专利名称：防霉磁盘及其制备方法
技术领域：
本发明涉及计算机使用的防霉磁盘及其制备方法。
微型计算机已在教学、科研、生产和管理等方面获得广泛应用，磁盘是计算机必不可少的部件。如果磁盘不具防霉功能，发霉后便不能使用，里面储存的信息会因此而受到破坏，造成物质上和资料上的重大损失。我国每年使用磁盘数以亿计，由于磁盘发霉而造成的损失无法估量。当前国内生产的磁盘绝大部分没有防霉功能，国外虽有人在磁盘中加入防霉剂，声称有防霉作用，但效果很差，且没有防水、防污、耐磨的功能。
本发明的目的是提出一种防霉磁盘及其制备方法，使磁盘具有防霉作用。同时兼备防水、防污、耐磨的功能。
本发明通过以下措施达到。在普通的磁盘表面上复盖一层类金刚石碳膜，膜层厚度为10～200nm。
类金刚石碳膜的制备方法是这样的把普通磁盘置于真空系统内，采用射频等离子体增强化学气相沉积法，用电容耦合平行平板结构，在丁烷气氛中进行，气体流量为10～20sccm，表观功率密度0.5～10w/cm2利用本发明方法制备类金刚石碳膜，可在室温下进行，衬底不必加热因而避免高温制备箔膜所带来的影响。
按中华人民共和国国家标准、电工电子产品基本环境试验规程、试验J的长霉试验方法进行磁盘防霉试验，结果表明，没有镀膜的万胜盘、DATACE盘等，试验后发霉程度为3级，镀了类金刚石碳膜后(厚度为80～120nm)，发霉程度降至0～1级，可见有十分明显的防霉效果。另外通过各种试验表明，防霉磁盘的防水能力、防污能力和耐磨性能大大提高。普通磁盘经2.5×105次读写后便开始出错，而防霉磁盘经1.4×106次写读后仍完好无缺。事实上，类金刚石碳膜是一种公认的良好固体润滑剂，不仅不会磨损磁头，而且对磁头有保护作用。
本发明的具体实施例采用电源频率为13.6MHZ;
电极直径14cm，电极间距4cm;
真空室压强50pa。
其它各项参数如表一所示。
表一表观功率密度气体流量生长速度w/cm2sccm nm/min0.715300.7215310.915341.2715404.0012717.001095膜厚与沉积时间成线性关系。
权利要求
1.一种防霉磁盘，其特征是在普通磁盘表面复盖有一层类金刚石碳膜，膜层厚度为10～200nm。
2.一种如权利要求1所述防霉磁盘的制备方法，其特征是把普通磁盘置于真空系统内，采用射频等离子体增强化学气相沉积法，用电容耦合平行平板结构，在丁烷气氛中进行，气体流量为10～20sccm，功率密度0.5～10w/cm2。
3.一种如权利要求2所述防霉磁盘的制备方法，其特征是气体流量为15sccm，功率密度为0.7w/cm2。
全文摘要
本发明涉及计算机使用的防霉磁盘及其制备方法。目前国内外生产的磁盘缺少防霉功能，一旦发霉，磁盘中储存的信息会受到破坏。本发明采用射频等离子体增强化学气相沉积法在普通磁盘上生长一层类金刚石碳膜，不但具有很好的防霉作用，对磁盘的防水、防污及耐磨损性也大大提高。采用本发明方法简单，效果显著，成本低廉，经久耐用。
文档编号G11B5/72GK1075227SQ9211413
公开日1993年8月11日 申请日期1992年12月2日 优先权日1992年12月2日
发明者陈树光, 陈弟虎, 郭扬铭, 徐运海, 朱小兵 申请人:中山大学