晶圆作业控制系统的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种晶圆作业控制系统，所述系统包括存储模块和执行模块；所述存储模块储存有各批次晶圆进行生产工艺时需要经过的腔室顺序；其中一批次晶圆在进入一反应腔室进行生产工艺时，所述执行模块读取存储模块中储存该批次晶圆需要经过腔室的顺序并执行该操作，使得该批次晶圆分别在不同的腔室内完成所有的生产工序。技术人员通过本发明根据电学性能检测结果可很快判断出问题腔室所在及相应的生产设备，极大提高了发现问题工序的效率，同时还可根据实际情况及时调整各腔室内的工艺顺序，以适应各种生产情况。
【专利说明】晶圆作业控制系统
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制备领域，确切的说，具体涉及一种晶圆作业控制系统。
【背景技术】
[0002]先进的集成电路制造工艺一般都包含几百步的工序，任何环节的微小错误都将导致整个芯片的失效，特别是随着电路关键尺寸的不断缩小，其对工艺控制的要求就越严格，所以在生产过程中为能及时的发现和解决问题都配置有光学和电子的缺陷检测设备和电学新能的检测设备以确保产品的质量。
[0003]如图1是一个完整制造工艺流程的一部分，分别包含有工艺、量测、缺陷检测等，但是因为在线检测都是抽样进行，例如产品参数的测试是在一些特定测试结构上进行，缺陷的检测也只是针对部分的产品的部分晶圆进行抽检，所以往往会在产品进行最终的电学功能测试时才会发现有失效晶圆的现象。针对这类的问题如果需要找到生产线上有问题的工艺步骤和设备是相对比较困难的，因为在一条生产线上有几百台设备，而且这种具有4个腔室作业的设备也同样有几十台以上，同时晶圆在腔室里作业的顺序都是一样的，这样就会给查找原因的工程师带了非常大的工作量；同时在生产线上，如果没有及时发现生产线上存在的问题而设备又继续运作的话，会严重影响后续的生产，导致产品整体的良率下降，同时也不能很好的对存在问题的相关设备和步骤进行排查。
【权利要求】
1.一种晶圆作业控制系统，其特征在于，所述系统包括存储模块和执行模块； 所述存储模块储存有各批次晶圆进行生产工艺时需要经过的腔室顺序； 其中一批次晶圆在进入一反应腔室进行生产工艺时，所述执行模块读取存储模块中储存该批次晶圆需要经过腔室的顺序并执行该操作，使得该批次晶圆分别在不同的腔室内完成所有的生产工序。
2.如权利要求1所述的晶圆作业控制系统，其特征在于，所述存储模块包括有一可编辑单元，所述可编辑单元用于对存储模块内储存各批次晶圆进行生产工艺时经过的腔室顺序根据工艺需要进行调整。
3.如权利要求1所述的晶圆作业控制系统，其特征在于，每个所述反应腔室均包括若干台生产设备； 其中，同一腔室内包括的各台生产设备用于对晶圆进行不同的工序。
4.如权利要求3所述的晶圆作业控制系统，其特征在于，各所述反应腔室内包括有部分或全部相同的生产设备。
5.如权利要求1所述的晶圆作业控制系统，其特征在于，部分或全部批次晶圆经过的腔室顺序不同。
6.如权利要求1所述的晶圆作业控制系统，其特征在于，所述晶圆作业控制系统至少控制两个批次晶圆所需要经过的反应腔室顺序。
【文档编号】G05B19/418GK103645692SQ201310613051
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年11月26日 优先权日:2013年11月26日
【发明者】倪棋梁, 陈宏璘, 龙吟 申请人:上海华力微电子有限公司