1.一种GF2结构触摸屏，其特征在于：包括，
具有A面、B面两相对表面的基材层；
以及自所述A面向外，依次叠设的曝光银胶层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层；所述B面叠设有纳米银层；或，
自所述A面向外，依次叠设的纳米银层、透明光学双面胶层、盖板玻璃层；所述B面叠设有曝光银胶层。
2.如权利要求1所述的GF2结构触摸屏，其特征在于：所述曝光银胶层由银浆涂覆而成，所述银浆的粘度为100～120dpa.s；所述曝光银胶层的厚度为2～5μm。
3.如权利要求1～2任一所述的GF2结构触摸屏，其特征在于：所述纳米银层厚度为25～75μm。
4.如权利要求1所述的GF2结构触摸屏，其特征在于：所述基材层的材料为PET；所述基材层的厚度为50～125μm。
5.如权利要求1所述的GF2结构触摸屏，其特征在于：所述盖板玻璃为硅酸盐玻璃中的任一种，所述盖板玻璃的厚度为0.5～0.7mm。
6.如权利要求1～5任一所述的GF2结构触摸屏的制造工艺，其特征在于：至少包括以下步骤：
对一表面叠设有纳米银层的基材进行缩水处理；
将干膜贴附于所述纳米银层表面，然后对所述基材进行片材切割处理；
对所述干膜进行曝光、显影处理；
在所述基材的另一表面进行曝光银胶的涂覆处理；
对所述曝光银胶进行预烘烤处理，获得曝光银胶层；
对所述曝光银胶层进行曝光、显影处理；
对所述曝光银胶层进行固烤处理。
7.如权利要求6所述的GF2结构触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述缩水处理的温度为145～155℃，所述叠设有纳米银层的基材在所述缩水处理中的移动速度为1.2～1.7m/min；和/或，所述干膜曝光的光能量为45～55mj/cm2；所述曝光的光为波长在315～400nm的UV光。
8.如权利要求6所述的GF2结构触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述预烘烤的温度为100～120℃；所述基材在预烘烤中移动速度为3.0～4.0m/min；和/或，所述曝光银胶层的曝光能量为350～4505mj/cm2；所述曝光的光为波长在315～400nm的UV光。
9.如权利要求6所述的GF2结构触摸屏的制造工艺，其特征在于：所述显影中显影液的浓度为0.120％～0.150％，所述显影速度为3.0～5.0m/min；和/或，所述固烤温度为135～145℃；所述固烤时间为50～70min。
10.如权利要求6所述的GF2结构触摸屏的制造工艺，其特征在于：还包括在所述曝光银胶层表面或纳米银层表面贴附透明光学双面胶；以及，在所述透明光学双面胶表面贴附盖板玻璃。