专利名称：使用cmos晶体管的基准电压发生器的制作方法
技术领域：
本发明涉及使用CMOS晶体管以补偿由于温度和外电源电压变化引起基准电压输出波动的基准电压发生电路。
高度复杂的半导体存储器件的小型化要求基准电压发生电路供给比外电源电压小一个给定值的内电源电压。在这种情况下，要求基准电压发生电路被设计为能提供稳定的基准电压，而不受例如环境温度、外电源电压、工艺参数等各种变化的影响。为了达到这一点，有人已提出如
图1所示的带隙基准电压发生电路。
参阅图1，带隙基准电压发生电路包括通过电流源电阻24供给电流的三个双极型晶体管14、20和22。第一晶体管14具有二极管接法的集电极一基极，被接在基准电压端Vref和接地电压端Vss之间。第二晶体管20的基极通过节点20与第一晶体管14的集电极相连。其集电极通过电阻16与基准电压端Vref相连，发射极通过电阻21与接地电压端Vss相接。在节点12和基准电压端Vref之间还连接有电阻10。第三晶体管22的集电极与基准电压端相连，其发射极与接地电压相连，基极与第二晶体管20的集电极相连。这个电路使基极一发射极电压(
VBE/
T≌-2.2mv/℃)具有负的热系数(thermal coefficient)，以抵消具有正的热系数的热电压(VT＝KT/q，
Vt/
T＝0.086mv/℃，从而在温度变化时产生稳定的基准电压输出。更详细地说，基准电压输出Vref是电阻16上电压V1和第三晶体管22的基极一发射极电压VBE22之和。电压V1取决于第二晶体管20的基极一发射极电压的变化△VBE200。假定电阻16和21分别是R16和R21，而且通过电阻21和10的电流分别为I1和I2，则可获得下述的等式(1)和(2)
△VBE20＝I1.R21＝VBE14-VBE20＝VTln(I2/Il) ....(1)V1＝(R16/R21).△VBC20＝VT.(R16/R21)ln(I2/I1) ....(2)式中VT(＝KT/q)是具有正的热系数的热电压、K是波尔兹曼常数、T是绝对温度和q是电荷量。因此，基准电压Vref由具有负热系数的第三晶体管22的基极一发射极电压VBE22和具有正热系数的热电压VT所决定的，用等式(3)表示如下Vref＝VBE22+VT(R16/R21)ln(I2/I1) ...(3)这样，基准电压输出Vref相对于温度变化是稳定的。而且，双极型晶体管在饱和状态下依据相对稳定的基极一发射极电压VBE22而工作，这样提供相对稳定的基准电压而不受外电源电压变化的影响。
然而DRAM器件使用的来自带隙基准电压发生电路的基准电压，要求反偏压发生器供给负衬底电压VBB，以稳定衬底。只有当衬底电压VBB超出给定值时反偏压发生器才起作用。衬底电压VBB会不合要求地通过带隙基准电压发生电路的多晶硅电阻和在衬底上形成的寄生电容传输到各个电路连接处，从而改变基准电压输出Vref。而且，电路中所使用的晶体管工作在饱和状态，这样增大备用电流。另外，假如带隙基准电压发生电路被用于DRAM器件，主要包括MOS晶体管的衬底要求附加的工艺步骤以形成双极型晶体管。再者，如图6中曲线112所示，带隙基准电压发生电路具有高建立电压(约2.5V)，在低的外电源电压时相对于温度变化显示出基准电压有大的波动。
图2表示包括若干个PMOS(P沟道MOS管)晶体管的另一种传统的基准电压发生电路。PMOS晶体管26、28和32的沟道串联相接，具有二极管接法的栅极和漏极，在连接点30产生PMOS晶体管32的阈值电压Vtp。具有沟道串联相接形式的PMOS晶体管40和42有二极管接法的栅极和漏极，在基准电压端38产生输出基准电压2Vtp。在连接点30处的电压Vtp加在具有沟道串联相连的PMOS晶体管34和36的栅极上，从而相对于外电源电压的变化稳定基准电压。然而，它不能抵消由于温度变化引起的基准电压的变化。
因此本发明的一个目的是提供使用CMOS晶体管相对于温度和外电源电压的变化产生稳定的基准电压的基准电压发生电路。
本发明的另一目的是提供使用CMOS晶体管产生稳定基准电压并具有低功耗和低建立电压的基准电压发生电路。
本发明的又一目的是提供具有易施加于DRAM器件的简单结构的基准电压发生电路。
依照本发明，将第一电源电压转变为第二电源电压的基准电压发生电路包括连接在第一电源电压和接地电压之间的具有正的热系数从而相对于温度变化正向补偿第二电源电压的正热补偿电路和具有负热系数用以响应正热补偿电路的输出依据温度变化负向补偿第二电源电压的负热补偿电路，利用正和负热系数的互相抵消，从而稳定第二电源电压。
就本发明的一个方面而言，基准电压发生电路还包括反馈电路，将第二电源电压反馈到正热补偿电路以协助稳定第二电源电压。
现在通过举例并结合附图更具体地说明本发明。
图1是传统的带隙基准电压发生电路的原理图;
图2是包括PMOS晶体管的另一传统基准电压发生电路的原理图;
图3是依照本发明的一个实施例的具有CMOS晶体管的基准电压发生电路的原理图;
图4是依照本发明的另一实施例的具有CMOS晶体管的基准电压发生电路的原理图;
图5是依照本发明的又一实施例的具有CMOS晶体管的基准电压发生电路的原理图;
图6是本发明的基准电压发生电路与传统的带隙基准电压发生电路作比较，说明基准电压对电源电压的特性曲线的图表;和图7A至7C分别是依照本发明的各个实施例具有CMOS晶体管的基准电压发生电路的原理图。
参阅图3，第一和第二电阻100和102和NMOS(N沟道MOS管)晶体管106的沟道串联连接在外电源电压端Vcc和接地电压端Vss之间。NMOS晶体管106的栅极与电源电压端Vcc相连。PMOS晶体管108的沟道连接在基准电压端Vref和接地电压端Vss之间，而其栅极与第二电阻102和NMOS晶体管106的漏极的连接点104相连接。基准电压端Vref还与第一和第二电阻100和102的连接点101相连，PMOS晶体管108的基片是与基准电压Vref相连。而不是与电源电压Vcc相连。其理由在于防止若该基片与外电源电压Vcc相连接时外电源电压Vcc的增大会增大PMOS晶体管108的阈值电压，从而导致基准电压Vref增大的“管体效应”(“bodyeffect”)。
工作时，NMOS晶体管106由于栅极与外电源电压Vcc相连而处于正常导通，这样电流I102流过由第一和第二电阻100和102和晶体管106的沟道构成的路径。那末连接点104具有电平足够低于使PMOS晶体管108导通的电压V104。因此输出基准电压是电压V104和PMOS晶体管108的导通电压Vtp(on)之和。其中，假如外电源电压Vcc增大，由于栅极电压相应增大，NMOS晶体管106的互导Gm也增大。因而连接点104的电压V104更低，从而更促使PMOS晶体管108导通，因此在第二电阻102上形成的PMOS晶体管108的阈值电压Vtp防止了基准电压输出Vref的增大。或者反之，假如外电源电压减小，由于栅极电压的减小，NMOS晶体管106的互导Gm也减小。因而，在连接点104的电压V104增大，从而使PMOS晶体管108刚刚进入截止，因此可以防止基准电压输出值Vref的减小。因此本发明电路相对于外电源电压Vcc的变化提供稳定的基准电压输出Vref。
下文讨论本发明电路的热补偿功能。PMOS晶体管108在电路正常状态下处于导通，通过第二电阻R102的电流I102可以用等式(4)表示。
I102＝Vtp/R102......(4)式中，Vtp表示PMOS晶体管108的阈值或导通电压，本领域中众所周知Vtp具有反比于温度变化的负热系数。相反，NMOS晶体管106的沟道电阻具有正热系数，因为由于沟道中载流子的迁移率的相应减小，沟道电阻是随温度而增大的。这样，当NMOS晶体管106的沟道电阻随温度而增大，导致在连接点104的电压V104的增大，而PMOS晶体管108的阈值电压Vtp随温度而减小，由此提供稳定的恒定基准电压输出值Vref。因此基准电压输出值Vref可以相对于温度变化而保持基本不变。
此外，本发明电路包括显著减小备用电流的CMOS晶体管和当用于DRAM时不需要任何单独的复杂工艺步骤。本电路的建立电压电平由等式(5)和(6)所决定I100＞I102......(5)Vcc＞(R100/R102).Vtp+Vref.....(6)建立电压必须等于或大于基准电压Vref和第一电阻R100上的电压V100之和，它低于使用双极型晶体管的带隙基准电压发生电路的建立电压。特别是本发明的基准电压发生电路的建立电压可被设置在1.6V左右。
本发明的另一实施例示于图4中，该图中与图3电路中相对应的元件使用相同的标号标注。第一和第二电阻R100和R102和NMOS晶体管110的沟道串联连接在外电源电压Vcc和接地电压Vss之间。NMOS晶体管110的栅极与第一和第二电阻100和102的连接点101相连。PMOS晶体管108的沟道连接在与连接点101相连的基准电压端Vref和接地电压Vss之间，其栅极与NMOS晶体管110的漏极相连。PMOS晶体管108的基片与图3中一样也与基准电压Vref相连，以防止“管体效应”。从上述容易觉察到，本发明实施例与图3的上一实施例的区别在于NMOS晶体管110的栅极是与基准电压Vref相连，从而将基准电压输出Vref反馈至NMOS晶体管110的栅极。这样基准电压Vref的变化可以被减至最小。
本发明的又一实施例示于图5中，该图中第一和第二电阻R100和R102和NMOS晶体管110和106的沟道串联连接在外电源电压Vcc和接地电压Vss之间。NMOS晶体管106的栅极与电源电压Vcc相连，NMOS晶体管110的栅报与第一和第二电阻100和102的连接点101相连。该连接点101还与基准电压Vref相连。PMOS晶体管108的沟道连接在基准电压Vref和接地电压Vss之间，其栅极与第二电阻102和NMOS晶体管110的漏极的连接点104相连。正如从上述容易觉察的，本实施例是通过将图3和4的实施例组合而得到的。附加的NMOS晶体管106有助于基准电压的稳定即使基片电压VBB增大时也如此。即在图4的实施例中，假如外电源电压VCC增大时，加在NMOS晶体管110基片上的基片电压VBB也增大。那末，正如PMOS晶体管108的情况，“管体效应”增大NMOS晶体管110的电阻，由于在连接点104处电压被增大从而增大了基准电压。然而，外电源电压Vcc的增加使附加的NMOS晶体管106的沟道电阻减小，从而在连接点104处电压保持不变，这样基准电压输出值Vref的变化被减至最小。对产生相对低的基准电压电路而言，可省略该附加NMOS晶体管106。本实施例尤其在高电源电压区域中能有效地将基准电压Vref的变化减至最小。
参阅图7A至7c，该图示出依照本发明的各种不同的实施例。如图所示，NMOS晶体管110和106可以相互并联，其基片可与接地电压或反偏压VBB相连。而且，如图7c所示，PMOS晶体管108′可与PMOS晶体管108相关联，PMOS晶体管108′的栅极连接在NMOS晶体管106的漏极和电阻102′之间形成的连接点上。电阻102′连接在基准电压输出Vref和NMOS晶体管106的漏极之间。
参阅图6，曲线112表示传统的带隙基准电压发生电路的特性，而曲线114表示本发明电路的特性。因而本发明电路需要低的建立电压，并相对于温度和外电源电压变化提供基本稳定的基准电压Vref，传统电路需要高的建立电压，相对于温度和外电源电压变化提供不太稳定的基准电压Vref。
尽管已在此用图表示和说明了本发明的特定结构，但并不打算将本发明局限于这些所公开的元件和结构。本领域技术人员容易认识到还可以使用不脱离本发明的范围和精神的特定元件或子结构。
权利要求
1.一种用以产生比外电源电压低一个给定值的基准电压的基准电压发生电路，包括供给所述外电源电压的电源电压端；接地电压端；输出所述基准电压的基准电压端；连接在所述外电源和基准电压端之间以供给电流的第一电阻(100)；连接在所述基准电压端和节点(104)之间的第二电阻(102)；具有第一沟道导电率的第一MOS晶体管(106)，其沟道连接在所述节点(104)和接地电压端之间，而栅极连接在所述电源，即基准电压端；和具有第二沟道导电率的第二MOS晶体管(108)，共沟道连接在所述基准和接地电压端之间，而栅极连接到所述节点(104)。
2.如权利要求1规定的基准电压发生电路，其特征在于还包括第三MOS晶体管(110)，其沟道连接在所述节点(104)和所述第一MOS晶体管(106)的漏极之间，而栅极连接到所述基准电压端。
3.如权利要求1规定的基准电压发生电路，其特征在于还包括具有第一沟道导电率的第三MOS晶体管(110)其沟道与第一MOS晶体管(106)的沟道相关联，而其栅极连接到所述基准电压端。
4.如权利要求2或3规定的基准电压发生电路，其特征在于还包括具有第二沟道导电率的第四MOS晶体管(108′)，其沟道与第二MOS晶体管(108)的沟道并联，而其栅极连接到第一MOS晶体管(106)的漏极。
5.如权利要求1规定的基准电压发生电路，其特征在于所述第一和第二沟道导电率分别为N型和P型。
6.如权利要求4规定的基准电压发生电路，其特征在于所述第二MOS晶体管(108)的基片连接至所述基准电压端。
7.如权利要求2或3所规定的基准电压发生电路，其特征在于所述第一和第三MOS晶体管(106，110)的基片共同连接到或者接地电压，或者反向偏置电压上。
8.如权利要求1所规定的基准电压发生电路，其特征在于所述第一MOS晶体管(106)的沟道电阻具有正的热系数。
9.如权利要求2或3所规定的基准电压发生电路，其特征在于所述第二MOS晶体管(108)的阈值电压具有负的热系数。
10.一种将第一电源电压转变为第二电源电压的基准电压发生电路，包括连接在所述第一电源电压和接地电压之间的具有正的热系数用以相对于温度变化正向地补偿所述第二电源电压的正热补偿装置;和具有负热系数用以依据温度变化负向地补偿所述第二电源电压和对所述正热补偿装置的输出作出响应的负热补偿装置;借助所述正和负热系数相互抵消，从而稳定所述第二电源电压。
11.如权利要求10规定的基准电压发生电路，其特征在于还包括将所述第二电源电压反馈至所述正热补偿装置的反馈装置，以促进所述第二电源电压的稳定。
12.如权利要求11所规定的基准电压发生电路，其特征在于所述正热补偿装置包括第一电阻，第二电阻和具有第一沟道导电率的第一MOS晶体管，所述第一电阻和第二电阻和所述第一MOS晶体管的沟道串联连接在所述第一电源电压和接地电压之间。
13.如权利要求12所规定的基准电压发生电路，其特征在于所述负热补偿装置包括具有第二沟道导电率的第二MOS晶体管，其沟道连接在所述第二电源电压和接地电压之间，其栅极与所述第一MOS晶体管的漏极相连，而基片与基准电压端相连。
14.如权利要求13所规定的基准电压发生电路，其特征在于所述反馈装置包括具有第一沟道导电率的第三MOS晶体管，其沟道连接在所述第二MOS晶体管的栅极和所述第一MOS晶体管的漏极之间而栅极与所述第二电源电压相连。
15.一种用以产生比外电源电压低一个给定值的基准电压的基准电压发生电路，包括连接在所述外电源和基准电压之间供以电流的第一电阻;连接在所述基准电压和节点之间的第二电阻;具有第一沟道导电率的第一MOS晶体管，其沟道连接在所述节点和接地电压之间，其栅极连接到所述外电源电压，所述沟道具有正热系数;具有第二沟道导电率的第二MOS晶体管，其沟道连接在所述基准和接地电压之间，其栅极与所述节点相连，所述沟道具有为负热系数的阈值电压。
16.如权利要求15所规定的基准电压发生电路，其特征在于还包括具有第一沟道导电率的第三MOS晶体管，其沟道串联连接在所述节点和所述第一MOS晶体管的漏极之间，栅极与所述基准电压相连。
17.如权利要求15所规定的基准电压发生电路，其特征在于还包括具有第一沟道导电率的第三MOS晶体管，其沟道与所述第一MOS晶体管的沟道并联连接，而栅极与所述基准电压相连。
全文摘要
一种将第一电源电压转变为第二电源电压的基准电压发生电路包括连接在第一电源电压和接地电压之间的具有正的热系数用以相对于温度变化正向地补偿第二电源电压的正热补偿电路和具有负热系数用以相对于温度变化负向地补偿第二电源电压并对正热补偿电路的输出作出响应的负热补偿电路，从而借助该正和负热系数的相互抵消，来稳定第二电源电压。
文档编号G11C5/14GK1080742SQ9310675
公开日1994年1月12日 申请日期1993年5月29日 优先权日1992年5月30日
发明者李升勋 申请人:三星电子株式会社