触控面板的制作方法

本发明涉及一种触控面板。

背景技术：

近年来，触控面板逐渐普遍应用于各种电子装置中，例如智能型手机。在现有的触控面板中，常以透明导电材料配置触控感测阵列，以与显示面板搭配而作为触控显示装置使用。部分触控面板还将此触控感测阵列延伸到周边的非可视区，以增加边缘触控的灵敏度。

一般而言，用于非可视区遮光设计的材料(例如黑色色阻)的绝缘阻抗普遍不高，且容易因制程因素而使绝缘阻抗下降，加上透明导电材料的导电率普遍较低，因此，在触控面板的边缘，当电流流经触控感测阵列较窄的部份时，容易因面临的阻抗的增加，底层的绝缘阻抗不足，而产生静电放电(electrostaticdischarge；esd)的问题。在此状况下，位于触控面板边缘的金属连接线易遭电弧击伤，致使触控面板之触控功能有失效之虞。

技术实现要素：

基于此，本实施方式藉由设计触控面板之非可视区内的连接线宽度大于可视区内的连接线宽度，降低在触控面板的边缘当电流流经触控感测阵列较窄的部份时所面临的阻抗，进而避免静电放电(electrostaticdischarge；esd)的产生。

本发明之一态样提供一种触控面板，包含基板、透明电极层以及桥接结构。基板包含可视区与位于可视区至少一侧之非可视区。透明电极层设置于基板之上，且包含多个第一透明电极、至少一中央连接线、至少一周围连接线以及多个第二透明电极。中央连接线设置于可视区并连接可视区内相邻的二个第一透明电极。周围连接线设置于非可视区并连接非可视区内相邻的二个第一透明电极，其中周围连接线于基板上的投影宽度大于中央连接线于基板上的投影宽度。每一桥接结构横跨中央连接线和周围连接线之一而连接相邻的二个第二透明电极。

于本发明之多个实施方式中，周围连接线于基板上的投影宽度大约为0.3毫米，中央连接线于基板上的投影宽度大约为0.1毫米。

于本发明之多个实施方式中，周围连接线于基板上的投影宽度大约为中央连接线于基板上的投影宽度的2至3倍。

于本发明之一或多个实施方式中，触控面板更包含遮光层，设置于基板与透明电极层之间，用以定义可视区与非可视区。

于本发明之一或多个实施方式中，第一透明电极的排列方向大致垂直于第二透明电极的排列方向。

于本发明之一或多个实施方式中，触控面板更包含光学膜，设置于透明电极层与基板之间或透明电极层之上。

于本发明之一或多个实施方式中，第一透明电极与第二透明电极的形状为长条型、菱形、方形或上述之组合。

于本发明之一或多个实施方式中，周围连接线于基板上的投影宽度大约为第一透明电极与周围连接线连接之一部份于基板上的投影宽度的三分之一到二分之一。

于本发明之一或多个实施方式中，桥接结构位于非可视区与可视区，桥接结构中，位于非可视区者于基板上的投影长度大于位于可视区者于基板上的投影长度。

于本发明之一或多个实施方式中，于非可视区内，相邻的两个第二透明电极之间具有周围间距间，于可视区内相邻的两个第二透明电极之间具有中央间距，周围间距大于中央间距。

于本发明之一或多个实施方式中，每一桥接结构包含金属连接线与绝缘块。金属连接线连接相邻的二个第二透明电极。绝缘块设置于中央连接线和周围连接线之一与金属连接线之间。

附图说明

图1a为本发明之一实施方式之触控面板之局部上视图。

图1b为图1a之部分b之放大图。

图1c为沿图1a之线c-c之剖面图。

图1d为沿图1a之线d-d之剖面图。

图1e为沿图1a之线e-e之剖面图。

附图标记说明：

100：触控面板

110：基板

120：透明电极层

122：第一透明电极

122a：长条部份

124：中央连接线

126：周围连接线

128：第二透明电极

130a：桥接结构

130b：桥接结构

132a：金属连接线

132b：金属连接线

134a：绝缘块

134b：绝缘块

140：引线

150：遮光层

160：光学膜

b：部分

p1：周围间距

p2：中央间距

w1：宽度

w2：宽度

w3：宽度

na：非可视区

va：可视区

c-c：线

d-d：线

e-e：线

d1：第一方向

d2：第二方向

具体实施方式

以下将以附图揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化附图起见，一些公知惯用的结构与组件在附图中将以简单示意的示出。

同时参照图1a与图1b。图1a为本发明之一实施方式之触控面板100之局部上视图。图1b为图1a之部分b之放大图。触控面板100包含基板110、透明电极层120以及多个桥接结构130a、130b。基板110包含可视区va与位于可视区va至少一侧之非可视区na，于此，以虚线为界线划分可视区va与非可视区na。透明电极层120设置于基板110之上，且包含多个第一透明电极122、至少一中央连接线124、至少一周围连接线126以及多个第二透明电极128。中央连接线124设置于可视区va并于可视区va内连接相邻的二个第一透明电极122。周围连接线126设置于非可视区na并于非可视区na内连接相邻的二个第一透明电极122。

参照图1b，周围连接线126于基板110上具有投影宽度w1，中央连接线124于基板110上具有投影宽度w2，其中周围连接线126的投影宽度w1大于中央连接线124的投影宽度w2。于此，桥接结构130a横跨中央连接线124而连接相邻的二个第二透明电极128，桥接结构130b横跨周围连接线126而连接相邻的二个第二透明电极128。

于本发明之多个实施方式中，桥接结构130a包含金属连接线132a与绝缘块134a，桥接结构130b包含金属连接线132b与绝缘块134b。每一金属连接线132a、132b连接相邻的二个第二透明电极128。绝缘块134a设置于中央连接线124与金属连接线132a之间，绝缘块134b设置于周围连接线126与金属连接线132b之间，分别用以电性隔绝金属连接线132a与中央连接线124或金属连接线132b与周围连接线126，进而电性隔绝第一透明电极122与第二透明电极128。

再回到图1a，于部分实施方式中，触控面板100还包含引线140，引线140设置于非可视区na，且引线140之一端与第一透明电极122或第二透明电极128电性连接，用以传递触控讯号至处理单元(未绘示)，例如集成电路芯片，进而计算或辨认使用者手指的触控位置。

参照图1c，图1c为沿图1a之线c-c之剖面图。于本实施方式中，触控面板100还包含遮光层150与光学膜160。遮光层150配置于触控面板100的边缘，并且设置在基板110之表面上而位于基板110与透明电极层120之间，用以定义可视区va与非可视区na。遮光层150可以是黑色色阻、白色色阻或其它具有低穿透率与低反射率的材料。光学膜160可以是增亮膜或抗反射膜，用以提升人们视觉感受上的亮度。此外，于多个实施方式中，基板110可以为具有较佳绝缘阻抗的硬质基板或软质基板，硬质基板例如可为玻璃基板或压克力基板，软质基板可为例如聚醯亚胺(polyimide；pi)基板。

同时参照图1a与图1c。为了增强触控面板100的边缘触控能力，本实施方式中，至少部分透明电极层120(例如第一透明电极122与第二透明电极128)与桥接结构130b设置于非可视区na内(即位于遮光层150上方)，以使触控感测的范围涵盖至触控面板100的边缘。

然而，一般遮光层150的绝缘阻抗低于基板110的绝缘阻抗，使得非可视区na内透明电极层120下方的层体的绝缘阻抗较低，例如大约为1011欧姆，可视区va内透明电极层120下方的层体的绝缘阻抗较高，例如大约为1013欧姆。由于一般透明电极的材料阻抗较高且透明电极层120于非可视区na的底层的绝缘阻抗较低，如果以一般方式配置非可视区na内透明连接线，容易使得静电电荷累积在连接线的附近，而造成静电放电(electrostaticdischarge；esd)的问题。

据此，本发明之多个实施方式中，为了克服在加强边缘触控能力时，容易在非可视区na遭遇到的静电放电的问题，可以配置周围连接线126的宽度w1大于一定值，藉此，降低在非可视区na的第一透明电极122之间的阻抗值(即周围连接线126的阻抗值)，防止电荷累积在周围连接线126的附近，进而抑制静电效应。

详细而言，同时参照图1d与图1e。图1d为沿图1a之线d-d之剖面图。图1e为沿图1a之线e-e之剖面图。图1d与图1e分别绘示图1a之非可视区na与可视区va的配置。于本实施方式中，在连接线的配置中，一方面，为了避免可视区va(参照图1a及图1b)内反射光影响使用者的视觉效果，中央连接线124设计具有较小的宽度w2，以降低桥接结构130a的覆盖面积；另一方面，周围连接线126因位于非可视区na(参照图1a及图1b)内，而无须考量桥接结构130b影响视觉效果的问题，为了降低周围连接线126的阻抗值，周围连接线126设计具有较大的宽度w1。

换言之，由于可视区va与非可视区na对穿透率要求不同，本发明之实施方式在可视区va内倾向配置具有高穿透率之组件，而在配置有遮光层150的非可视区na内则倾向配置可抑制静电放电产生之组件。于多个实施方式中，可设计宽度w1大于宽度w2，以同时符合可视区va与非可视区na对穿透率的要求并抑制静电放电的产生。

于部分实施方式中，周围连接线126的宽度w1大约为中央连接线124的宽度w2的2至3倍，藉以抑止静电效应产生的同时，还能较佳地维持触控面板100的感应面积与灵敏度。此外，周围连接线126的宽度w1还控制在不过于影响后续其余制程的实施的范围内，例如避免需过于延伸桥接结构130b的长度。举例而言，中央连接线124于基板110上的投影宽度w2可大约为0.1毫米，周围连接线126于基板110上的投影宽度w1可大约为0.2至0.3毫米。实际应用上，中央连接线124与周围连接线126的宽度可以随着采用的透明导电材料之方阻而变化，不应以此例而限制本发明之范围。

此外，如图所示，为了搭配周围连接线126之宽度w1的设计，可以对应调整触控面板100之第二透明电极128与桥接结构130b的配置。详细而言，于非可视区na内，相邻的两个第二透明电极128具有周围间距p1，以将相邻的两个第二透明电极128间隔开来。而于可视区va内，相邻的两个第二透明电极128具有中央间距p2，以将相邻的两个第二透明电极128间隔开来。周围间距p1可设计大于中央间距p2，以使具有较大宽度的周围连接线126可以对应地容纳于该周围间距p1内，中央连接线124可以对应地容纳于中央间距p2。桥接结构130a、130b分别位于非可视区na与可视区va，而分别跨越周围间距p1与中央间距p2。换句话说，位于非可视区na之桥接结构130b于基板110上的投影长度设计为大于位于可视区va之桥接结构130a于基板110上的投影长度。

虽然，于此，第二透明电极128与周围连接线126的距离与第二透明电极128与中央连接线124的距离大致相等，即周围间距p1与宽度w1的差值大致等于中央间距p2与宽度w2的差值，但不应以此限制本发明之范围。于部分实施方式中，可以依照实际需求设计第二透明电极128与周围连接线126或中央连接线124的距离，以达到较佳的静电防护效果。

再回到图1a，第一透明电极122沿第一方向d1延伸排列，第二透明电极128沿第二方向d2延伸排列。于此，第一方向d1大致垂直于第二方向d2，即第一透明电极122与第二透明电极128的排列方向互相垂直，但不应以此限制本发明之范围。于部份实施方式中，第一透明电极122的排列方向可以不垂直于第二透明电极128的排列方向。

于部分实施方式中，桥接结构130ba、130b的延伸方向不平行于第二透明电极128的排列方向，即第二方向d2，藉以降低透明电极层120的可视性，但不应以此限制本发明之范围。于部份实施方式中，可以配置桥接结构130a、130b的延伸方向平行于第二方向d2。

于本发明之多个实施方式中，透明电极层120的材料为透明导电材料，例如氧化铟锡或氧化锌。于部分实施方式中，金属连接线132a、132b的材料可以是钼铝钼、铜、银、钛等，其相较于透明导电材料具有较高的导电率，而不会有静电放电的问题。举例而言，钼铝钼之方阻大约为0.3欧姆，氧化铟锡之方阻大约为10至500欧姆。于部分实施方式中，绝缘块134a、134b由透明介电材料所组成，例如二氧化硅、氮化硅、聚醯亚胺、环氧树脂或上述之组合，用以电性隔绝金属连接线132a与中央连接线124及电性隔绝金属连接线132b与周围连接线126。

于本实施方式中，光学膜160设置于透明电极层120与基板110之间，但不应以图中所绘而限制本发明之范围，本实施方式更具体来讲，光学膜160在可视区va是设置于基板110之表面上而位于透明电极层120与基板110之间，在非可视区na是设置于遮光层150远离基板110之表面上而进一步位于透明电极层120与遮光层150之间。于部分实施方式中，光学膜160可以设置于透明电极层120之上。或者，触控面板100可以具有两层光学膜160，分别设置于透明电极层120与基板110之间以及透明电极层120之上。如前所述，光学膜160可以是增亮膜或抗反射膜，用以提升光的辉度或降低反射光以改善视觉效果。应了解到，光学膜160并非必要之配置，于部份实施方式中可以省略光学膜160。

于本实施方式中，第一透明电极122与第二透明电极128的形状为长条形与菱形之组合。于部份实施方式中，周围连接线126于基板110上的投影宽度w1可配置大约为第一透明电极122与周围连接线126连接的长条部份122a于基板110上的投影宽度w3的三分之一到二分之一，以避免截面积变化过大，进而防止电流于为第一透明电极122与周围连接线126之间流动时因电阻变化过大而过热。举例而言，投影宽度w3可以大约为0.5至1.5毫米。实际应用上不应以此限制本发明之范围。应了解到，第一透明电极122与第二透明电极128的形状可以根据实际应用而配置，可以为圆形、三角形、长条形、方形、菱形或上述之组合，不应以图中所绘而限制本发明之范围。

虽然本发明已以多种实施方式揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明之精神和范围内，当可作各种之更动与润饰，因此本发明之保护范围当视后附之申请专利范围所界定者为准。