一种高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源的制作方法

文档序号:18641630发布日期:2019-09-11 23:26阅读:517来源:国知局
一种高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源的制作方法

本发明属于电子技术领域,尤其涉及一种高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源。



背景技术:

现有技术的耗尽型参考电压源结构主要采用一个耗尽型nmos管m11和一个增强型nmos管m12串联组成,由于采用标准的cmos工艺制备,耗尽型nmos管m11的衬底只能接地,所以会有体效应。工艺角发生变化时,器件的仿真参数会有所区别。当器件体效应很显著时会导致耗尽型nmos管m11的阈值电压发生改变,在供电电压不改变的情况下,对耗尽型nmos管m11的导通效果会有影响,使源级输出电压改变。在温度范围不变的情况下影响到输出vref的温度系数。由于输出电压的变化影响,使电源纹波抑制比不好。



技术实现要素:

本发明要解决的技术问题是:提供一种高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源,以解决现有技术的耗尽型参考电压源结构在工艺角发生变化时,体效应会影响到输出vref的温度系数,且电源纹波抑制比不好等技术问题。

本发明技术方案:

一种高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源,它包括:耗尽型nmos管m1;增强型nmos管m2和m3;增强型pmos管m4和m5,m1的栅级和源级接vss;m1的漏级与m4的漏级和栅级相连接;m2的源级与vss连接;m2的栅级与m3的源级和电阻r1、r2串联电路相连接;电阻r2下端接vss,上端与r1下端相连接;m2的漏级与m3的栅级、m5的漏级相连接;m3的漏级与电源vcc连接;m4的源级、m5的源级与电源vcc连接;m5的栅级与m4的栅级和漏级相连接;输出vref接到电阻r1、r2之间,电阻r1、r2为可调电阻。

所述增强型nmos管m3替换为耗尽型nmos管。

它还包括耗尽型nmos管m6;m6的源级与地连接;m6的栅级和漏级相连且与m2的源级相连接。

耗尽型nmos管m10,增强型pmos管m7、m8和m9,电容c1和c2;m2的漏级与m5漏级、m3栅级和m7栅级相连接;电阻r1、r2串联,r2下端接vss,输出vref接在r1、r2中间;m3源级与vreg相连;m和m5的源级与verg相连;m5的栅级与m4的栅级和漏级相连接;m6的源级接vss;m7的漏级接vss;m7的源级与vreg相连;m8漏级接vreg;m8和m9的源级接vcc;m8的栅级与m9的栅级和漏级相连接;m10的源级和栅级与vss相连;m10的漏级与m9的栅级和漏级相连;电容c1下级板接vss,上级板接vreg;电容c2下级板接vss,上级板与m7的栅级、m5的漏级、m3的栅级和m2的漏级相连接。

本发明的有益效果:

本发明与现有技术的耗尽型参考电压源结构相比有以下优点:

通过对参考电压源结构的改进,降低了电源电压vcc变化对输出电压的影响。提高了输出vref的电源纹波抑制比;

通过增加mos管进行温度系数补偿,降低了工艺角变化对输出vref温度系数的影响。

电容c1的增加,提高了vref的高频输入电压纹波抑制比。

解决了现有技术的耗尽型参考电压源结构在工艺角发生变化时,体效应会影响到输出vref的温度系数,且电源纹波抑制比不好等技术问题。

附图说明

图1为现有技术的耗尽型参考电压源结构示意图;

图2为具体实施例1结构示意图;

图3为具体实施例2结构示意图;

图4为具体实施例3结构示意图;

图5为具体实施例4结构示意图。

具体实施方式:

具体实施例1:

一种高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源:

m1为耗尽型nmos;m2,m3为增强型nmos;m4,m5为增强型pmos。消除了体效应对输出vref温度系数的影响,同时可以通过修调r1的值来保证输出vref的精度。

在连接方式上mos管m1的栅级和源级接vss;mos管m1的漏级与mos管m4的漏级和栅级相连接;mos管m2的源级与vss连接;mos管m2的栅级与mos管m3的源级和电阻r1、r2串联电路相连接;电阻r2下端接vss,上端与r1下端相连接;mos管m2的漏级与mos管m3的栅级、mos管m5的漏级相连接;mos管m3的漏级与电源vcc连接;mos管m4的源级、mos管m5的源级与电源vcc连接;mos管m5的栅级与mos管的m4的栅级和漏级相连接;输出vref接到电阻r1、r2之间。

具体实施例2:

一种改进的高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源:

和具体实施例1的区别在于mos管m3为耗尽型nmos,拓宽了该电路的最低工作电压。

具体实施例3:

一种改进的高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源:

m1为耗尽型nmos;m2为增强型nmos;m3为耗尽型nmos;m4,m5为增强型pmos。在结构2的基础上增加一耗尽型nmosm6。当工艺角发生变化时,输出vref的温度系数会由于m1阈值电压的变化而改变,由于m1和m6均为耗尽型nmos,会对输出vref的温度系数进行补偿,降低了工艺角变化对输出vref温度系数的影响。

在连接方式上mos管m1的栅级和源级接地;mos管m1的漏级与mos管m4的漏级和栅级相连接;mos管m6的源级与地连接;mos管m6的栅级和漏级相连且与mos管m2的源级相连接;mos管m2的栅级与mos管m3的源级和r1、r2串联的串联电路相连接;电阻r2下端接vss,上端与r1下端相连接;mos管m2的漏级与mos管m3的栅级和mos管m5漏级相连接;mos管m4的源级和mos管m5的源级与电源vcc相连接;mos管m5的栅级与mos管m4的栅级和漏级相连接;mos管m3的源级与电源电压vcc相连接;输出vref接到电阻r1、r2之间。

具体实施例4:

一种改进的高电源纹波抑制比的耗尽型参考电压源:

m1为耗尽型nmos;m2为增强型nmos;m3为耗尽型nmos;m4,m5为增强型pmos;m6为耗尽型nmos。m10为耗尽型nmos,m7,m8,m9为增强型pmos,c1、c2为电容。vreg=(1+r1/r2)*vref+vgs(m3)+vgs(m7),不随vcc的变化而变化;由于m7,m4,m5均为pmos,保证了m5的vds和m4相同,且不受温度变化的影响。提高了输出vref的电源纹波抑制比,c1有助于提高vref的高频输入电压纹波抑制比。c2的作用在于环路稳定性补偿。

在连接方式上mos管m1的栅级和源级与vss相连接;mos管m1的漏级与mos管m4的漏级和栅级相连接;mos管m2的源级与mos管m6的栅级和漏级相连接;mos管m2的栅级和mos管m3的漏级、电阻r1上端相连接;mos管m2的漏级与mos管m5漏级,mos管m3栅级,mos管m7栅级相连接;电阻r1、r2串联,r2下端接vss,输出vref接在r1、r2中间;mos管m3源级与vreg相连;mos管m4,mos管m5的源级与verg相连;mos管m5的栅级与mos管m4的栅级和漏级相连接;mos管m6的源级接vss;mos管m7的漏级接vss;mos管m7的源级与vreg相连;mos管m8漏级接vreg;mos管m8和mos管m9的源级接vcc;mos管m8的栅级与mos管m9的栅级和漏级相连接;mos管m10的源级和栅级与vss相连;mos管m10的漏级与mos管m9的栅级和漏级相连;电容c1下级板接vss,上级板接vreg;电容c2下级板接vss,上级板与mos管m7的栅级、mos管m5的漏级、mos管m3的栅级、mos管m2的漏级相连接。

当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1