一种触控基板及显示装置的制作方法

本实用新型涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控基板及显示装置。

背景技术：

近年来，随着电子设备操控性的提升和电子技术的发展，触控屏技术在手机、平板、笔记本电脑等电子设备中有了广泛的应用。触摸技术的发展出现了电阻、电容、电磁等不同的技术方向；电容屏凭借低廉的成本和优异的用户体验已成为主流产品。

一体化触控(One Glass Solution，简称OGS)技术是指在盖板玻璃的触控区形成触控结构，在走线区形成驱动触控结构的走线。盖板玻璃同时起到保护功能和触控功能的双重作用。

由于走线区空间有限，设置在走线区的走线密集分布，当环境中存在微粒时，容易造成走线的断开。尤其随着窄边框的发展，使得设置在走线区的走线排布的更加密集，因而发生走线断开的机率更高，从而严重影响产品的良率。

技术实现要素：

本实用新型的实施例提供一种触控面板及显示装置，可降低走线断开的风险，提高产品的良率。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种触控基板，包括衬底，所述衬底包括触控区和走线区；所述触控区设置有触控结构，所述触控结构包括相互绝缘且交叉设置的第一触控电极和第二触控电极；所述走线区设置有与所述第一触控电极电连接的走线和与所述第二触控电极电连接的走线；至少一条所述走线包括层叠设置的第一子走线和第二子走线；所述走线区还包括绝缘层，所述绝缘层设置在所述第一子走线和所述第二子走线之间，同一条所述走线的所述第一子走线和所述第二子走线通过设置在所述绝缘层上的多个镂空区电连接。

优选的，相邻排沿所述走线方向设置的所述镂空区交错排布。

优选的，所述第一触控电极在与所述第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接；所述搭桥与所述第二触控电极通过绝缘块隔离。

进一步优选的，所述第一子走线为透明导电走线，且与所述第二触控电极通过一次构图工艺形成。

优选的，所述绝缘层为第一涂覆保护层；所述绝缘块与所述第一涂覆保护层通过一次构图工艺形成。

优选的，所述第二子走线与所述搭桥通过一次构图工艺形成。

进一步优选的，所述搭桥和所述第二子走线的材料为金属材料。

进一步优选的，所述触控基板还包括设置在所述触控区和所述走线区，且位于所述触控结构以及所述走线远离所述衬底一侧的氮氧化硅层。

优选的，所述触控基板还包括设置在所述走线区，且位于所述走线远离所述衬底一侧的第二涂覆保护层。

另一方面，提供一种显示装置，包括显示面板，以及设置在所述显示面板出光侧的触控基板，所述触控基板为上述的触控基板。

本实用新型实施例提供一种触控基板及显示装置，通过将走线区的走线设置为包括第一子走线和第二子走线的两层结构，且第一子走线与第二子走线通过设置在两者之间的绝缘层的多个镂空区连接，可以当第一子走线或第二子走线中某一子走线出现断开时，使断开子走线上的电信号可以通过另一子走线进行传递，从而可有效降低走线断开对产品良率带来的影响。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的一种触控基板的俯视示意图一；

图2为图1中AA′向的剖面示意图；

图3(a)为本实用新型实施例提供的一种绝缘层上设置镂空区的示意图一；

图3(b)为本实用新型实施例提供的一种绝缘层上设置镂空区的示意图二；

图4(a)为本实用新型实施例提供的一种绝缘层上设置镂空区的示意图三；

图4(b)为本实用新型实施例提供的一种绝缘层上设置镂空区的示意图四；

图5为图1中BB′向的剖面示意图；

图6为本实用新型实施例提供的一种触控基板的俯视示意图二；

图7为图6中CC′向的剖面示意图；

图8为本实用新型实施例提供的一种触控基板的俯视示意图三；

图9为图8中DD′向的剖面示意图。

附图标记：

10-衬底；100-触控区；110-触控结构；111-第一触控电极；112-第二触控电极；200-走线区；210-走线；211-第一子走线；212-第二子走线；220-绝缘层；221-镂空区；230-遮光层；300-绝缘块；400-搭桥；500-氮氧化硅层；600-第二涂覆保护层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例提供一种触控基板，如图1-图2所示，包括衬底10，衬底10包括触控区100和走线区200；触控区100设置有触控结构110，触控结构110包括相互绝缘且交叉设置的第一触控电极111和第二触控电极112；走线区200设置有与第一触控电极111电连接的走线210和与第二触控电极112电连接的走线210；至少一条走线210包括层叠设置的第一子走线211和第二子走线212；走线区200还包括绝缘层220，绝缘层220设置在第一子走线211和第二子走线212之间，同一条走线210的第一子走线211和第二子走线212通过设置在绝缘层220上的多个镂空区221电连接。

其中，如图2所示，走线区200还可以包括遮光层230，所述走线210和绝缘层220设置在遮光层230上。遮光层230可以是黑色遮光层或白色遮光层。

需要说明的是，第一，不对触控结构110的具体结构进行限定，只要能实现触控功能即可。图1中触控结构110仅为示意。

第二，触控区100即为当所述触控基板应用在显示装置时，用于画面显示的区域，走线区200位于触控区100的外围。

第三，第一子走线211和第二子走线212层叠设置，可以是第一子走线211位于第二子走线212的上方，或第二子走线212位于第一子走线211的上方。

其中，第一子走线211的材料为透明导电材料或金属材料；第二子走线212的材料为透明导电材料或金属材料。

在此基础上，第一子走线211和第二子走线212的材料可以相同，也可以不同，在此不做具体限定。

第四，不对绝缘层220的结构进行限定，只要可以使每条走线210中的第一子走线211和第二子走线212都能通过多个镂空区221电连接即可。

示例的，如图3(a)和图3(b)所示，绝缘层220可以整层设置，在此基础上，沿每条走线210方向，设置多个镂空区221，以使每条走线210中的第一子走线211和第二子走线212(图3(a)和图3(b)中未标识出第二子走线212)都能通过多个镂空区221电连接。

或者，如图4(a)和图4(b)所示，绝缘层220分割为多个绝缘条，每个绝缘条与一条走线210对应；所述绝缘条通过多个镂空区221断开为多个部分，每条走线210中的第一子走线211和第二子走线212(图4(a)和图4(b)中未标识出第二子走线212)通过将绝缘条断开为多个部分的镂空区221电连接。

其中，本实用新型实施例不对镂空区221的形状进行限定，例如可以是过孔，或其他形状，只要能使第一子走线211和第二子走线212在镂空区221接触而电连接即可。

本实用新型实施例提供一种触控基板，通过将走线区200的走线210设置为包括第一子走线211和第二子走线212的两层结构，且第一子走线211与第二子走线212通过设置在两者之间的绝缘层220的多个镂空区221连接，可以当第一子走线211或第二子走线212中某一子走线出现断开时，使断开子走线上的电信号可以通过另一子走线进行传递，从而可有效降低走线断开对产品良率带来的影响。

优选的，如图3(a)和图4(a)所示，相邻排沿走线210方向设置的镂空区221交错排布。

即对于沿某条走线210方向排布的一排镂空区221，至少与该一排镂空区221相邻的另一排镂空区221交错排布。

需要说明的是，相邻排沿走线210方向设置的镂空区221交错排布，并不仅仅限定于相邻的两排沿走线210方向设置的镂空区221交错排布，也可以是相邻的多排沿走线210方向设置的镂空区221交错排布。

考虑到当镂空区221按图3(b)和图4(b)的方式设置时，可能在微粒尺寸较大时，使微粒同时位于沿垂直于走线210方向上排布的至少两个镂空区221，从而导致至少两条走线210中的子走线在此处断开连接，而将相邻排沿走线210方向设置的镂空区221交错排布，可避免由于微粒尺寸大，而同时导致上述至少两条走线210的子走线断开连接。

优选的，如图1所示，第一触控电极111在与第二触控电极112交叉的区域通过搭桥400电连接；搭桥400与第二触控电极112通过绝缘块300隔离。

即，绝缘块300设置于搭桥400与第二触控电极112之间。

其中，第一触控电极111除搭桥400外的部分和第二触控电极112的材料均为透明导电材料，例如ITO(氧化铟锡)、IZO(铟锌氧化物)等。第一触控电极111可以由多个菱形子电极连接构成、多个条形子电极连接构成、多个十字形子电极连接构成或多个雪花型子电极连接构成等；第二触控电极112可以由多个菱形子电极连接构成、多个条形子电极连接构成、多个十字形子电极连接构成或多个雪花型子电极连接构成等。图1以第一触控电极111和第二触控电极112均由多个菱形子电极连接构成进行示意。

需要说明的是，不对搭桥400相对第二触控电极112的位置进行限定，搭桥400可以位于第二触控电极112与衬底10之间，也可以设置在第二触控电极112远离衬底10一侧。

本实用新型实施例将第一触控电极111在交叉区域通过搭桥400电连接，搭桥400与第二触控电极112通过绝缘块300隔离得到触控结构110，工艺成熟，触控性能较好。

进一步优选的，如图5所示，第一子走线211为透明导电走线，且与第二触控电极112通过一次构图工艺形成。

当然，第一触控电极111的除搭桥400外的部分也与第二触控电极112通过一次构图工艺形成。

本实用新型实施例在形成第二触控电极112和第一触控电极111的除搭桥400外的部分的同时，形成第一子走线211，可以避免构图工艺次数的增加，降低制备成本。

优选的，如图5所示，绝缘层220为第一涂覆保护层(Over Coating，简称OC)；绝缘块300与第一涂覆保护层通过一次构图工艺形成。

优选的，如图5所示，第二子走线212与搭桥400通过一次构图工艺形成。

本实用新型实施例通过在形成绝缘块300的同时形成第一涂覆保护层，在形成搭桥400的同时形成第二子走线212，可以避免构图工艺次数的增加，降低制备成本。

由于金属材料的电阻相对于透明导电材料较小，因此，优选的，搭桥400和第二子走线212的材料为金属材料。

当搭桥400为金属材料时，在触控基板应用于显示装置时，显示屏上会有模糊的搭桥400的图像，为了降低显示屏上搭桥400的显像度，优选的，如图6和图7所示，所述触控基板还包括设置在触控区100和走线区200，且位于所述触控结构110以及所述走线210远离所述衬底10一侧的氮氧化硅层500。

其中，氮氧化硅层500的厚度可以为

优选的，如图8-图9所示，所述触控基板还包括设置在走线区200，且位于走线210远离衬底10一侧的第二涂覆保护层600。

这样，当不设置氮氧化硅层500时，通过第二涂覆保护层600，可对金属材料的走线进行保护，避免受环境湿度影响对金属走线造成腐蚀。

基于上述描述，触控基板可通过4次构图工艺制备得到。即：通过一次构图工艺形成遮光层230；通过一次构图工艺形成第二触控电极112、第一触控电极111的除搭桥400外的部分、以及第一子走线211；通过一次构图工艺形成绝缘层220和绝缘块300；通过一次构图工艺形成搭桥400与第二子走线212。

在此基础上，还可形成氮氧化硅层500，其无需采用构图工艺。

当然，触控基板也可通过5次构图工艺制备得到。即：通过一次构图工艺形成遮光层230；通过一次构图工艺形成第二触控电极112、第一触控电极111的除搭桥400外的部分、以及第一子走线211；通过一次构图工艺形成绝缘层220和绝缘块300；通过一次构图工艺形成透明导电材料的搭桥400；通过一次构图工艺形成金属材料的第二子走线212。

此外，触控基板也可通过6次构图工艺制备得到。即：在上述5次构图工艺基础上，在形成遮光层230之前，通过一次构图工艺在走线区200形成第三涂覆保护层。第三涂覆保护层可对衬底玻璃起强化作用。

在上述4、5、6次构图工艺基础上，还可通过一次构图工艺形成第二涂覆保护层600。

本实用新型实施例还提供一种显示装置，包括显示面板，以及设置在所述显示面板出光侧的触控基板，所述触控基板为上述触控基板。

其中，显示面板和触控基板可通过OCR(Optical Clear Resin，光学透明胶)连接。

本实用新型实施例提供一种显示装置，通过将触控基板的走线区200的走线210设置为包括第一子走线211和第二子走线212的两层结构，且第一子走线211与第二子走线212通过设置在两者之间的绝缘层220的多个镂空区221连接，可以当第一子走线211或第二子走线212中某一子走线出现断开时，使断开子走线上的电信号可以通过另一子走线进行传递，从而可有效降低走线断开对产品良率带来的影响。

优选的，所述显示面板为液晶显示面板或有机电致发光二极管显示面板。

当显示面板为液晶显示面板时，其包括阵列基板、对盒基板以及设置在二者之间的液晶层。其中，阵列基板可以包括TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)，与TFT的漏极电连接的像素电极；进一步的还可以包括公共电极。对盒基板可以包括黑矩阵和彩膜。此处，彩膜可以设置在对盒基板上，也可设置在阵列基板上；公共电极可以设置在阵列基板上，也可设置在对盒基板上。

当显示面板为有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)显示面板时，其包括阵列基板和封装基板。其中，阵列基板可以包括TFT，与TFT的漏极电连接的阳极、阴极、以及位于阳极和阴极之间的有机材料功能层。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。