专利名称：多层光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及层积多个记录再现层的多层光记录介质，其中，该记录再现层能够通过照射光来再现信息。
背景技术：
在光记录介质的领域中，借助激光光源的短波长化和光学系统的高NA化，来提高记录密度。例如在Blu-ray Disc (BD 蓝光盘)规格的光记录介质中，能够使激光的波长为 405nm，开口数为0. 85，进行每1层25GB容量的记录再现。但是，利用这些光源和光学系统的努力达到极限，为了使记录容量进一步增大，谋求沿光轴方向多重记录信息的体积记录。 例如，在Blu-ray Disc(BD)规格的光记录介质中，提出了具有8层记录再现层(参照非专利文献1)或具有6层记录再现层(参照非专利文献幻的多层光记录介质。在多层光记录介质中，在对记录再现层的信息进行再现时，其他记录再现层的信号漏入或因其他记录再现层的影响产生的噪声(noise)漏入即所谓的串扰成为问题。该串扰会导致伺服信号和记录信号的恶化。该串扰包括层间串扰和共焦串扰(confocal crosstalk)这两类。层间串扰是指， 由与再现中的记录再现层相邻的记录再现层反射后的光漏入到再现光中而产生的现象。因此，在具有两层以上的记录再现层的多层光记录介质中必定成为问题。若增大层间距离，则该层间串扰会变小。共焦串扰是在具有3层以上的记录再现层的多层光记录介质中特有的现象，共焦串扰是指，在由再现中的记录再现层仅反射了一次的本来的再现光与由其他记录再现层反射了多次的杂散光(stray light)之间，彼此的光程一致而产生的现象。关于共焦串扰的产生原理，使用图11 图14进行说明。在如图11所示那样的多层光记录介质40中，为了进行再现或记录而会聚在LO记录再现层40d上的光束70因记录再现层的半透过性而分支成多个光束。在图12中示出如下现象从用于LO记录再现层40d 的记录再现的光束分支出的光束71由Ll记录再现层40c反射，并在L2记录再现层40b上聚焦，该反射光再次由Ll记录再现层40c反射而被检测出。在图13中示出如下现象从用于LO记录再现层40d的记录再现的光束分支出的光束72由L2记录再现层40b反射，并在光入射面40z上聚焦，该反射光再次由L2记录再现层40b反射而被检测出。在图14中示出如下现象从用于LO记录再现层40d的记录再现的光束分支出的光束73没有在其他记录再现层上聚焦，但依次由Ll记录再现层40c、L3 记录再现层40a、L2记录再现层40b反射而被检测出。与光束70进行比较，作为杂散光的光束71 73的光量小，但由于以相等的光程和相等的光束直径入射到光检测器，所以由干涉产生的影响大，由光检测器接受到的光量因微小的层间厚度的变化而显著变动，难以检测稳定的信号。另一方面，关于杂散光，反射的次数越多，因成为各记录再现层的反射率之积，而光量越减少，因此，在实际应用上考虑三次的多面反射的杂散光即可。
在这些图11 图14所示的现象中，例如，若设定Tl = T2，则光束70和光束71的光程与光束直径相一致，同时入射到光检测器(光电检测器)而被检测。同样，若设定T1+T2 =T3+TC，则光束70和光束72的光程和光束直径相一致，另外，若设定T3 = Tl，则光束70 和光束73的光程和光束直径相一致。因此，为了避免共焦串扰，通常采用使所有的层间距离不同的方法。非专利文献1 I. Ichimura et. al.，Appl. Opt.，45，1794-1803 (2006)非专利文献2 :K. Mishima et. al. , Proc. of SPIE, 6282,628201 (2006)从上述说明可知，若要为了避免层间串扰而扩大层间距离，则难以在有限的厚度中增加记录再现层的叠层数。另外，若要为了避免共焦串扰而一边使所有层间距离不同一边增加记录再现层的叠层数，则需要准备各种膜厚的中间层，所以结果产生层间距离变大的问题。其结果存在如下问题，即，距离光入射面最远的记录再现层远离开光入射面，对于倾斜等下的彗形象差产生不利作用。进而，有时在各记录再现层上必须形成凹槽(grrove)/平台(land)等的循迹控制用的凹凸。此时，由于需要利用压模在各中间层上形成凹凸，所以容易在中间层的膜厚上产生误差。因此，若要预先考虑该成膜误差的影响来使各中间层的膜厚不同，则需要将膜厚差设定得大，所以存在使多层光记录介质的厚度越来越大的问题。另外，为了容易进行记录再现装置侧的控制，在多层光记录介质中，通常使记录再现层的层积状态的反射率(即，在向所完成的多层光记录介质的各记录再现层照射光时， 根据入射光和反射光的比率求出的反射率)在各记录再现层间彼此一致，或者使记录时的激光功率的值在记录再现层间彼此接近。因此，需要使构成各记录再现层的膜材料、膜结构、膜厚等在各层最佳化，与此对应，在记录再现装置侧的记录条件(例如，记录策略和照射脉冲波形)也必须在各层最优化。不管怎样，在现有的思想下，越使记录再现层的叠层数增大，越担心多层光记录介质的制造侧和记录再现装置的设计侧双方的负担。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种多层光记录介质，在使记录再现层多层化时，能够抑制由串扰引起的信号品质的恶化，并能够使多层光记录介质的设计简洁化，进而，能够使记录再现装置侧的记录再现控制简略化。通过本发明人的潜心研究，上述目的通过以下的手段来实现。S卩，用于达成上述目的本发明为一种多层光记录介质，隔着中间层来层积至少3 层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，其特征在于，所述中间层的膜厚具有两种以下，除了距光入射面最远的所述记录再现层之外的剩余的所有的所述记再现层的光学常数彼此实质上相同。用于达成上述目的的多层光记录介质与上述发明相关，其特征在于，包括距所述光入射面最远的所述记录再现层在内的所有的所述记录再现层的光学常数彼此实质上相同。用于达成上述目的的多层光记录介质与上述发明相关，其特征在于，用于构成所述光学常数彼此实质上相同的所述记录再现层的材料组分以及膜厚实质上相同。
用于达成上述目的的多层光记录介质与上述发明相关，其特征在于，隔着所述记录再现层交替层积有具有第一膜厚的第一中间层和具有比所述第一膜厚更厚的第二膜厚的第二中间层。用于达成上述目的的多层光记录介质与上述发明相关，其特征在于，所述第一膜厚大致为12 μ m,所述第二膜厚大致为16 μ m。根据本发明，在多层光记录介质中，能够抑制层间串扰和共焦串扰，并能够使多层光记录介质的设计简洁化。另外，也能够使记录再现装置侧的记录再现控制简洁化。
图1是表示本发明第一实施方式的多层光记录介质和对该多层光记录介质进行记录再现的光读写头(optical pickup)的概略结构的图。图2是表示该多层光记录介质的层积结构的剖视图。图3是表示该多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图4是表示该多层光记录介质的膜厚结构的图。图5是表示向本发明的实施例的多层光记录介质照射再现光时的反射光的波形的图。图6是表示向本发明的比较例的多层光记录介质照射再现光时的反射光的波形的图。图7是用于说明本发明的多层光记录介质的基本概念的再现光的状态的图。图8是表示用于说明本发明的多层光记录介质的基本概念的杂散光的状态图。图9是表示用于说明本发明的多层光记录介质的基本概念的层积反射率的变化的图。图10是表示用于说明本发明的多层光记录介质的基本概念的层积反射率的变化的图。图11表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图12表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图13表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图14表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图15表示成为参考例的多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。
具体实施例方式首先，对本发明的实施方式的多层光记录介质的基本思想进行说明。在多层光记录介质中，考虑配置在记录再现层之间的中间层的厚度为两种(Tl、 T2)，并且将两种厚度的中间层交替层积的情况。在图5中示出了在再现了第a号的记录再现层的情况下，由该记录再现层直接反射的再现光(本光)的路径。另外，在图8中示出了光程与该本光相一致的杂散光的路径的一例。此外，在这里，关于构成第k号记录再现层的材料，将其单层状态的反射率和透过率分别定义为rk、tk。若将向第a号的记录再现层入射“1”的强度的再现光时的本光的强度设为Ia、将杂散光的强度设为Ia'，则Ia以及Ia'用以下的[式1]、[式2]来表示。
[式1] Ia = (ta+1 X ta+2 X ta+3 Χ... X ta+n)2 X ra[式2] Ia' = (ta+2 X ta+3X · · · X ta+n) X ra+1 X ta+2 X ra+3 X ra+2 X (ta+3 X · · · X ta+n)= (ta+2 X ta+3 X · · · X ta+n)2 X ra+1 X ra+2 X ra+3因此，杂散光相对本光的强度比Ia' /Ia能够用式[3]表示。[式3]Ia ‘ /Ia = (t a+2 X t a+3 X . . . X t a+n) 2 X r a+1 X r a+2 X r a+3/ (ta+i X ta+2x ta+3 X... X ta+n)2 X Ta= (ra+1 X ra+2 X ra+3) / (ta+12 X ra)如上所述可知，在中间层的厚度交替为两种那样的多层记录介质中，为了减小第a 号的记录再现层中的共焦串扰的影响，即为了减小[式3]的杂散光的强度比，以下三个想法有效。(1)提高第a层的反射率ra。(2)降低第a+Ι层、第a+2层、第a+3层(与第a层在光入射面侧(外侧)相邻的 3层)的反射率 ^ a+1、^ a+2、^a+3 °(3)提高第a+Ι层(与第a号的记录再现层在外侧相邻的1层)的透过率ta+1。进而，为了该想法在所有的记录再现层成立，降低除了相对于其他记录再现层未能够成为外侧的层的记录再现层、即距光入射面最远(里)侧的记录再现层之外的所有的记录再现层的反射率，并提高透过率即可。为了实现它，使除最里侧的记录再现层以外的所有记录再现层的单层状态的反射率r和透过率t相同在介质设计上极其简单。此时，各记录再现层的反射率r变低，透过率t变高。当然，若使包含最里侧的记录再现层在内的所有的记录再现层的反射率r和透过率t相同，则虽然使在最里侧的记录再现层上的杂散光降低效果减少，但在介质设计上能够最简化。如上所述，若在不同的记录再现层之间使光学常数一致，即，使反射率r和透过率 t相同，则观察到在多层光记录介质中，越是里侧的记录再现层，层积状态的反射率R(以下称为层积反射率)越低。因此，假如考虑使所有的记录再现层的反射率r和透过率t相同的情况，则层积反射率R从外侧的记录再现层到里侧的记录再现层单调减少。此外，层积状态的反射率是指，在向完成后的多层光记录介质的特定的记录再现层照射光时，根据入射光和反射光的比率求出的反射率。为了使多个记录再现层的光学常数一致，使构成记录再现层的记录材料的组成及其膜厚一致比较方便。这样一来，在介质设计上、制造上都合理地减轻负担。其结果，为了实现本发明的多层光记录介质的概念思想，期望使构成多个记录再现层的记录材料的组成及其膜厚都相同。更优选在从光入射面起包括最里侧的记录再现层在内的所有的记录再现层中，使材料组分和膜厚实质上相同，结果，也使光学常数彼此一致。此外，在多层光记录介质中，各记录再现层的组成和膜厚实质上相同是指，针对例如用切片机沿剖面方向切断盘后的试料，利用透过型电子显微镜(Transmission Electron Microscope :TEM)、或者扫描型电子显微镜(Scanning Electron Microscope SEM)测量膜厚，进而，利用附属在这些显微镜上的能量分散型分光法(Energy Dispersive Spectroscopy)等分析组成的结果，在各记录再现层间实质上几乎相同。如果是这种状态， 则可以认为在各记录再现层之间材料组分和膜厚相同。当然，作为其结果，在各记录再现层之间，光学常数彼此一致。
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但是，由于透过率tk取大于0且小于1的值，所以记录再现层的层数n+1越增加， 反射光强度Ia越减少。若反射光强度Ia太低，则导致SNR(signal-noise ratio 信噪比) 变小，达到光读写头的光电检测器的灵敏度极限。关于记录再现层的层数，原则上该灵敏度极限成为上限。具体地说，在设计阶段，从光入射面侧向里侧，使具有同一光学常数的记录再现层依次层积，将其层积反射率R达到光读写头能够处理的灵敏度极限的叠层数作为最大的叠层数。基于上述概念思想，在图9中示出构成多层光记录介质的例子。从最靠光入射面侧的记录再现层(Llri层)起，经由途中的记录再现层(Lw层、Lk层、Lk—层)朝向最靠里侧的记录再现层(Ltl),使层积反射率R单调减少。最靠光入射面侧的记录再现层(Llri层)和最靠里侧的记录再现层(Ltl层)的各自层积反射率(Rm、R0)的比率由一般的光读写头能够处理的该反射率的动态范围的限制决定，优选在5 1以内，期望在4 1以内。即，优选RcAri彡(1/5)，期望RcZRlri彡(1/4)。此外，在图9中例示了使所有的记录再现层的光学常数一致的概念，但如图10所示，位于最里侧的记录再现层(L0层)采用与剩余的记录再现层不同的材料组分和膜厚，而使光学常数不一致也可以。之所以是因为，在LO层的更里侧不存在记录再现层，所以没有必要考虑光透过率。下面，参照
本发明的实施方式。在图1中示出第一实施方式的多层光记录介质10和在该多层光记录介质10的记录再现中使用的光读写头700的结构。光读写头700具有光学系统710。该光学系统710为对多层光记录介质10的记录再现层组14进行记录和再现的光学系统。从光源701出射的具有比较短的波长380 450nm(在此为405nm)的发散性的蓝色光束770，透过具有球面象差修正单元793的准直透镜753，并入射到偏振光束分离器752。入射到偏振光束分离器752的光束770透过偏振光束分离器752，进一步因透过四分之一波长板7M变换为圆偏振光后，由物镜756变换成会聚光束。该光束770会聚到在多层光记录介质10的内部形成的多个记录再现层组14中任一个记录再现层上。由偏振光束分离器752反射的光束770透过聚光透镜759变换成会聚光，并经由柱面透镜757入射到光检测器732。在透过柱面透镜757时，对光束770赋予像散。光检测器732具有未图示的四个受光部，分别输出与接受到的光量相应的电流信号。根据这些电流信号，能够生成基于像散法的聚焦误差(以下称为FE)信号、基于再现时所限定的推挽法的循轨误差(以下称为TE)信号、记录在多层光记录介质10上的信息的再现信号等。FE 信号以及TE信号被放大为所希望的电平以及进行相位补偿后，反馈供给至驱动器791以及 792，以实现聚焦控制以及循迹控制。在图2中放大表示该多层光记录介质10的剖面结构。该多层光记录介质10为外径约120mm、厚度约1. 2mm的圆盘形状，并具有3层以上的记录再现层。该多层光记录介质10从光入射面IOA侧起具有保护层11、呈10层结构的LO L9记录再现层14A 14J、位于该LO L9记录再现层14A 14J之间的中间层组 16、支撑基板12。
在支撑基板12上设置有轨道间距为0. 32um的凹槽。此外，作为支撑基板12的材料，能够使用各种材料，例如，能够利用玻璃、陶瓷、树脂。在它们之中，从容易成型的观点考虑，优选树脂。作为树脂，能够举出聚碳酸酯树脂、烯烃树脂、丙烯树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、硅酮树脂、氟类树脂、ABS树脂、聚氨酯树脂等。在它们之中， 从加工性等角度考虑，特别优选聚碳酸酯树脂和烯烃树脂。此外，支撑基板12由于未成为光束770的光路，所以不需要具有高的光透过性。LO L9记录再现层14A 14J的层积反射率从光入射面向里侧减少。S卩，最接近光入射面的L9记录再现层14J的层积反射率最高，LO记录再现层14A的层积反射率最低。作为用于实现如上述那样的层积反率的膜设计，LO L9记录再现层14A 14J， 对应于光学系统710中的蓝色波长区域的光束770，使单层状态的光反射率和吸收率等最优化。在本实施方式中，在所有的LO L9记录再现层14A 14J之间，光学常数实质上设定为相同，为此，在LO L9记录再现层14A 14J之间，材料组分以及膜厚实质上也设定为相同。具体地说，如图3所示，LO L9记录再现层14A 14J在单层状态下的反射率 (以下称为单层反射率)设定为1. 5%，在单层状态下的吸收率(以下成为单层吸收率)设定为4. 5%。这样，在本实施方式中，在LO L9记录再现层14A 14J中，设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率。其结果，在LO L9记录再现层14A 14J中，从光入射面侧起使层积反射率单调减少。采用该膜设计的结果，LO L9记录再现层14A 14J能够以彼此大致相同的记录材料以及膜厚形成，能够实现制造成本的大幅削减。此外，LO L9记录再现层14A 14J分别为在写一次型记录膜的两外侧层积了电介质膜等的3 5层结构(省略图示)。各记录再现层的电介质膜除了具有保护写一次型记录膜这样的基本功能外，还具有扩大形成记录标记前后的光学特性的差异或提高记录灵敏度的作用。此外，在照射光束770的情况下，若被电介质膜吸收的能量大，则记录灵敏度容易下降。因此，为了防止它，作为这些电介质膜的材料，最好选择在380nm 450nm(特别是 405nm)的波长区域具有低的吸收系数(k)的材料。此外，在本实施方式中，作为电介质膜的材料，使用TiO2。被电介质膜夹持的写一次型记录膜是形成不可逆的记录标记的膜，形成有记录标记的部分和除此以外的部分(空白区域)，对光束770的反射率显著不同。其结果，能够进行数据的记录和再现。写一次型记录膜以含有Bi以及0的材料为主要成分而形成。该写一次型记录膜作为无机反应膜发挥功能，反射率因由激光的热而产生的化学上或者物理上的变化而显著不同。作为具体的材料，优选以Bi-O为主要成分或者以Bi-M-0(其中，M为Mg、Ca、Y、Dy、 Ce、Tb、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Fe、Zn、Al、In、Si、Ge、Sn、Sb、Li、Na、K、Sr、Ba、Sc、La、 Nd、Sm、Gd、Ho、Cr、Co、Ni、Cu、Ga、Pb中选择的至少一种元素)为主要成分。此外，在本实施方式中，作为写一次型记录膜的材料，使用Bi-Ge-0。此外，在此示出了在LO L9记录再现层14A 14J中采用写一次型记录膜的情况，但是，也能够采用反复记录的相变记录膜。此时的相变记录膜优选为SbTeGe。如图4所示，中间层组16从远离光入射面IOA —侧开始依次具有第一 第九中间层16A 161。这些第一 第九中间层16A 161层积在LO L9记录再现层14A 14J之间。各中间层16A 161由丙烯类或环氧类紫外线固化型树脂构成。该中间层16A 161 的膜厚交替设定有10 μ m以上的第一距离Tl和比该第一距离大3 μ m以上的第二距离T2。 具体地说，第一距离Tl和第二距离T2优选具有3 μ m 5 μ m的差，更优选具有4 μ m以上的差。在该多层光记录介质10中，第一距离Tl为12 μ m,第二距离T2为16 μ m,从里侧开始依次为，第一中间层16A为12 μ m，第二中间层16B为16 μ m，第三中间层16C为12 μ m， 第四中间层16D为16μπι，第五中间层16Ε为12μπι，第六中间层16F为16 μ m，第七中间层16G为12μπι，第八中间层16Η为16 μ m，第九中间层161为12μπι。也就是说，两种膜厚 (16μπι、12μπι)的中间层交替层积。详细在后面叙述，但若这样设置，能够使层间串扰以及共焦串扰都降低。保护层11与中间层组16同样，由光透过性的丙烯类的紫外线固化型树脂构成，并设定膜厚为50 μ m。接着，对该多层光记录介质10的制造方法进行说明。首先，通过使用了金属压模的聚碳酸酯树脂的射出成型法，制作形成有凹槽以及平台的支撑基板12。此外，支撑基板 12的制作不限于射出成型法，也可以通过2P法或其他方法制作。然后，在支撑基板12中的设置有凹槽以及平台的一侧表面上形成LO记录再现层 14A。具体地说，按电介质膜、写一次型记录膜、电介质膜的顺序使用气相生长法形成。 优选使用溅射法。然后，在LO记录再现层14A之上形成第一中间层16A。第一中间层16A 如下形成，通过旋涂法等覆盖调整了粘度的紫外线固化型树脂，然后，向该紫外线固化性树脂照射紫外线进行固化。重复该顺序，从而依次层积Ll记录再现层14B、第二中间层16B、 L2记录再现层14C、第三中间层16C···。直至L9记录再现层14J完成后，在L9记录再现层14J上形成保护层11，从而完成多层光记录介质10。此外，保护层11如下形成，例如通过旋涂法等覆盖调整了粘度的丙烯类或环氧类的紫外线固化型树脂，然后对其照射紫外线进行固化。此外，在本实施方式中， 说明了上述制造方法，但本发明并不限于上述制造方法，也能够采用其他的制造技术。接着，对该多层光记录介质10的作用进行说明。该多层光记录介质10的LO L9记录再现层14A 14J的层积反射率从瓦茨向里侧减少，所以在特定的记录再现层的再现中，能够抑制与其在里侧相邻的记录再现层的反射光漏入到再现光。其结果，即使减小中间层的厚度，也能够抑制串扰，所以结果能够使 LO L9记录再现层14A 14J的叠层数增大到10层。如图15的参考例所示，若要对所有的LO L9记录再现层14A 14J，使层积反射率彼此近似到1. 0%左右，则需要各不相同地设定LO L9记录再现层14A 14J的单层反射率和吸收率，使制造工序极其复杂化。结果，容易受到制造误差的影响，需要具有包含误差的余量的设计，难以使叠层数增大。另外，在本实施方式中，在LO L9记录再现层14A 14J之间，采用相同的膜材料以及膜厚，所以无需对每个记录再现层设置各不相同的成膜条件，能够大幅减轻设计负担、 制造负担。结果，在LO L9记录再现层14A 14J之间，光学常数实质上设定为相同。这样一来，能够减小记录再现装置侧的记录再现条件的偏差，能够使记录再现控制(记录策略)简洁化。顺便说一下，若使单层反射率和单层吸收率不同的各种记录再现层复杂地重合，则由于必须凭经验找到最佳的记录再现控制，所以伴有相当的困难。进而，在该多层光记录介质10中，具有第一膜厚(12μπι)的中间层和具有比第一膜厚更厚的第二膜厚(16 μ m)的中间层隔着记录再现层14A 14J而交替层积。另外，若利用如图11 图14所示那样的共焦串扰现象进行说明，则例如与光束70 相比较，通常作为多面反射光的光束71 73的光量小，但是由于以相等的光程和相等的光束直径入射到光检测器，所以由干涉产生的影响比较大。因此，由光检测器接受的光量因微小的层间厚度的变化而显著变动，所以难以检测稳定的信号。接诊，针对该多层光记录介质10的设计方法进行说明。首先，对处于最接近光入射面一侧的记录再现层设计特定的成膜条件，从光入射面侧开始进行层积。该记录再现层的叠层数增加到满足特定条件为止，该特定条件是指， 在向记录再现层照射具有不会引起再现恶化程度的再现功率的光时，从各记录再现层反射返回到光检测器732的反射光量，接近由评价装置能够处理的极限值，或者接近在记录再现层上形成记录标记(记录层的变性)所需的激光功率的极限值(即，记录灵敏度的极限值)。并且，如果里侧的记录再现层达到这些反射光量和记录灵敏度的极限值，则这成为叠层数的上限。在层积了相同结构的记录再现层的情况下，当然，在所层积的状态下从各记录再现层向光检测器732返回的反射光量，与记录再现层的透过的平方成正比地从光入射面越向里侧单调减少，而且，到达各记录再现层的激光功率也与透过成正比地减少。在该多层光记录介质10中，交替使用具有两种膜厚的中间层，该两种膜厚在 IOym以上的范围。由此，使层间串扰和焦串扰的影响同时降低。〈实施例以及比较例〉实际制造本实施方式的多层光记录介质10来验证了记录再现特性。LO L9记录再现层14A 14J在单层状态的反射率为1.5%，吸收率为4.5%，透过率为94%。此外， 所有的记录再现层的材料组分为TiCVFhO/BiOx-GeOy/SiCVTiC^，在所有的记录再现层使膜厚一致。基板的厚度为1. 1mm，中间层的厚度交替设定为12 μ m、16 μ m，保护层的厚度为 50 μ m0为了验证该多层光记录介质10的光学特性，使用光读写头90向多层光记录介质 10的LO层(最里侧的记录再现层)照射再现光束，并对其反射光的特性进行了评价。其原因在于，LO层受共焦串扰的影响最显著。另一方面，对于作为比较例的多层光记录介质，如以往那样，以层积状态下的返回到光检测器732的反射光量和到达各记录再现层的激光功率在各记录再现层几乎同样的方式，来设计各记录再现层。此外，该比较例的层积反射率、层积吸收率的状态设定为与图 15所示的相同，在10层的记录再现层之间，层积反射率为左右。在该比较例中也对LO 层(最里侧的记录再现层)照射再现光束，对其反射光的特性进行了评价。在图5(实施例)以及图6(比较例)中示出了实施例和比较例的反射光的信号照片。从比较例的照片可知，在反射光的波形明显出现噪声，并观测到由共焦串扰引起的反射率的变动显著。另一方面，从实施例的照片可知，能够大幅抑制如在比较例观测到那样的反射率变动。以上，在本实施方式中对记录再现层为10层的情况进行了说明，但本发明并不限于此。在记录再现层为3层以上的情况下，通过应用本发明，能够大幅减轻设计负担。此时， 优选记录再现层具有4层以上，更优选具有5层以上。另外，在本发明中，只要评价机的限制、例如球面象差补正范围、激光功率等允许， 就能够增加记录再现层的叠层数，进而，根据评价机上的限制，也能够使记录再现层组的数目增加到10层以上。进而，在本实施方式中，示出了交替层积两种膜厚的中间层的情况，但本发明并不限于此，也可以不交替层积。进而，只要反射率变动的影响在评价机允许的范围，也可以使中间层的膜厚全都相同。此外，在交替配置两种膜厚的中间层时，优选最里侧的中间层的膜厚总是为厚的膜厚。其原因在于，容易受到串扰的影响。此外，本发明的多层光记录介质并不限于上述的实施方式，在不脱离本发明的宗旨的范围内，能够进行各种变更。本发明的多层光记录介质能够应用于各种规格的光记录介质。
权利要求
1.一种多层光记录介质，隔着中间层来层积至少3层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，其特征在于，所述中间层的膜厚具有两种以下，除了距光入射面最远的所述记录再现层之外的剩余的所有的所述记再现层的光学常数彼此实质上相同。
2.如权利要求1所述的多层光记录介质，其特征在于，包括距所述光入射面最远的所述记录再现层在内的所有的所述记录再现层的光学常数彼此实质上相同。
3.如权利要求1或2所述的多层光记录介质，其特征在于，用于构成所述光学常数彼此实质上相同的所述记录再现层的材料组分以及膜厚实质上相同。
4.如权利要求1至3中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于，隔着所述记录再现层，交替层积有具有第一膜厚的第一中间层和具有比所述第一膜厚更厚的第二膜厚的第二中间层。
5.如权利要求4所述的多层光记录介质，其特征在于， 所述第一膜厚大致为12 μ m，所述第二膜厚大致为16 μ m。
全文摘要
本发明提供一种多层光记录介质，能够抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。一种多层光记录介质(10)，隔着中间层层积至少3层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，中间层的膜厚具有两种以下，除了距光入射面最远的记录再现层之外的剩余的所有的记再现层的光学常数彼此实质上相同。
文档编号G11B7/24GK102456367SQ20111032845
公开日2012年5月16日 申请日期2011年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者丑田智树, 井上素宏, 小须田敦子, 平田秀树, 菊川隆 申请人:Tdk股份有限公司