乙二醋(PolyethyleneTerephthalate, PET)、聚甲基丙稀酸甲醋(Polymethyl methacrylate, PMMA)、聚丙稀(polypropylene，PP)及聚苯乙稀(polystyrene，PS)等。透明基体30的厚度d为100 μπι?150 μπι 左右。
[0055]另外，透明基体30为至少一层即可。
[0056]配线层34a及配线层34b具有相同或同样的配线图案35，且以下层的配线层34b的金属细线32位于上层的配线层34a的相邻的两根金属细线32之间的方式，将下层的配线层34b相对于上层的配线层34a偏移相位地配置。例如下层的配线层34b是相对于上层的配线层34a偏移一半(1/2)间距地配置。具体而言，如图2(a)所示，以下层的配线层34b的金属细线32位于上层的配线层34a的相邻的两根金属细线32之间的中心的方式配置。在本说明书中，将此种配线层34a及配线层34b的配置状态称为下层的配线层34b相对于上层的配线层34a成为嵌套的状态。即，下层的配线图案35是相对于上层的配线图案35偏移相位地配置，而成为嵌套。
[0057]配线层34a及配线层34b在总称时以配线层34表示，但例如图2(b)所示，具有利用多根金属细线32而形成为网状且排列有多个开口部36的配线图案35。
[0058]构成配线层34 (配线层34a及配线层34b)的金属细线32只要为导电性高的金属制细线，则无特别限定，例如可列举包含金(Au)、银(Ag)或铜(Cu)线材等者。金属细线32的线宽就可见性的方面而言优选为线宽较细者，但例如若为30 μπι以下即可。再者，在触摸屏用途中，金属细线32的线宽优选为0.1 μπι以上、15 μm以下，更优选为I μπι以上、9 μπι以下，进而优选为2 ym以上、7ym以下。
[0059]在图2(b)所示的例中，配线层34中的开口部36的网形状为菱形，但本发明并不限定于此，若可构成相对于下述规定的BM图案将叠纹可见性最佳化的配线层34，且若为具有至少三边的多边形状，则任意形状均可。另外，配线层34可为同一网形状，也可为不同的网形状，例如可列举正三角形或等腰三角形等三角形、正方形或长方形等四边形(矩形)、五边形或六边形等同一或不同的多边形等。
[0060]在图1所示的触控传感器12中，在导电膜18的透明基体30(参照图2(a))的背面30b(参照图2(a))，以覆盖配线层34b(参照图2(a))的方式设置有第I粘着层16。再者，也可变为第I粘着层16而设置PET膜等树脂膜或玻璃板等。在此情形时，将触控传感器12的导电膜18介隔树脂膜或玻璃板而设置于显示单元14的液晶显示胞26的显示面。[0061 ] 在透明基体30 (参照图2 (a))的表面30a (参照图2 (a))，以覆盖配线层34a (参照图2(a))的方式设置有第2粘着层20 (参照图1)。
[0062]作为第I粘着层16、第2粘着层20的材料，若为具有粘着性或粘合性的树脂材料即可，可列举湿式层合(wet laminate)粘合剂、干式层合(dry laminate)粘合剂、或热恪(hot melt)粘合剂等。
[0063]再者，第I粘着层16、及第2粘着层20可为同一材质，也可为不同材质。
[0064]在第2粘着层20上设置有保护层22。该保护层22是用以保护导电膜18者，且与上述的透明基体30同样地包含含有树脂、玻璃或硅等的透光性高的材料，例如包括透明的树脂膜或玻璃板等。保护层22的折射率nl优选为等于或接近于透明基体30的折射率n0的值。在此情形时，透明基体30对于保护层22的相对折射率nrl成为接近I的值。
[0065]此处，本说明书中的折射率意指波长589.3nm(钠(sodium)的D线)的光的折射率，例如在树脂中，以作为国际标准规格的国际标准组织(Internat1nal Organizat1nfor Standardizat1n, ISO) 14782: 1999 (与日本工业标准(Japanese IndustrialStandard，JIS)K 7105对应)定义。另外，透明基体30对于保护层22的相对折射率nrl是以nrl= (nl/ηθ)定义。此处，相对折射率nrl若处于0.86以上、1.15以下的范围内即可，更优选为0.91以上、1.08以下。
[0066]可通过将相对折射率nrl的范围限定于该范围内，控制透明基体30与保护层22的构件间的光的透过率，而进一步提升、改善叠纹的可见性。
[0067]第2粘着层20的折射率n2及第I粘着层16的折射率n3均为等于或接近于透明基体30的折射率n0的值。在此情形时，透明基体30对于第2粘着层20的相对折射率nr2及透明基体30对于第I粘着层16的相对折射率nr3均为接近I的值。此处，折射率及相对折射率的定义是如上述定义所述。因此，透明基体30对于第2粘着层20的相对折射率nr2是以nr2= (n2/n0)定义，透明基体30对于第I粘着层16的相对折射率nr3是以nr3=(n3/n0)定义。
[0068]此处，相对折射率nr2及相对折射率nr3与上述相对折射率nrl同样地处于0.86以上、1.15以下的范围内即可，更优选为0.91以上、1.08以下。
[0069]再者，可通过将相对折射率nr2、及相对折射率nr3的范围限定于该范围内，而与相对折射率nrl的范围限定同样地进一步提升叠纹的可见性。
[0070]导电膜18的配线层34a及配线层34b是经由电缆21而电性连接于包括形成于可挠性(flexible)基板(未图示)上的电子电路的检测控制部23。
[0071]可挠性基板是具有可挠性的电子基板。检测控制部23是配置于背光单元24的下侦牝但该配置位置并无特别限定，可根据显示装置10的构成进行各种变更。
[0072]检测控制部23是检测在形成有配线层34a及配线层34b的区域，使作为导体的接触体(未图示)自外部与导电膜18接触的位置。例如若导电膜18为静电电容方式，则检测控制部23包括如下的电子电路，该电子电路捕捉接触或接近时的接触体与导电膜18之间的静电电容的变化，从而检测该接触位置或近接位置。
[0073]再者，图2 (a)所示的导电膜18是在透明基体30的两面分别包括配线层34a及配线层34b者，但本发明并不限定于此。例如也可为如图3所示的导电膜18a般的导电膜，该导电膜构成为如下:层叠多个仅在透明基体30的表面30a、即仅在其中一个面形成有配线层34 (配线层34c及配线层34d)的导电膜要素19 (导电膜要素19a及导电膜要素19b)。如此般，在为层叠有多层导电膜要素19的导电膜18a的情形时，分别具有相同或同样的配线图案35的配线层34 (配线层34c及配线层34d)是如上所述全部相同或同样的配线图案35，且将上层的配线层34 (配线层34c或配线层34d)以相对于下层的配线层34 (配线层34d或配线层34c)成为嵌套的状态的方式偏移相位地配置。
[0074]具体而言，如图3所示，自上而下为第奇数k(2n_l:n=自然数(1、2、…个导电膜要素19a的配线层34全部包含同一构成的配线层34c，且自上而下为第偶数k (2n:n =自然数(1、2、…个导电膜要素19b的配线层34全部包含同一构成的配线层34d，但配线层34c相对于配线层34d，以偶数层的配线层34d的金属细线32位于奇数层的配线层34c的相邻的两根金属细线32之间，优选为位于其中心的方式，偏移相位地配置。再者，配线层34d相对于配线层34c，同样地偏移相位地配置。
[0075]配线层34、即配线层34c及配线层34d分别为与配线层34a及配线层34b相同的构成，故而省略其详细说明。
[0076]再者，关于配线层34的层叠数，不论在使用在透明基体30的两面分别形成有配线层34a及配线层34b的导电膜18的情形时、还是在使用层叠有仅在透明基体30的其中一个面形成有配线层34的导电膜要素19 (导电膜要素19a、导电膜要素19b)的导电膜18a的情形时，均并无特别限定，可根据作为触控传感器、或触摸屏所要求的规格，适当地进行选择。
[0077]导电膜18、导电膜18a可为静电电容方式及电阻膜方式中的任一种方式，另外，也可为组合静电电容方式及电阻膜方式者。
[0078]在以下的说明中，主要以导电膜18为代表例进行说明，但当然也可适用于导电膜18a0
[0079]如上所述，显示单元14例如包括背光单元24及液晶显示胞26。
[0080]背光单元24可适当利用与液晶显示胞26对应的公知者，且并不限定于边缘照明(edge light)(侧光(side light)、或导光板)方式的背光，当然也可为正下方型。
[0081]另外，关于液晶显示胞26，也可用作显示单元14的显示面板，故而只要具备规定的像素阵列图案，则可适当利用公知者。再者，作为本发明中使用的显示面板，并不限定于液晶显示胞26，也可使用等离子体显示面板(PDP:Plasma Display Panel)、有机电致发光显不面板(OELD:Organic ElectroLuminescence Display Panel)、及无机电致发光显不面板(Inorganic ElectroLuminescence Display Panel)等显不面板。作为背光单元 24，可适当利用与所使用的显示面板对应者。因此，根据显示面板，也可无需设置背光单元24。
[0082]图4是表示应用本发明的导电膜的液晶显示胞的一部分像素阵列图案的一例的示意图。
[0083]如图4中表示其一部分般，在液晶显示胞26中，将多个像素40排列成矩阵(matrix)状，构成规定的像素阵列图案。一个像素40是使三个子像素(subpixel)(红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b)排列于水平方向而构成。一个子像素是形成为在垂直方向上设为纵长的长方形状。像素40的水平方向的排列间距(水平像素间距Ph)与像素40的垂直方向的排列间距(垂直像素间距Pv)大致相同。即，包含一个像素40与包围该一个像素40的黑色矩阵(BM)42的形状(参照以影线表示的区域44)成为正方形。另外，一个像素40的长宽比(aspect rat1)并非为1，而成为水平方向(横向)的长度>垂直方向(纵向)的长度。
[0084]根据图4可明确，包括多个像素40的各个红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b的像素阵列图案是利用分别包围这些红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b的BM 42的BM图案46来规定，且将液晶显示胞26与导电膜18重叠时产生的叠纹是因液晶显示胞26的BM 42的BM图案46与导电膜18的配线层34的干涉而产生，故而，严格而言，BM图案46是像素阵列图案的反转图案，但在此处作为表示相同的图案者处理。
[0085]在具有