修正触控信号的装置、系统以及其方法
【专利摘要】本发明提供了一种修正触控信号的装置、系统以及其方法，所述方法包括：发射光束，以获得反射元件反射光束所产生的检测光束，从而产生检测信号分布图；根据检测信号分布图与临界值分布图以获得多个交会点、遮蔽区域以及遮蔽区域所对应的像素位置；依据检测信号分布图以及多个交会点以计算遮蔽区域所占有的第一面积；根据遮蔽区域所对应的第一面积以判断遮蔽区域是否发生过曝现象；以及若遮蔽区域发生过曝现象，则修正过曝的遮蔽区域以及遮蔽区域所对应的像素位置。本发明通过判断触控信号是否被过曝现象所影响，并据此对被过曝现象所影响的触控信号进行修正，从而减少触控信号的误差以及误判，同时提升光学触控的精确度。
【专利说明】修正触控信号的装置、系统以及其方法
【技术领域】
[0001] 本发明是有关于一种信号处理技术，且特别是有关于一种修正触控信号的装置、 系统以及其方法。
【背景技术】
[0002] 由于科技的快速发展以及制程技术的成熟，各种智能电子产品已成为非常普遍的 随身设备，尤其是具有触控屏幕的电子产品。触控屏幕的种类大致上分为电容式、电阻式以 及光学式等，其中光学式触控屏幕大致上又分为反射式以及遮蔽式。
[0003] 图1 (a)为遮蔽式光学触控屏幕的示意图。图1 (b)则为图1 (a)的左上角的光机模 块所接收的理想的原始信号的示意图。图1(b)的X轴为像素位置，y轴为信号的亮度（如 灰阶亮度）。
[0004] 图2(a)以及图2(b)为遮蔽式光学触控屏幕产生遮蔽区域的示意图。如图2(a) 所示，当使用者的单一手指F1触碰屏幕时，则遮蔽了原始信号以产生一个遮蔽区域，如图 2(b)中的箭头210所指的区域。藉此，可利用数学演算法以进一步地检测此遮蔽区域的像 素位置来计算出对应的触控点的位置。
[0005] 图3(a)以及图3(b)为遮蔽式光学触控屏幕产生具有光曝现象且受到影响的遮蔽 区域的示意图。如图3(a)所示，当使用者的单一手指F2过于接近光机模块而触碰屏幕时， 由于手指与光机模块之间可能因过于接近而产生亮度过强或绕射等光学效应，使得在原本 遮蔽区域中信号的亮度反而增强，因而产生两个遮蔽区域，如图3(b)中的箭头310及320 所指的两个区域。此光曝现象将会影响到触控点的位置的分析结果，使得光学触控屏幕在 分析图3(b)的信号分布图时会产生误差或是误判。
【发明内容】
[0006] 本发明解决的技术问题是：提供一种修正触控信号的装置、系统以及其方法，其判 断触控信号是否被过曝现象所影响，从而对被过曝现象所影响的触控信号进行修正，来减 少触控信号的误差以及误判，同时提升光学触控的精确度。
[0007] 本发明的技术解决方案为：一种修正触控信号的装置，所述修正触控信号的装置 包括：发光单元、反射元件、感测单元以及控制单元。发光单元用以发射至少一光束；反射 元件用以反射所述至少一光束；感测单元用以获得该反射元件反射所述至少一光束所产生 的一检测光束，从而产生一检测信号分布图，其中该检测信号分布图表示一光学触控区域 的多个像素位置及对应的多个信号亮度，且该反射元件配置于该光学触控区域的周边；以 及控制单元耦接至该发光单元以及该感测单元，控制单元经配置以执行：根据该检测信号 分布图与一临界值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域以及所述至少一遮蔽区域分 别对应的像素位置，其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点；依据该检测信号分布图以及 所述交会点以分别计算所述各遮蔽区域所占有的一第一面积，其中第一面积为检测信号分 布图以及至少一遮蔽区域所对应的两个交会点围绕而成；根据所述至少一遮蔽区域所对应 的该第一面积以判断所述至少一遮蔽区域是否发生过曝现象；以及若所述至少一遮蔽区域 发生过曝现象，则修正过曝的所述至少一遮蔽区域以及所述至少一遮蔽区域所对应的该像 素位置。
[0008] 本发明提供一种修正触控信号的系统，所述修正触控信号的系统包括：遮蔽式光 学触控屏幕、发光单元、反射元件、感测单元以及控制单元。发光单元，用以发射至少一光 束；反射元件配置于该光学式触控屏幕的周边，用以反射所述至少一光束；感测单元用以 获得该反射元件反射所述至少一光束所产生的一检测光束，从而产生一检测信号分布图， 其中该检测信号分布图表示该光学式触控屏幕的多个像素位置及对应的多个信号亮度；以 及控制单元耦接至该光学式触控屏幕、该发光单元以及该感测单元，经配置以执行：根据该 检测信号分布图与一临界值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域以及所述至少一遮 蔽区域分别对应的像素位置，其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点；依据该检测信号分 布图以及所述交会点以分别计算所述各遮蔽区域所占有的一第一面积，其中第一面积为检 测信号分布图以及至少一遮蔽区域所对应的两个交会点围绕而成；根据所述至少一遮蔽区 域所对应的该第一面积以判断所述至少一遮蔽区域是否发生过曝现象；以及若至少一遮 蔽区域发生过曝现象，则修正过曝的至少一遮蔽区域以及至少一遮蔽区域所对应的像素位 置。
[0009] 本发明还提供一种修正触控信号的方法，所述修正触控信号的方法包括：发射至 少一光束，以获得一反射元件反射所述至少一光束所产生的一检测光束，从而产生一检测 信号分布图，其中该检测信号分布图表示一光学触控区域的多个像素位置及对应的多个信 号亮度，且至少一反射元件配置于光学触控区域的周边；根据该检测信号分布图与一临界 值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域与所述至少一遮蔽区域分别所对应的像素位 置，其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点；依据该检测信号分布图以及所述交会点以分 别计算所述各遮蔽区域所占有的一第一面积，其中第一面积为检测信号分布图以及至少一 遮蔽区域所对应的两个交会点围绕而成；根据所述至少一遮蔽区域所对应的该第一面积以 判断所述至少一遮蔽区域是否发生过曝现象；以及若所述至少一遮蔽区域发生过曝现象， 则修正过曝的所述至少一遮蔽区域以及所述至少一遮蔽区域所对应的该像素位置。
[0010] 基于上述，本发明藉由对遮蔽物发射光束，以获得检测信号分布图以及遮蔽区域 后，根据检测信号分布图在遮蔽区域中所对应的第一面积来判断其是否为过曝，且在判断 为过曝之后，对相对应的像素位置进行修正。判断触控信号是否被过曝现象所影响，从而对 被过曝现象所影响的触控信号进行修正，来减少触控信号的误差以及误判，同时提升光学 触控的精确度。
【专利附图】
【附图说明】
[0011] 图1(a)为遮蔽式光学触控屏幕的示意图。
[0012] 图1 (b)为图1 (a)的左上角的光机模块所接收的理想的原始信号的示意图。
[0013] 图2(a)以及图2(b)为遮蔽式光学触控屏幕产生遮蔽区域的示意图。
[0014] 图3(a)以及图3(b)为遮蔽式光学触控屏幕产生具有光曝现象影响的遮蔽区域的 示意图。
[0015] 图4(a)及图4(b)是根据本发明的一实施例的修正触控信号的装置的示意图。
[0016] 图5是根据本发明的一实施例的修正触控信号的方法的流程图。
[0017] 图6(a)以及图6(b)为根据本发明的一实施例的遮蔽式光学触控屏幕产生遮蔽区 域的示意图。
[0018] 图7(a)以及图7(b)为根据本发明的一实施例的遮蔽式光学触控屏幕产生具有光 曝现象影响的遮蔽区域的示意图。
[0019] 图8(a)与图9(a)为根据本发明的一实施例的计算第一面积的示意图。
[0020] 图8(b)与图9(b)为根据本发明的一实施例的计算第二面积的示意图。
[0021] 图10是根据本发明的另一实施例的修正触控信号的方法的流程图。
[0022] 图11是根据本发明的另一实施例的修正触控信号的方法的流程图。
[0023] 图12是根据本发明的另一实施例的修正触控信号的方法的流程图。
[0024] 图13(a)与图13(b)以及图14(a)与图14(b)是根据本发明的另一实施例的修正 触控信号的方法的示意图。
[0025] 图15是根据本发明的另一实施例的修正触控信号的方法的流程图。
[0026] 图16(a)、16(b)及16(c)是根据本发明的另一实施例的修正触控信号的方法的示 意图。
[0027] 图17是根据本发明的另一实施例的修正触控信号的方法的流程图。
[0028] 图18是根据本发明的一实施例的凸形判定程序的流程图。
[0029] 图19(a)及19(b)是根据本发明的一实施例的凸形判定程序的示意图。
[0030] 图20(a)及20(b)是根据本发明的一实施例的边界更新修正程序的示意图。
[0031] 图 21(a)?图 21(d)、图 22(a)?图 22(d)、图 23(a)?图 23(d)、图 24(a)?图 24(d)、图25(a)?图25(b)、图26(a)?图26(b)、图27及图28为根据本发明的另一实施 例的修正触控信号的方法的示意图。
[0032] 符号说明：
[0033] 400 :修正装置
[0034] 430 :光机模块
[0035] 432 :发光单元
[0036] 434 :感测单元
[0037] 45〇 :控制单元
[0038] 470 :反射元件
[0039] 900 :遮蔽式光学触控屏幕
[0040] A1?A34 :遮蔽区域
[0041] A7'、A8'、A7":遮蔽区域
[0042] χ?、χΓ、x2、x2'、x3、x3' ：交点
[0043] LI ?L6、L9 ?L34 :左边界
[0044] R1 ?R6、R9 ?R34 :右边界
[0045] C1 ?C6、C13、C14、C17、C18、C19、C20、C25、C30 :中点
[0046] AM1、AM2 :修正过曝后的遮蔽区域
[0047] M1、M2、C7〃、C15'、C16'、C23'、M21、M26、M28、M31、M33 :修正后的像素位置
[0048] R12'、R15'、R23' ：修正后的右边界
[0049] L16' ：修正后的左边界
[0050] D1 :检测信号分布图
[0051] D2:临界值分布图
[0052] a:中点
[0053] b :左最低点
[0054] c :右最低点
[0055] Du :左第一长度
[0056] 队2 :左第二长度
[0057] DK1 :右第一长度
[0058] DK2 :右第二长度
[0059] S510?S1734 :修正方法的步骤
【具体实施方式】
[0060] 图4(a)及图4(b)是根据本发明的一实施例的修正触控信号的装置的示意图。如 图4 (a)所示，修正装置400可适用于遮蔽式光学触控屏幕900,修正装置400包括光机模块 430以及反射元件470。其中反射元件470配置于遮蔽式光学触控屏幕900的周边。修正 装置400除了可包括图4 (a)中的光机模块430以及反射元件470之外，修正装置400还可 包括控制单元450,其中光机模块430还包括发光单元432以及感测单元434,如图4(b)所 示。控制单元450耦接至发光单元432以及感测单元434。发光单元432可以是发光二极 管（LED)或是各种形式的光信号发射器。在本发明实施例中，发光单元432可以配置于遮 蔽式光学触控屏幕900的左上角以及右上角，然而在本发明的另一实施例中，发光单元432 可配置于遮蔽式光学触控屏幕900的任何位置上，在此不加以限制。感测单元434可以是 各种形式的光信号接收器。在下列本文的描述当中，皆是以图4(a)左上角的光机模块430 的感测单元434所接收的信号，来作为各实施例的说明。控制单元450可以是各种形式的 功能模块或微处理器。
[0061] 在本发明实施例中，修正装置400是配置于遮蔽式光学触控屏幕900之外。在本 发明的另一实施例中，修正装置400亦可是配置于光学触控区域之外，而反射元件470配置 于此光学触控区域的周边，且其光学触控区域可以是任何平面，并不限于光学触控屏幕。在 符合本发明精神的部分实施例中，修正装置400以及遮蔽式光学触控屏幕900可整合为一 体，或是其部分可整合为一体，进而构成修正系统，其中控制单元450耦接至遮蔽式光学触 控屏幕900、发光单元432以及感测单元434且对其做控制，然而在此不加以限制。
[0062] 图5是根据本发明的一实施例的修正触控信号的方法的流程图。如图5所示，本 发明实施例的修正方法包括步骤S510?S560。
[0063] 在步骤S510中，发光单元432发射至少一光束，以藉由感测单元434获得至少一 反射元件470反射至少一光束所产生的检测光束，从而产生检测信号分布图。其中检测信 号分布图表不遮蔽式光学触控屏幕900 (或是对应于另一实施例中的光学触控区域）的多 个像素位置及对应的多个信号亮度。举例来说，当使用者没有将手指放至遮蔽式光学触控 屏幕900上时，发光单元432可发射光束，以产生感测单元434所接收的原始信号分布图， 如图1(b)所示。图6(a)以及图6(b)为根据本发明的一实施例的遮蔽式光学触控屏幕900 产生遮蔽区域的示意图。图7(a)以及图7(b)为根据本发明的一实施例的遮蔽式光学触控 屏幕900产生具有光曝现象影响的遮蔽区域的示意图。当使用者将手指（如图6(a)及6(b) 的F1以及如图7 (a)及7(b)的F2)放至遮蔽式光学触控屏幕900上时，手指会遮蔽部份发 光单元432所发射的光束。手指所未遮蔽的光束可再通过反射元件470而反射至感测单元 434,藉以形成检测信号分布图，如图6(b)及图7(b)中标示D1的曲线。由于检测信号分布 图是经由手指的遮蔽而形成，因此相对于原始信号分布图，会产生信号亮度较弱的区域于 对应的手指的像素位置上，例如图6(b)的区域A1所示。
[0064] 在步骤S520中，控制单元450根据检测信号分布图与临界值分布图以获得多个交 会点、至少一遮蔽区域与至少一遮蔽区域分别所对应的像素位置。其中，临界值分布图（如 图6(b)及图7(b)中标示D2的曲线）是根据原始信号分布图的特定比例而产生，且如上所 述，原始信号分布图是在遮蔽式光学触控屏幕900(或是对应于另一实施例中的光学触控 区域）中无遮蔽物的情况下，藉由获得至少一反射元件470反射至少一光束所产生的原始 光束而产生。由于检测信号分布图中可具有相对于原始信号分布图信号亮度较弱的区域， 因此，可藉由原始信号分布图的特定比例（例如，75%)来定义出信号的临界值，而低于此 临界值的信号的所在区域可判定为遮蔽区域（如区域A1?A3)。并且，在此步骤中，控制 单元450亦可计算出这些遮蔽区域的数量，藉以作为判断是否发生过曝现象的依据。如图 6(a)及图6(b)所示，遮蔽区域所在的像素位置有可能对应至使用者在遮蔽式光学触控屏 幕900 (或是对应于另一实施例中的光学触控区域）中的触控点，然而此亦可能因具有光曝 现象的影响而产生误差及误判，如图7 (a)及图7 (b)所示。遮蔽区域的获得可根据检测信号 分布图与临界值分布图的交会点而来。在本发明实施例中，此交会点可以是检测信号分布 图与临界值分布图的交点（如图6(b)的xl与xl'、图7(b)的x2与x2'以及x3与x3'）， 并且可藉由这些交会点来定义出各遮蔽区域，其中相邻的两个交会点两两对应各个遮蔽区 域，例如图6(b)的xl与χΓ对应至A1、图7(b)的x2与x2'对应至A2并且图7(b)的x3 与x3'对应至A3。在本发明的另一实施例中，此交会点亦可根据检测信号分布图与临界值 分布图的斜率关系或其他各种的方式而求得，在此不加以限制。
[0065] 在步骤S530中，控制单元450依据检测信号分布图以及多个交会点以分别计算各 遮蔽区域所占有的第一面积（例如，图8 (a)以及图9 (a)绘不的实心部分面积811、911及 912)。其中，第一面积为检测信号分布图以及至少一遮蔽区域所对应的两个交会点围绕而 成。图8(a)与图9(a)为根据本发明的一实施例的计算第一面积的示意图。举例来说，如 图8( &)以及图9(&)所示的实心部份面积811、911及912，其分别为交会点11与11'^2与 x2'以及x3与x3'分别对应遮蔽区域内的检测信号分布图所围绕而成的第一面积811、911 及912。更进一步来说，其第一面积811、911及912为分别通过交会点xl与χΓ、x2与x2' 以及x3与x3'的垂直线LI、Rl、L2、R2、L3及R3,和检测信号分布图所分别围绕而成的面 积。换句话说，第一面积为检测信号分布图（下列表示为FGV)在对应的遮蔽区域内的灰阶 亮度的总值，即为
【权利要求】
1. 一种修正触控信号的装置，其特征在于，所述修正触控信号的装置包括： 一发光单元，用以发射至少一光束； 一反射元件，用以反射所述至少一光束； 一感测单元，用以获得该反射元件反射所述至少一光束所产生的一检测光束，从而产 生一检测信号分布图，其中该检测信号分布图表示一光学触控区域的多个像素位置及对应 的多个信号亮度，且该反射元件配置于该光学触控区域的周边；以及 一控制单元，耦接至该发光单元以及该感测单元，经配置以执行： 根据该检测信号分布图与一临界值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域以及所 述至少一遮蔽区域分别对应的像素位置，其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点； 依据该检测信号分布图以及所述交会点以分别计算各遮蔽区域所占有的一第一面 积； 根据所述至少一遮蔽区域所对应的该第一面积以判断所述至少一遮蔽区域是否发生 过曝现象；以及 若所述至少一遮蔽区域发生过曝现象，则修正过曝的所述至少一遮蔽区域以及所述至 少一遮蔽区域所对应的该像素位置。
2. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，当该控制单元获得所述至少一遮蔽区域 分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 根据该检测信号分布图以获得所述至少一遮蔽区域分别对应的一左边界与一右边界， 其中该左边界与该右边界分别通过所述至少一遮蔽区域所对应的相邻的两个交会点；以及 将该左边界与该右边界之间的一中点设定为所述至少一遮蔽区域分别所对应的该像 素位置。
3. 根据权利要求2所述的装置，其特征在于，当该控制单元判断所述至少一遮蔽区域 是否发生过曝现象时，该控制单元更进一步经配置以执行： 依据该临界值分布图以及所述交会点以分别计算各遮蔽区域所占有的一第二面积，其 中该第二面积为该临界值分布图以及所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与该右边 界围绕而成； 将所述至少一遮蔽区域分别所对应的该第一面积除以对应的该第二面积，以获得至少 一面积比率；以及 若所述至少一面积比率的其中之一大于对应的一比率阀值，则判定所述至少一面积比 率对应的所述至少一遮蔽区域发生过曝现象。
4. 根据权利要求2所述的装置，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一遮 蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 判断所述至少一遮蔽区域中，是否具有皆发生过曝现象且相邻的两个遮蔽区域；以及 若具有皆发生过曝现象且相邻的所述两个遮蔽区域，则在发生过曝现象且相邻的所述 两个遮蔽区域中，计算位于左侧的该遮蔽区域的该左边界以及位于右侧的该遮蔽区域的该 右边界之间的一中点，以作为修正过曝后的该遮蔽区域的一像素位置。
5. 根据权利要求4所述的装置，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一遮 蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 判断是否具有发生过曝现象的一遮蔽区域； 若具有发生过曝现象的该遮蔽区域，则计算该遮蔽区域的该左边界的左侧的该检测信 号分布图相对于该临界值分布图的一左变化程度，以及该遮蔽区域的该右边界的右侧的该 检测信号分布图相对于该临界值分布图的一右变化程度； 若该遮蔽区域的该右变化程度大于该左变化程度，则计算该左边界以及通过该检测信 号分布图的一转折点的一边界之间的一中点，以作为该遮蔽区域修正后的一像素位置；以 及 若该遮蔽区域的该左变化程度大于该右变化程度，则计算该右边界以及通过该检测信 号分布图的该转折点的该边界之间的一中点，以作为该遮蔽区域修正后的该像素位置。
6. 根据权利要求5所述的装置，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一遮 蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 计算所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与一左最低点之间的一左第一长度、该 中点与一左最低点之间的一左第二长度、该右边界与一右最低点之间的一右第一长度以及 该中点与一右最低点之间的一右第二长度； 将该左第二长度大于该左第一长度且该右第二长度大于该右第一长度的对应的该遮 蔽区域判定为凸形；以及 将该左第二长度小于该左第一长度或该右第二长度小于该右第一长度的对应的该遮 蔽区域判定为非凸形； 其中，该检测信号分布图在该左最低点相对于的该遮蔽区域的中点的左侧信号具有最 低的信号亮度，该检测信号分布图在该右最低点相对于的该遮蔽区域的中点的右侧信号具 有最低的信号亮度。
7. 根据权利要求6所述的装置，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一遮 蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 若该遮蔽区域判定为非凸形，则对该遮蔽区域进行修正。
8. 根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述至少一光束具备一特定频率，并且当 该控制单元修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进 一步经配置以执行： 调整并发射该特定频率的所述至少一光束，以获得对应该特定频率的一其他检测信号 分布图； 根据该其他检测信号分布图与该临界值分布图的多个交会点，来获得至少一其他遮蔽 区域； 判断所述至少一其他遮蔽区域的一数量是否为一最小值；以及 若所述至少一其他遮蔽区域的该数量为该最小值，则将所述至少一其他遮蔽区域设定 为修正过曝后的遮蔽区域，且将所述至少一其他遮蔽区域所对应的一左边界与一右边界之 间的一中点设定为修正过曝后的该遮蔽区域的一像素位置。
9. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，该临界值分布图是根据原始信号分布图 的一特定比例而产生，该原始信号分布图是在该光学触控区域中无遮蔽物的情况下，藉由 该感测单元获得该反射元件反射所述至少一光束所产生的一原始光束而产生。
10. 根据权利要求2所述的装置，其特征在于，该第一面积为该检测信号分布图以及所 述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与该右边界围绕而成。
11. 一种修正触控信号的系统，其特征在于，所述修正触控信号的系统包括： 一遮蔽式光学触控屏幕； 一发光单元，用以发射至少一光束； 一反射元件，配置于该光学式触控屏幕的周边，用以反射所述至少一光束； 一感测单元，用以获得该反射元件反射所述至少一光束所产生的一检测光束，从而产 生一检测信号分布图，其中该检测信号分布图表示该光学式触控屏幕的多个像素位置及对 应的多个信号亮度；以及 一控制单元，耦接至该光学式触控屏幕、该发光单元以及该感测单元，经配置以执行： 根据该检测信号分布图与一临界值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域以及所 述至少一遮蔽区域分别对应的像素位置，其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点； 依据该检测信号分布图以及所述交会点以分别计算所述各遮蔽区域所占有的一第一 面积； 根据所述至少一遮蔽区域所对应的该第一面积以判断所述至少一遮蔽区域是否发生 过曝现象；以及 若所述至少一遮蔽区域发生过曝现象，则修正过曝的所述至少一遮蔽区域以及所述至 少一遮蔽区域所对应的该像素位置。
12. 根据权利要求11所述的系统，其特征在于，当该控制单元获得所述至少一遮蔽区 域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 根据该检测信号分布图以获得所述至少一遮蔽区域分别对应的一左边界与一右边界， 其中该左边界与该右边界分别通过所述至少一遮蔽区域所对应的相邻的两个交会点；以及 将该左边界与该右边界之间的一中点设定为所述至少一遮蔽区域分别所对应的该像 素位置。
13. 根据权利要求12所述的系统，其特征在于，当该控制单元判断所述至少一遮蔽区 域是否发生过曝现象时，该控制单元更进一步经配置以执行： 依据该临界值分布图以及所述交会点以分别计算所述各遮蔽区域所占有的一第二面 积，其中该第二面积为该临界值分布图以及所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与该 右边界围绕而成； 将所述至少一遮蔽区域分别所对应的该第一面积除以对应的该第二面积，以获得至少 一面积比率；以及 若所述至少一面积比率的该其中之一大于对应的一比率阀值，则判定所述至少一面积 比率对应的所述至少一遮蔽区域发生过曝现象。
14. 根据权利要求12所述的系统，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一 遮蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 判断所述至少一遮蔽区域中，是否具有皆发生过曝现象且相邻的两个遮蔽区域；以及 若具有皆发生过曝现象且相邻的所述两个遮蔽区域，则在发生过曝现象且相邻的所述 两个遮蔽区域中，计算位于左侧的该遮蔽区域的该左边界以及位于右侧的该遮蔽区域的该 右边界之间的一中点，以作为修正过曝后的该遮蔽区域的一像素位置。
15. 根据权利要求14所述的系统，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一 遮蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 判断是否具有发生过曝现象的一遮蔽区域； 若具有发生过曝现象的该遮蔽区域，则计算该遮蔽区域的该左边界的左侧的该检测信 号分布图相对于该临界值分布图的一左变化程度，以及该遮蔽区域的该右边界的右侧的该 检测信号分布图相对于该临界值分布图的一右变化程度； 若该遮蔽区域的该右变化程度大于该左变化程度，则计算该左边界以及通过该检测信 号分布图的一转折点的一边界之间的一中点，以作为该遮蔽区域修正后的一像素位置；以 及 若该遮蔽区域的该左变化程度大于该右变化程度，则计算该右边界以及通过该检测信 号分布图的该转折点的该边界之间的一中点，以作为该遮蔽区域修正后的该像素位置。
16. 根据权利要求15所述的系统，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一 遮蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 计算所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与一左最低点之间的一左第一长度、该 中点与一左最低点之间的一左第二长度、该右边界与一右最低点之间的一右第一长度以及 该中点与一右最低点之间的一右第二长度； 将该左第二长度大于该左第一长度且该右第二长度大于该右第一长度的对应的该遮 蔽区域判定为凸形；以及 将该左第二长度小于该左第一长度或该右第二长度小于该右第一长度的对应的该遮 蔽区域判定为非凸形； 其中，该检测信号分布图在该左最低点相对于的该遮蔽区域的中点的左侧信号具有最 低的信号亮度，该检测信号分布图在该右最低点相对于的该遮蔽区域的中点的右侧信号具 有最低的信号亮度。
17. 根据权利要求16所述的系统，其特征在于，当该控制单元修正过曝的所述至少一 遮蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更进一步经配置以执行： 若该遮蔽区域判定为非凸形，则对该遮蔽区域进行修正。
18. 根据权利要求12所述的系统，其特征在于，所述至少一光束具备一特定频率，并且 当该控制单元修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别所对应的该像素位置时，该控制单元更 进一步经配置以执行： 调整并发射该特定频率的所述至少一光束，以获得对应该特定频率的一其他检测信号 分布图； 根据该其他检测信号分布图与该临界值分布图的多个交会点，来获得至少一其他遮蔽 区域； 判断所述至少一其他遮蔽区域的一数量是否为一最小值；以及 若所述至少一其他遮蔽区域的该数量为该最小值，则将所述至少一其他遮蔽区域设定 为修正过曝后的遮蔽区域，且将所述至少一其他遮蔽区域所对应的一左边界与一右边界之 间的一中点设定为修正过曝后的该遮蔽区域的一像素位置。
19. 根据权利要求11所述的系统，其特征在于，该临界值分布图是根据原始信号分布 图的一特定比例而产生，该原始信号分布图是在该光学触控区域中无遮蔽物的情况下，藉 由该感测单元获得该反射元件反射所述至少一光束所产生的一原始光束而产生。
20. 根据权利要求12所述的系统，其特征在于，该第一面积为该检测信号分布图以及 所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与该右边界围绕而成。
21. -种修正触控信号的方法，其特征在于，所述修正触控信号的方法包括： 发射至少一光束，以获得一反射元件反射所述至少一光束所产生的一检测光束，从而 产生一检测信号分布图，其中该检测信号分布图表示一光学触控区域的多个像素位置及对 应的多个信号亮度； 根据该检测信号分布图与一临界值分布图以获得多个交会点、至少一遮蔽区域与所述 至少一遮蔽区域分别所对应的像素位置，其中各遮蔽区域对应相邻的两个交会点； 依据该检测信号分布图以及所述交会点以分别计算所述各遮蔽区域所占有的一第一 面积； 根据所述至少一遮蔽区域所对应的该第一面积以判断所述至少一遮蔽区域是否发生 过曝现象；以及 若所述至少一遮蔽区域发生过曝现象，则修正过曝的所述至少一遮蔽区域以及所述至 少一遮蔽区域所对应的该像素位置。
22. 根据权利要求21所述的方法，其特征在于，获得所述至少一遮蔽区域分别所对应 的该像素位置的步骤包括： 根据该检测信号分布图以获得所述至少一遮蔽区域分别对应的一左边界与一右边界， 其中该左边界与该右边界分别通过所述至少一遮蔽区域所对应的相邻的两个交会点；以及 将该左边界与该右边界之间的一中点设定为所述至少一遮蔽区域分别所对应的该像 素位置。
23. 根据权利要求22所述的方法，其特征在于，判断所述至少一遮蔽区域是否发生过 曝现象的步骤包括： 依据该临界值分布图以及所述交会点以分别计算所述各遮蔽区域所占有的一第二面 积，其中该第二面积为该临界值分布图以及所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与该 右边界围绕而成； 将所述至少一遮蔽区域分别所对应的该第一面积除以对应的该第二面积，以获得至少 一面积比率；以及 若所述至少一面积比率的该其中之一大于对应的一比率阀值，则判定所述至少一面积 比率对应的所述至少一遮蔽区域发生过曝现象。
24. 根据权利要求22所述的方法，其特征在于，修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别 所对应的该像素位置的步骤包括： 判断所述至少一遮蔽区域中，是否具有皆发生过曝现象且相邻的两个遮蔽区域；以及 若具有皆发生过曝现象且相邻的所述两个遮蔽区域，则在发生过曝现象且相邻的所述 两个遮蔽区域中，计算位于左侧的该遮蔽区域的该左边界以及位于右侧的该遮蔽区域的该 右边界之间的一中点，以作为修正过曝后的该遮蔽区域的一像素位置。
25. 根据权利要求24所述的方法，其特征在于，修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别 所对应的该像素位置的步骤包括： 判断是否具有发生过曝现象的一遮蔽区域； 若具有发生过曝现象的该遮蔽区域，则计算该遮蔽区域的该左边界的左侧的该检测信 号分布图相对于该临界值分布图的一左变化程度，以及该遮蔽区域的该右边界的右侧的该 检测信号分布图相对于该临界值分布图的一右变化程度； 若该遮蔽区域的该右变化程度大于该左变化程度，则计算该左边界以及通过该检测信 号分布图的一转折点的一边界之间的一中点，以作为该遮蔽区域修正后的一像素位置；以 及 若该遮蔽区域的该左变化程度大于该右变化程度，则计算该右边界以及通过该检测信 号分布图的该转折点的该边界之间的一中点，以作为该遮蔽区域修正后的该像素位置。
26. 根据权利要求25所述的方法，其特征在于，修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别 所对应的该像素位置的步骤包括： 计算所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与一左最低点之间的一左第一长度、该 中点与一左最低点之间的一左第二长度、该右边界与一右最低点之间的一右第一长度以及 该中点与一右最低点之间的一右第二长度； 将该左第二长度大于该左第一长度且该右第二长度大于该右第一长度的对应的该遮 蔽区域判定为凸形；以及 将该左第二长度小于该左第一长度或该右第二长度小于该右第一长度的对应的该遮 蔽区域判定为非凸形， 其中，该检测信号分布图在该左最低点相对于的该遮蔽区域的中点的左侧信号具有最 低的信号亮度，该检测信号分布图在该右最低点相对于的该遮蔽区域的中点的右侧信号具 有最低的信号亮度。
27. 根据权利要求26所述的方法，其特征在于，修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别 所对应的该像素位置的步骤包括： 若该遮蔽区域判定为非凸形，则对该遮蔽区域进行修正。
28. 根据权利要求22所述的方法，其特征在于，所述至少一光束具备一特定频率，并且 修正过曝的所述至少一遮蔽区域分别所对应的该像素位置的步骤包括： 调整并发射该特定频率的所述至少一光束，以获得对应该特定频率的一其他检测信号 分布图； 根据该其他检测信号分布图与该临界值分布图的多个交会点，来获得至少一其他遮蔽 区域； 判断所述至少一其他遮蔽区域的一数量是否为一最小值；以及 若所述至少一其他遮蔽区域的该数量为该最小值，则将所述至少一其他遮蔽区域设定 为修正过曝后的遮蔽区域，且将所述至少一其他遮蔽区域所对应的一左边界与一右边界之 间的一中点设定为修正过曝后的该遮蔽区域的一像素位置。
29. 根据权利要求21所述的方法，其特征在于，该临界值分布图是根据原始信号分布 图的一特定比例而产生，该原始信号分布图是在该光学触控区域中无遮蔽物的情况下，藉 由获得所述至少一反射元件反射所述至少一光束所产生的一原始光束而产生。
30. 根据权利要求22所述的方法，其特征在于，该第一面积为该检测信号分布图以及 所述至少一遮蔽区域分别对应的该左边界与该右边界围绕而成。
【文档编号】G06F3/042GK104281332SQ201310331684
【公开日】2015年1月14日 申请日期:2013年8月1日 优先权日:2013年7月12日
【发明者】甘伟国, 陈裕彦, 苏上钦 申请人:纬创资通股份有限公司