种玻璃或石英等形成。而且，这些固定基板51及可动基板52如下地整体地构成:利用例如由硅氧烷为主成分的等离子体聚合膜等构成的接合膜53 (第一接合膜531及第二接合膜532)接合固定基板51的第一接合部513及可动基板的第二接合部523。
[0065]在固定基板51设置固定反射膜54，在可动基板52设置可动反射膜55。这些固定反射膜54及可动反射膜55经由间隙Gl对置配置。而且，在波长可变干涉滤波器5，设置用于调整(改变)该间隙Gl的尺寸的静电致动器56。
[0066]另外，在从固定基板51 (可动基板52)的基板厚度方向看波长可变干涉滤波器5的如图2所示的俯视(以后，称为滤波器俯视)下，固定基板51及可动基板52的平面中心点O与固定反射膜54及可动反射膜55的中心点一致，且与后述的可动部521的中心点一致。
[0067](固定基板的结构)
[0068]在固定基板51利用蚀刻形成电极配置槽511及反射膜设置部512。该固定基板51相对可动基板52而言，形成为厚度尺寸较大，使得没有向固定电极561及可动电极562间施加电压时的静电引力，或因固定电极561的内部应力导致的固定基板51的挠曲。
[0069]另外，在固定基板51的顶点Cl形成切口部514，在波长可变干涉滤波器5的固定基板51侧，露出后述的可动电极垫564P。
[0070]电极配置槽511形成为在滤波器俯视下以固定基板51的平面中心点O为中心的环状。反射膜设置部512形成为在所述俯视从电极配置槽511的中心部向可动基板52侧突出。该电极配置槽511的槽底面成为配置有固定电极561的电极设置面511A。另外，反射膜设置部512的突出前端面成为反射膜设置面512A。
[0071]另外，在固定基板51设置从电极配置槽511向固定基板51的外周边的顶点Cl、顶点C2延展的电极引出槽511B。
[0072]在电极配置槽511的电极设置面51IA设置构成静电致动器56的固定电极561。更具体而言，固定电极561设置在电极设置面511A中、与后述的可动部521的可动电极562对置的区域。另外，也可米用在固定电极561上层叠用于确保固定电极561及可动电极562的间的绝缘性的绝缘膜的结构。
[0073]而且，在固定基板51设置从固定电极561的外周边向顶点C2方向延展的固定引出电极563。该固定引出电极563的延展前端部(位于固定基板51的顶点C2的部分)构成与电压控制部13连接的固定电极垫563P。
[0074]此外，在本实施方式中，示出在电极设置面51IA设置一个固定电极561的结构，但例如，也可采用设置作为以平面中心点O为中心的同心圆的两个电极的结构(二重电极结构)等。
[0075]反射膜设置部512,如上所述,具备反射膜设置面512A,其在与电极配置槽511相同的轴上，形成为直径尺寸比电极配置槽511小的近似圆柱状，并与该反射膜设置部512的可动基板52对置。
[0076]如图3所示，在该反射膜设置部512设置固定反射膜54。作为该固定反射膜54，例如能够使用Ag等的金属膜、Ag合金等的合金膜。另外，例如也可使用设高折射层为Ti02、低折射层为S12的电介质多层膜。而且，也可使用在电介质多层膜上层叠金属膜(或合金膜)的反射膜，或在金属膜(或合金膜)上层叠电介质多层膜的反射膜，或层叠单层的折射层(1102、5102等)和金属膜(或合金膜)的反射膜等。
[0077]另外，在固定基板51的光入射面(未设置固定反射膜54的面)，也可在与固定反射膜54对应的位置形成反射防止膜。该反射防止膜能通过交替层叠低折射率膜及高折射率膜而形成，降低在固定基板51的表面的可见光的反射率，并增大透过率。
[0078]而且，与固定基板51的可动基板52对置的面中的、未利用蚀刻形成电极配置槽511、反射膜设置部512及电极引出槽511B的面，构成第一接合部513。在该第一接合部513设置第一接合膜531，该第一接合膜531通过与设置在可动基板52的第二接合膜532接合，如上所述，接合固定基板51及可动基板52。
[0079](可动基板的结构)
[0080]在图2所示的滤波器俯视中，可动基板52具备:以平面中心点O为中心的圆形状的可动部521，与可动部521同轴并保持可动部521的保持部522，设于保持部522的外侧的基板外周部525。
[0081]另外，在可动基板52，如图2所示那样，与顶点C2对应地形成切口部524，在从可动基板52侧观察波长可变干涉滤波器5时，露出固定电极垫563P。
[0082]可动部521形成为厚度尺寸比保持部522大，例如，在本实施方式中，形成为与可动基板52的厚度尺寸为相同尺寸。该可动部521在滤波器俯视下，形成为至少比反射膜设置面512A的外周边的直径尺寸大的直径尺寸。而且，在该可动部521设置可动电极562及可动反射膜55。
[0083]此外，与固定基板51同样，也可在可动部521的固定基板51的相反侧的面，形成反射防止膜。这样的反射防止膜能通过交替地层叠低折射率膜及高折射率膜而形成，降低在可动基板52的表面的可见光的反射率，并增大透过率。
[0084]可动电极562经由间隙G2与固定电极561对置,并形成与固定电极561为相同形状的环状。该可动电极562与固定电极561—起构成静电致动器56。另外,在可动基板52,具备从可动电极562的外周边向可动基板52的顶点Cl延展的可动引出电极564。该可动引出电极564的延展前端部(位于可动基板52的顶点Cl的部分)构成与电压控制部13连接的可动电极垫564P。
[0085]可动反射膜55在可动部521的可动面521A的中心部，隔着间隙