一种外挂式低反射率电容式触摸屏的制作方法

文档序号:16262236发布日期:2018-12-14 21:39阅读:721来源:国知局
一种外挂式低反射率电容式触摸屏的制作方法

本发明涉及电容式触摸屏技术领域,具体涉及一种外挂式低反射率电容式触摸屏。

背景技术

随着车载显示技术的发展,对显示器的应用日益广泛,且对显示效果要求不断提高。为了提高客户体验,车载中控显示屏一般会增加外挂式电容式触摸屏。

由于车辆经常在高亮度环境中使用,触摸显示模组的抗反射特性的强弱直接影响到客户的使用体验。对于抗反射性能好的触摸显示模组,人们看到的图像更清晰,色彩更鲜艳。而抗反射性能不佳的触摸显示模组,图像变得不清晰,色彩不鲜艳。为减少触摸显示模组的反射,有各种减反射方案出来。

现有最优化的减反射方法应属光学全贴合方法,并将触摸屏表面在进行减反射处理,包括表面进行抗反射镀膜(ar镀膜)或者贴合抗反射膜(arfilm),可使整个触摸显示模组的反射率降低到2%~3%。但若希望进一步降低反射率,则触摸屏本身的内部反射率也要进一步降低。

电容式触摸屏,在触摸基板玻璃上沉积一层氧化铟膜(ito膜),在图案(sensor)制作后端,会将ito膜层制作成相应的图案,使之形成触摸功能。由于ito折射率和玻璃基板及与保护盖板贴合的光学胶的差异较大,ito形成双面反射层,导致约有1.5%~3%的反射率;通过限制ito膜厚和ito折射率可以将其限制在1%以内。而由于ito膜厚减少,阻抗会增加,影响触摸性能,所以不可以无限制的减少,对总体反射率要求高时,此程度的反射已经不能忽略。



技术实现要素:

本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供了一种外挂式低反射率电容式触摸屏。该触摸屏能有效降低触摸屏的ito反射率,同时降低ito图案的可见性。

本发明的目的通过如下技术方案实现。

一种外挂式低反射率电容式触摸屏,包括玻璃基板、ito导电层、光学胶层以及保护盖板;所述ito导电层、光学胶层和保护盖板从下向上依次叠置在玻璃基板上;所述ito导电层的上下两侧各自分别设有至少一个光学匹配层,所述光学匹配层紧邻所述ito导电层设置。

优选的,所述光学匹配层包括第一光学匹配层和第二光学匹配层,所述第一光学匹配层和第二光学匹配层各自分别紧邻设置在所述ito导电层的上下两侧。

第一光学匹配层设置在玻璃基板与ito导电层之间,第二光学匹配层设置ito导电层与光学胶层之间,且均为紧邻接触ito导电层的设置,在降低触摸屏的ito反射率的同时降低ito图案的可见性。

优选的,所述光学匹配层均为中折射率材料沉积层。

更优选的,所述中折射率材料沉积层的厚度为72~102nm,优选为85~90nm,更优选为87nm。

更优选的,所述中折射率材料沉积层的折射率为1.58~1.78,优选为1.68。

更优选的,所述中折射率材料沉积层的材料包括al2o3。

优选的,所述ito导电层的厚度为30~60nm,优选为35nm,折射率为1.9~2.1,优选为2.0。

优选的,上述任一项所述的一种外挂式低反射率电容式触摸屏中,所述第一光学匹配层与第二光学匹配层之间部分接触。

与现有技术相比,本发明具有如下优点和有益效果:

本发明在电容式触摸屏的ito导电层的双面设置光学匹配层,对ito导电层进行折射率匹配处理,且光学匹配层的材料均采用中折射率材料,能有效降低触摸屏的ito反射率,使电容式触摸屏内部的反射率由1.5%~3.0%的反射率降低至0.1%以下,同时降低ito图案的可见性。

附图说明

图1为具体实施例中本发明的外挂式低反射率电容式触摸屏的结构示意图;

图2为具体实施例中本发明的光学匹配层之间相互有接触的外挂式低反射率电容式触摸屏的结构示意图;

图3为实施例1中反射率随两个中折射率材料沉积层的厚度变化的示意图;

图4为传统电容式触摸屏的光学胶层-ito导电层-玻璃基板反射率的结构示意图;

附图标注:玻璃基板1、第一光学匹配层2、ito导电层3、第二光学匹配层4、光学胶层5、保护盖板6。

具体实施方式

以下结合具体实施例及附图对本发明的技术方案作进一步详细的描述,但本发明的保护范围及实施方式不限于此。

具体实施例中,本发明的外挂式低反射率电容式触摸屏的结构示意图如图1所示,该触摸屏包括玻璃基板1、ito导电层3、光学胶层5以及保护盖板6;ito导电层3、光学胶层5和保护盖板6从下向上依次叠置在玻璃基板1上;ito导电层3的上下两侧分别设有第一光学匹配层2和第二光学匹配层4,第一光学匹配层2和第二光学匹配层4紧邻ito导电层3设置。

其中,第一光学匹配层2和第二光学匹配层4均为中折射率材料沉积层,中折射率材料沉积层的厚度均为72~102nm,折射率均为1.58~1.78,中折射率材料沉积层的材料均为al2o3。

上述的外挂式低反射率电容式触摸屏中,ito导电层3的厚度为30~60nm,折射率为1.9~2.1。

如图2所示,一种外挂式低反射率电容式触摸屏,与上述电容式触摸屏相同,其中不同在于,第一光学匹配层2与第二光学匹配层4之间部分接触。

实施例1

一种外挂式低反射率电容式触摸屏,结构参见图1所示,其中,ito导电层的折射率=2.0,厚度=35nm;第一光学匹配层2和第二光学匹配层4为中折射率材料沉积层均为al2o3,其折射率=1.68,厚度=87nm。

该外挂式低反射率电容式触摸屏的光学胶层-ito导电层-玻璃基板反射率(r1+r2)随中折射率材料沉积层2的厚度(厚度1)及中折射率材料沉积层4的厚度(厚度2)变化图如图3所示,由图3可知,反射率(r1+r2)由原来1.5%(如图4所示的结构)减少到0.089%,同时无ito区域的反射率也降低到0.1%,降低了ito图案的可见性。

实施例2

一种外挂式低反射率电容式触摸屏,结构参见图2所示,其中,ito导电层的折射率=1.9,厚度=60nm;第一光学匹配层2和第二光学匹配层4为中折射率材料沉积层均为al2o3,其折射率=1.58,厚度=102nm。

该外挂式低反射率电容式触摸屏的光学胶层-ito导电层-玻璃基板反射率(r1+r2)随中折射率材料沉积层2的厚度(厚度1)及中折射率材料沉积层4的厚度(厚度2)变化图参见图3所示,反射率(r1+r2)由原来2.3%(如图4所示的结构)减少到0.09%,同时无ito区域的反射率也降低到0.1%,降低了ito图案的可见性。

实施例3

一种外挂式低反射率电容式触摸屏,结构参见图1所示,其中,ito导电层的折射率=2.1,厚度=30nm;第一光学匹配层2和第二光学匹配层4为中折射率材料沉积层均为al2o3,其折射率=1.78,厚度=72nm。

该外挂式低反射率电容式触摸屏的光学胶层-ito导电层-玻璃基板反射率(r1+r2)随中折射率材料沉积层2的厚度(厚度1)及中折射率材料沉积层4的厚度(厚度2)变化图参见图3所示,反射率(r1+r2)由原来3.0%(如图4所示的结构)减少到0.07%,同时无ito区域的反射率也降低到0.1%,降低了ito图案的可见性。

由实施例1~3可知,本发明外挂式低反射率电容式触摸屏的光学胶层-ito导电层-玻璃基板反射率(r1+r2)随中折射率材料沉积层2的厚度(厚度1)及中折射率材料沉积层4的厚度(厚度2)变化而变化,反射率(r1+r2)由原来1.5~3.0%(如图4所示的结构)减少到0.1%以下,同时无ito区域的反射率也降低到0.1%,降低了ito图案的可见性。

以上实施例仅为本发明的较优实施例,仅在于对本发明的技术方案作进一步详细的描述,但本发明的保护范围不限于此,任何未脱离本发明精神实质所做的变更、组合、删除、替换或修改等均将包含在本发明的保护范围内。

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