(其通过蚀刻工艺形成在触摸区 域TA中）被去除。因为低阻布线层21q和22q具有低透射率，所以低阻布线层21q和22q 被去除以提高触摸区域TA的透射率。
[0069] 因为形成在外围区域PA中的第一驱动电路布线23被外围光敏膜图案PR1'覆盖， 所以第一驱动电路布线23的低阻布线层23q在蚀刻工艺期间没有被去除。因而，第一和第 二触摸电极图案21和22分别形成为包括透明导电布线层21p和22p的单层，第一驱动电 路布线23形成为具有透明导电布线层23p和低阻布线层23q的双层。
[0070] 接下来，如图9和图10所示，形成在外围区域PA中的外围光敏膜图案PR1'被去 除。然后，绝缘层30形成在第一驱动电路布线23、第一触摸电极图案21以及第二触摸电极 图案22上。绝缘层30能够由具有大约50A至大约500A的厚度的硅氮化物（SiNx)或者 硅氧化物（Si02)形成。
[0071] 然后，通过利用光刻工艺，触摸绝缘构件31通过图案化在触摸区域TA中形成的绝 缘层30而形成在第一触摸电极图案21的第一触摸重叠部分25上。
[0072] 接下来，如图1和图2所示，连接线51通过利用透明导电氧化物诸如铟锡氧化物 (IT0)、铟锌氧化物（IZ0)、锌氧化物（ZnO)或者铟氧化物（ln203)而形成在触摸绝缘构件31 和第二触摸电极图案22上。连接线51接触第二触摸电极图案22,使得其互连分离的第二 触摸电极图案22。
[0073] 同时，在上述的示例性实施方式中，因为用于蚀刻连接线51的氧化剂通常蚀刻形 成第一和第二触摸电极图案21和22的银纳米线（AgNW)，所以难以唯一地蚀刻连接线51而 不损坏第一和第二触摸电极图案2lp和22p。在另一不例性实施方式中，连接线51被唯一 地蚀刻而不损坏第一和第二触摸电极图案。虽然未示出，但是第二驱动电路布线24可以在 与第一驱动电路布线23相同的工艺期间由相同的材料形成。
[0074] 图11是根据另一示例性实施方式的触摸屏面板的布局图。图12是图11的触摸 屏面板的沿线XII'-XII'和XII" -XII"截取的截面图。
[0075] 如图11和图12所示，触摸屏面板包括具有触摸区域TA和围绕触摸区域TA的外围 区域PA的基板110。触摸屏面板还包括第一触摸电极图案121，第一触摸电极图案121形 成在触摸区域TA中，在第一方向上延伸，并且传送第一触摸信号。多个第二触摸电极图案 122形成在触摸区域TA中，在与第一方向交叉的第二方向上延伸，并且传送第二触摸信号。 触摸屏面板还包括第一驱动电路布线123和第二驱动电路布线124,第一驱动电路布线123 形成在外围区域PA中并且电连接到第一触摸电极图案121，第二驱动电路布线124形成在 外围区域PA并电连接到第二触摸电极图案122。
[0076] 基板110可以是由玻璃、石英、陶瓷或者塑料形成的绝缘基板。当附接到显示装置 的顶表面时，基板110可以由具有优良的透射率的材料形成。
[0077] 触摸区域TA指的是感测使用者的触摸并将其转换成电信号的区域，外围区域PA 指的是不包括第一和第二触摸电极图案121和122的区域。
[0078] 在一些实施方式中，第一触摸电极图案121是其中菱形的电极图案在第一方向 (例如坚直方向）上互连并且用于感测x轴坐标值的第一触摸信号通过其被传送的接收器 电极图案。这些第一触摸电极图案121具有互连菱形的电极图案的第一触摸重叠部分25。
[0079] 在一些实施方式中，第二触摸电极图案122彼此间隔开，每个第二触摸电极图案 122具有菱形的电极图案。连接线151形成为互连相邻的第二触摸电极图案122。在一些 实施方式中，第二触摸电极图案122形成用于感测y轴坐标值的第二触摸信号通过其被传 送的发送器电极图案。
[0080] 第一和第二触摸电极图案121和122感测使用者的触摸的坐标值并且通过第一和 第二驱动电路布线123和124将坐标值分别传送到外部驱动电路，由此产生作为电信号的 坐标值。
[0081] 第一触摸电极图案121包括顺序地层叠的第一透明导电布线层121p和第二透明 导电布线层121q，第二触摸电极图案122包括顺序地层叠的第一透明导电布线层122p和 第二透明导电布线层122q，第一驱动电路布线123包括顺序地层叠的第一透明导电布线层 123p、第二透明导电布线层123q和低阻布线层123r。
[0082] 第一透明导电布线层121P、122P和123P可以包含银纳米线（AgNW)，第二透明导 电布线层121q、122q和123q可以包含透明导电氧化物诸如铟锡氧化物（IT0)、铟锌氧化物 (IZ0)、锌氧化物（ZnO)或者铟氧化物（ln203)，低阻布线层121r、122r和123r可以包含从 铜和银选出的一种材料。
[0083] 第一驱动电路布线123形成在外围区域中，并且可以由具有低透射率的低阻布线 层1231诸如铜或银形成。如上所述，第一驱动电路布线123的导电性能够通过在外围区域 PA中将第一驱动电路布线123形成为包括低阻布线层123r而提高。形成在外围区域PA中 的第一驱动电路布线123被绝缘层130覆盖，绝缘层130形成于在触摸区域TA中形成的第 一和第二触摸电极图案121和122之间的暴露的基板110上。也就是，绝缘层130不形成 在第一和第二触摸电极图案121和122上。
[0084] 外围绝缘构件142形成于在外围区域PA中形成的绝缘层130上，触摸绝缘构件 141形成在第一触摸电极图案121的第一触摸重叠部分25上。触摸绝缘构件141形成在 第一触摸电极图案121与连接线151之间以使第一触摸电极图案121与第二触摸电极图案 122绝缘。
[0085] 连接线151形成在触摸绝缘构件141上并且接触第二触摸电极图案122的第二透 明导电布线层122q，使得其互连分离的第二触摸电极图案122。连接线151可以包含透明导 电氧化物诸如铟锡氧化物（IT0)、铟锌氧化物（IZ0)、锌氧化物（ZnO)或者铟氧化物（ln203)。
[0086] 连接线151的蚀刻速率可以高于第二透明导电布线层121q和122q的蚀刻速率。 因此，连接线151能够被唯一地蚀刻，而不损坏形成在第一和第二触摸电极图案121和122 上的第二透明布线层121q和122q。
[0087] 为此，在一些实施方式中，连接线151具有比第二透明导电布线层121q和122q高 的铟含量。连接线151的铟含量可以为大约90%至大约95%，而第二透明导电布线层121q 和122q的铟含量可以为大约1 %至大约50%。
[0088] 现在将参考附图详细描述根据另一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法。
[0089] 图13、15、17、19、21和23是顺序地示出根据另一示例性实施方式的制造触摸屏面 板的方法的布局图。图14、16、18、20、22和24是图13、15、17、19、21和23的触摸屏面板的 相应截面图。
[0090] 首先，如图13和图14所示，第一透明导电层120p、第二透明导电层120q、低阻层 120r和光敏膜（PR3和PR4)顺序地形成在具有触摸区域TA和外围区域PA的基板110上。
[0091] 第一透明导电层120p可以包含银纳米线（AgNW)，第二透明导电层120q可以包含 透明导电氧化物诸如铟锡氧化物（IT0)、铟锌氧化物（IZ0)、锌氧化物（ZnO)或者铟氧化物 (In2〇3)，低阻层1201可以包含从铜和银选出的一种材料。
[0092] 接下来，通过图案化光敏膜（PR3和PR4)，触摸光敏膜图案PR3形成在触摸区域TA 中，而外围光敏膜图案PR4形成在外围区域PA中。通过利用狭缝掩模1000,外围光敏膜图 案PR4形成为具有比触摸光敏膜图案PR3的厚度d3小的厚度d4。为此，狭缝掩模1000的 光阻挡区域l〇〇〇a位于触摸区域TA中，而狭缝掩模1000的狭缝区域1000b位于外围区域 TA中。
[0093] 接下来，如图15和图16所示，第一触摸电极图案121、第二触摸电极图案122以及 第一驱动电路布线123通过利用触摸光敏膜图案PR3和外围光敏膜图案PR4作为蚀刻掩模 而形成。
[0094] 然后，如图17和图18所示，执行灰化工艺以减小触摸光敏膜图案PR3的厚度从而 形成触摸光敏膜图案PR3'并且去除外围光敏膜图案PR4。因此，触摸光敏膜图案PR3'的厚 度d3'小于图15和图16中的触摸光敏膜图案PR3的厚度d3,形成在外围区域PA中的第一 驱动电路布线123被暴露。
[0095] 接下来，绝缘层130形成在被暴露的第一驱动电路布线123和触摸光敏膜图案 PR3'上。因为在触摸区域TA中形成的绝缘层130在触摸光敏膜图案PR3'与基板110之 间具有台阶，所以在第一和第二触摸电极图案121和122之间形成的绝缘层130与在触摸 光敏膜图案PR3'上形成的绝缘层130分离。绝缘层130由硅氮化物（S