专利名称：基材支撑件的制作方法
技术领域：
本发明的实施例大致涉及一基材支撑件。
背景技术：
薄膜晶体管(TFT)传统上被做在大型玻璃基材或板上，以用于监视器、平面显示器、太阳电池、个人数字助理(PDA)、大哥大等等。TFT通过依序沉积各种薄膜，包含非晶硅、掺杂及未掺杂氧化硅、氮化硅等，在多数真空处理室的集合式工具中完成，各真空室被典型设置在一中心传送室旁。该集合式工具典型连接至一工厂界面，其包含多数基材储存卡匣，该卡匣在处理前后固持基材。一真空隔绝室大致安排在工厂界面和集合式工具之间，以促成在集合式工具的真空环境和工厂界面的大气环境之间传递基材。
用于真空隔绝室中作为显示器用的玻璃基材的定位相较于较小的200mm甚至300mm圆基材是较困难的。例如，因为玻璃基材经常具有超出550mm×650mm的尺寸，并倾向于朝向1.2平方米及更大，所以，在位置上的小偏移将造成重大的基材失准。一失准基材具有很高的损坏或然率，造成基材成本上的损失。而且，一失准基材必须从真空隔绝室手动移开，因而需要很多的生产时间成本，因而，降低了基材生产量。
典型地，基材放置的正确性是由一安排于工厂界面中的机械手臂所控制，该机械手臂用来在卡匣与真空隔绝室之间移动基材。然而，很多集合式工具的末端使用者现在提供工厂界面和设置在其内部的机械手臂。因此，若由使用者所供给机械手臂的基材放置的正确性及重复性并不在该真空隔绝室的设计规格内，将会造成基材的损坏。因此，对于真空隔绝室，需要更配合于基材的放置，使得工具组件(即使用者提供工厂界面)可以被使用，以降低系统成本同时增加设计的弹性。
因此，需要有一真空隔绝室和基材支撑件，其能校正放置在它上面的基材的定向与位置。
发明内容
本发明提供了一种放置于一基材支撑件上的基材的方法和设备。在一实施例中，一用以支撑一基材的设备包括一支撑板，具有一第一主体安排于接近该支撑板。一第一推挤件径向地连接至第一主体并适合用来当第一主体旋转时，在平行于该支撑板的第一方向挤压基材。
在另一实施例中，一用以支持一基材的装置包含多数推挤件，每一推挤件均具有一第一旋转轴和一第二旋转轴，其垂直于该第一旋转轴。一第一推挤件适合用来将基材推挤于第一方向，一第二推挤件适合用来将基材推挤于一相反于第一方向的第二方向，一第三推挤件适合用来在一第三方向推挤该基材，以及一第四推挤件适合用来推挤该基材于相反于第三方向的第四方向。
在另一情况下，一真空隔绝室具有一支持一基材的基材支撑件。在一实施例中，该真空隔绝室包括一室体，该室体具有一放置在其内部的基材支撑板。一第一主体安排成接近该支撑板。一第一推挤件径向地连接至第一主体，并适合用来当第一主体旋转时，推挤基材于平行于支撑板的第一方向。
在另一情况下，提供了一种用以对准一基材的方法。在一实施例中，一种用以对准一基材于一基材支撑件上的方法包括将一基材放置于一支撑件上，将一冷却板升高朝向该支撑件，以引动一对准机构，以及反应于该引动并向支撑板的中心移动该对准机构的一第一推挤件，以将基材推挤于第一方向。
在另一实施例中，一种用以在基材支撑件上将基材对准的方法包括将一基材放置于一支持件上，旋转一第一推挤件以将基材推挤于一第一方向，旋转一第二推挤件以将该基材推挤于不同于第一方向的第二方向中。
图1为用以连接集合式工具至一工厂界面之真空隔绝室的实施例的集合式工具；图2为图1的真空隔绝室的剖面图；图3为一第一支撑板的等向图，其中具有一对准机构的一实施例；
图4为图3的对准机构的侧视图；图5A-5C为图4的对准机构在引动及未引动状态的侧及平面图；图6为具有一对准机构的另一实施例的真空隔绝室的部分剖面图；图7为图6的对准机构的分解等角图；图8A-8B为图6的对准机构在引动及未引动状态的剖面图；图9-11描绘一对准机构的另一实施例。
组件代表符号简单说明100 真空隔绝室 102 主体104A 壁 104B 壁106 基材 108 传送室110 内部容积 112 工厂114 埠 116 狭缝阀118 埠 120 狭缝阀122 排气埠 124 真空埠126 阀 128 阀130 真空泵 132 处理室134 真空机械手臂 136 大气机械手臂138 卡匣 140 停放格150 处理系统 160 第一支撑板162 对准设备 202 第二支撑件204 支座 206 底部208 顶部 210 窗口212 辐射加热器 214 冷却板216 抬举机构 218 风箱220 导管 222 流体源224 轴 228 孔径230 支柱 232 远端302 支撑组件 304 对准机构306 第二对准机构 308 对准机构
310 对准机构 312 对准机构314 对准机构 316 对准机构318 对准机构 350 第一角落352 第二角落 354 第三对角角落356 第四对角角落 402 推挤件404 臂 406 主体408 轴 410 安装托架412 引动器 414 控制器416 内存 418 支持电路420 中央处理单元 502 凹陷面504 孔 506 轴508 固定件 510 螺孔512 第一方向 514 轴522 推挤件 524 止动件600 真空隔绝室602 对准机构 604 推挤件606 臂 608 轴610 安装托架 612 滚子614 引动器 616 引动指部618 轮廓面 620 第一部分622 第二部分 624 槽626 固定件 628 螺孔630 第一方向 702 第一凸缘704 第二凸缘 706 中心部份708 第一孔 710 第二孔712 销 714 基部716 第一件 718 第二件720 安装孔 722 固定件724 螺孔 726 孔径728 轴 730 螺纹端
732 棒端 734 偏压件802 第一基材 902 对准机构904 引动器 906 对准凸缘910 中心主体 912 推挤件914 滚子 916 螺丝918 孔 920 孔922 弹簧 924 轮廓面具体实施方式
本发明大致提供一基材支撑件，具有一对准机构，其将一放置于其上的基材对准或对中一预定位置。下面将举例说明本发明用在一双基材真空隔绝室中，例如可从美国加州圣塔卡拉应用材料公司的一分部AKT购买到的双基材真空隔绝室。然而，可以了解的是，本发明也可以用于其它架构中，例如，单一基材真空隔绝室、多数基材真空隔绝室、无机械手臂平台、缓冲站以及其它用以支撑基材、并可获得基材位置正确性的装置。
图1为一处理系统150的一实施例的横截面图。处理系统150典型包括一传送室108，他被一真空隔绝室100连接至一工厂界面112，该真空隔绝室具有至少一基材对准机构162。该传送室108具有至少一设置在其内部的真空机械手臂134，用来在多数周围处理室132与真空隔绝室100之间传送基材。在一实施例中，其中一个处理室132为一预热室，用来在处理前热调整基材，以加强系统150的产量。典型地，传送室108被维持在一真空条件下，以免除在每一基材传送后，调整传送室108与个别处理室132之间压力的必要性。
工厂界面112大致包含多数基材储存卡匣138与一大气机械手臂136。该等卡匣138大致被可移除地设置在形成工厂界面112一侧上的多数停放格140之中。大气机械手臂136适合用来传送基材106于卡匣138与真空隔绝室100之间。典型地，工厂界面112被维持于大气压或略高于大气压。
图2为真空隔绝室100的一实施例的剖面图。该真空隔绝室100包含一主体，该主体具有壁面104A、104B、底部206及顶部208，以界定一可密封的内部容积110。该真空隔绝室100典型地通过一设置在壁104A中的埠114而连接至一工厂界面112。一狭缝阀116选择地密封该埠114，以使真空隔离室100的内部容积110与工厂界面112之间的气氛相隔离。狭缝阀116可以打开以允许一基材106通过于工厂界面112与真空隔绝室100之间的埠114。
真空隔绝室100典型通过一设置在壁104B中的埠118，而连接到传送室108。一狭缝阀120选择地密封埠118，以选择地隔离开真空隔绝室100的内部容积110与传送室108之间的气氛。狭缝阀120可以打开以允许基材106在传送室108与真空隔绝室100之间传送。可以适用于本发明的狭缝阀的例子在由Freerks所公告于1996年12月3日的美国专利第5,579,718号以及Tepman等人所公告于2000年4月4日的美国专利第6,045,620号中有描述，他们可在此引入作为参考。
室主体102另包含至少一埠，安排穿于其中，以便与控制内部容积110中的压力。如图1中所示的实施例中，室主体102包含一排气埠122与一真空埠124，形成穿过室主体102。阀126、128分别连接至排气埠122及真空埠124，以选择地防止流经其间。真空埠122连接至真空泵130，其选择地降低内部容积内的压力到一充分匹配传送室108的压力的位准。当于传送室108与真空隔绝室100间的压力实质相等时，狭缝阀120可以打开，以允许已处理基材被真空机械手臂124传送到真空隔绝室100，以及予以处理的基材被真空机械手臂124传送到传送室108。
在将基材由传送室108送回到真空隔绝室100后，狭缝阀120被闭合，阀126被打开，藉以允许空气进入真空隔绝室100并升高内部容积110中的压力。典型地，经由排气埠122进入内部容积110中的空气被过滤，以将基材微粒的潜在污染最小化。一旦在真空隔绝室100中的压力实质等于工厂界面112的压力时，狭缝阀116打开，因此，允许大气机械手臂136在真空隔绝室100以及连接至工厂界面112的基材储存卡匣138之间传送基材。
为了最小化为大气机械手臂136所需的精确度与正确性，一设置在真空隔绝室100内并适合用来从大气机械手臂136接收基材的支撑板160被装设有至少一个对准设备162，其将基材106相对于支撑板160作定位。例如，对准设备162可以校正基材106的沉积位置与基材106相对于支撑板160的预定(即设计)位置之间的位置不正确性，该沉积位置为基材106被大气机械手臂136所放置的位置。一旦被对准设备162所对准的基材106位置在真空隔绝室100内，而无关于传统利用大气机械手臂136的校正方法时，调整基材放置将允许更大的弹性及更低的系统成本。例如，具有对准设备162的支撑板160在真空隔绝室100及使用者供给工厂界面112之间提供了较大兼容性，因为真空隔绝室100对在支撑板160上的基材位置有更大的容许度，因而降低了对更大精确度和/或为工厂界面提供者所产生的校正机械手臂活动演绎法的需求。此外，因为大气机械手臂136的位置正确性规则被免除，所以可以利用较低成本的机械手臂。
图2所示的第一支撑板160具有对准机构162设置在一第二基材支撑件202上，呈一双基材固持架构。然而，本发明的实施例包含至少一基材支撑板，具有一对准机构，其可用可不用于多数其它支撑板上，支撑板的部分或所有包含一对准机构或者没有支撑板包含有一对准机构。
第一支撑板160及第二支撑件202大致被架构以分别支撑基材呈一平行堆放架构在真空隔绝室100内，并在可为大气及真空机械手臂136、134所取用的位置上。典型地，第一支撑板160被用以支撑进入传送室106的基材，而第二支撑件被用以支撑回到工厂界面112的基材。第一支撑板160连接至室主体102，典型连接至底部206。由图2及图3可以看出，支座204连接第一支撑板160至室底部206。支座204大致呈分隔关系排列，以促成一基材放置于第二支撑件202上。支座204另分开足够宽，以允许冷却板214移动于其间。
第二支撑件202大致固持一基材于第一支撑板160及室底部206之间。第二支撑件202可以为一由支座204或其它构件所支撑的板。如图2及图3所示的实施例中，第二支撑件202包含多数连接至室底部206的基材支撑支柱230，每一支柱230具有一远端232界定一大致平坦的基材支撑面。支柱230大致被设置成当基材传送时，不干扰机械手臂134、136。
基材的热控制可以另外被实施于真空隔绝室100之内。例如，室主体102的顶部208可以包含一窗口210，具有一辐射加热器212，安装在其上。加热器212经由窗口210照射该基材，以加热放置在第一支撑板160上的基材。一冷却板214可以另外安置在第一支撑板160及室主体102的底部206之间。冷却板214包含多数孔径228形成于其中，以允许多数支柱230被设置通过该冷却板214。典型地，冷却板214连接至设置在真空隔绝室100之外的抬举机构216。该抬举机构216可以被作动以移动冷却板214沿着支柱230移动。抬举机构216移动冷却板214以接近扣持在该第二支撑件202的远端232上的基材，藉以在为大气机械手臂固持前冷却该基材。或者，冷却板214可以抬举该基材离开第二支撑件202，以使热传递最大化。典型地，冷却板214被一动态密封件，例如一风箱218连接到室主体102的底部206。在一实施例中，冷却板214包含一或多数导管220，通过轴224连接至热传递流体源222，该轴224连接冷却板214与抬举机构216。来自流体源222的流体流经导管220，以移除由基材所传递的热至第二支撑件202。
图3是第一支撑板160与第二支撑件202的等角图。第一支撑板160大致包含多数支持组件302，其适合用来将基材维持在相对于第一支撑板160呈一相隔关系。支持组件302的高度大致被架构以允许机械手臂136、134的刀叶在被放置于支持组件302上的基材与支撑板160之间。或者，信道可以形成于支持组件302间的支撑板160中，以提供机械手臂136、134的刀叶空间。支持组件302可以另允许基材平行移动至第一支撑板160的不平面，而不会刮伤或损及基材。支持组件302可以为低磨擦垫、滚珠或空气轴承等等。在图3所示的实施例中，支持组件302为塑料垫，例如由含氟聚合物所制作。第二支撑件202的远端232也可以包含支持组件302，以最小化对基材的可能伤害。
第一支撑板160典型被多数对准机构162所包围。对准机构162可以被连接至第一支撑板160或者连接至室主体102的一部分。对准机构162适合用来合作地确定基材被放置于相对第一支撑板160的预定位置。一般而言，第一对对准机构被架构以将其间的基材沿着第一坐标轴对准，而第二对对准机构被架构以将其间的基材沿着一第二坐标轴对准，藉以合作地移动基材进入一预定位置。典型地，第一坐标轴垂直朝向于第二坐标轴。
如图3所示的实施例，第一对对准机构304、306被设置在第一支撑板160的第一角落350的邻近两侧，而第二对对准机构308、310被安排在对角的第二角落352的邻近两侧。每一相对的对准机构(即306、308与304、310)的相对对准机构162被适合用来移动基材于一相反方向，藉以将基材对中于其间。而且，因为对准机构典型被连接成偏移开支撑板160的中点，所以当对准机构162移动基材至一相对于支撑板160的预定位置时，该基材的倾斜可以被校正。或者，对准机构162可以沿着支撑板160的每一侧定位(即不在第一支撑板160的角落)。或者，本发明想到沿着支撑板160的一侧使用单一对准机构162，以配合传统对准装置，以对准基材。
在图3所示的实施例中，一第三对对准机构312、314及第四对对准机构316、318被设置在第一支撑板160的第三及第四对角线角落354、356处。第二对对准机构提供当对准基材在第一支撑板160上时的另一正确性的量测法。
图4是第一支撑板160及对准机构304的实施例的部分前视图。其它对准机构也可以类似地建构在一实施例中。对准机构304大致包含一推挤件402，其被一臂404所连接至主体406。主体406具有一轴408贯穿于其间。轴408通过一对安装托架412被连接至第一支撑板160，该对托架设置在主体406的两侧。轴408被连接至一引动器412上，其可以被以另一方式激励或瞬发，以使得推挤件402绕着轴408旋转。引动器412典型连接至一控制器414。
控制器414大致包含一中央处理单元(CPU420)、支持电路418及内存416。CPU420可以为任意形式的计算机处理器，其可以用于工业设定，以控制推挤件402的动作。内存416被连接至CPU420。内存416或计算机可读取媒体可以一或多数立即可用之内存，例如随机存取内存(RAM)、只读存储器(ROM)、软盘、硬盘、或其它任意形式的数字储存、不论是本地或远程的。支持电路418被连接至CPU420，用以以传统方式支持处理器。这些电路包含快取、电源、时钟电路、输入/输出电路、次系统等等。
控制器414大致提供一信号给引动器412，使得引动器412以施加一旋转动作至轴408。在图4所示的实施例中，引动器412可以为伺服马达、步进马达或其它电机马达、一气压马达、一水力动力机、或一旋转螺线管等装置或机械的组合，以提供旋转给轴408，例如一偏心连接至轴408的线性引动器。
参考图5A-C，当引动器412使得轴408旋转时，推挤件402向第一支撑板160的中心区域移动。推挤件402大致由一不会刮伤、损坏或污染基材106的材料所制造。在一实施例中，推挤件402由聚合物制作，例如一含氟聚合物。
推挤件402大致包含一面502，其当对准机构304旋转时，接触一失准基材106。面502大致推挤基材106于一第一方向512进入预定位置。典型地，第一方向512垂直于轴408的旋转轴514并为一正切面502。在一实施例中，面502为凹陷，以防止当推挤件402旋转时，基材106被抬举，因而，确保基材越过间隔组件302移动于第一方向512中。在将推挤件402旋转向第一支撑板160的中心后，引动器412大致将对准机构304送回到由图5A所示的位置，其中推挤件402离开基材，以完成基材的传递。
推挤件402另外被架构以绕着一中心轴506旋转，该轴典型设置成垂直于该旋转轴514。推挤件402旋转的能力促成了基材106相对于推挤件402作横向移动。因而，允许基材正切移动越过推挤件402，面502大致被架构以对称中心轴506。例如，若邻近对准机构306(如图5C所示)同时在对准程序中也接触基材(即相对对准机构304、306旋转向支撑板160的中心)，则基材106也被同时在两方向移动。当推挤件402可以绕着轴506旋转时，基材可以横向移动，由于对准机构306所施加的力量，而同时接触推挤件，而不会有不当的额外磨擦或微粒产生。同样地，对准机构306具有一推挤件522，其沿着其轴旋转，完成与它接触的基材的横向移动。因此，推挤件402、522允许基材在一方向作横向移动，同时，以一第二，典型为垂直的方向，对基材施加运动。
在一实施例中，一固定件508被设置通过一沿着推挤件402的轴506形成的孔504，并被螺旋入形成于臂404中的螺纹孔510内，以促成推挤件402的旋转。用以旋转地连接推挤件402的其它架构也可以被使用。推挤件522类似地连接至对准机构306。
为了放置基材106在一预定位置，推挤件402的绕轴514旋转或投掷被典型地作机械或电子式的限制。例如，控制器414可以发出信号给引动器412，以限制推挤件402的旋转于一预定角度。在图5A-B所示的实施例中，一机械止动件524被放置在一位置，以限制对准机构304的角度旋转。例如，止动件524可以连接至支撑板160的一位置，以相对于支撑板160停止该臂404于一预定角度。用以控制及/或限制推挤件402的移动的其它架构与方法也可以加以使用。
图6是另一实施例的对准机构602的真空隔绝室600的部分剖面图。该真空隔绝室600大致类似于上述的真空隔绝室100，并大致包含至少四个对准机构，每一个安排在放置于室600内之基材的一侧，其中，只有对准机构602被显示在图6中。一般而言，如同参考图3所述，至少两对对准机构602被用于基材604的对角角落上。或者，额外的对准机构602也可以用在沿着基材604的任一缘上，及/或被利用于基材的两个对角角落。
对准机构602大致包含一通过臂606连接至轴608的推挤件604。一安装托架618连接轴608至支撑板160。一般而言，一引动器614与该对准机构602相交界，以使得一失准基材移动于第一方向630。典型地，第一方向630垂直于轴608，而臂606与推挤件604绕着该轴608旋转。
如图6所示的实施例中，引动器614包括冷却板214和连接于其上的引动指部616。当冷却板214为抬举机构216所升高时，引动指部616接触对准机构602，使得对准机构602将推挤件604旋转向支撑板160的中心。为了将引动指部616与对准机构602间的微粒产生最小化，一滚子612连接至臂606的一位置，以允许当冷却板214被升高时，引动指部616从其上滑过。滚子612典型由塑料制造，例如含氟聚合物，并当与引动指部616接触时旋转，以进一步最小化微粒的产生。
为了控制推挤件604的投掷及动作速率，引动指部616的一垂直第一部分620具有一轮廓面618，其于引动时啮合滚子612。轮廓面618可以为直线、弯曲或具有复杂形状，以被架构用来以预定速率移动推挤件604或者旋转该推挤件604经一预定角度旋转。引动指部616的第二部份622包含一槽624，其接收一固定件626，其旋入一形成在冷却板214中的螺纹孔628中。槽624允许引动指部616的位置被相对于支撑板160作调整，因而，设定轮廓面618与滚子612的相对位置，以提供加大的推挤件活动调整范围。
图7为对准机构602的实施例的分解图。对准机构602的臂606大致包含一第一凸缘702及一第二凸缘704为一中心部分706所连接。中心部分706具有推挤件604可旋转地连接至其上。第二凸缘704系为滚子612所遮住，但实质类似于第一凸缘702。第一及第二凸缘702、704均具有一第一孔708及一第二孔710形成于其中。第一孔708被架构以收纳一定位销712，其提供一旋转轴给滚子612。滚子612的旋转轴大致平行于轴608并垂直于推挤件604的旋转轴。第二孔710大致收纳轴608，其允许臂606旋转。
安装托架610大致包含一基部714，具有由该处延伸的第一及第二构件716、718并呈一U形架构。基部714具有多数安装孔720形成于其间，以促成将安装托架610连接至支撑板160。如图7所示的实施例中，一对固定件722通过孔720并螺旋入形成于支撑板160中的螺孔724。
安装托架610的每一构件716、718均包含一孔径726，以收纳轴608。图7所示之实施例中，轴608包含一对轴组件728。每一轴组件728均具有一螺纹端730及一棒端732。轴组件728的螺纹端730啮合安装托架610的每一构件716、718，以允许棒端732伸入孔726中。棒端732分别被安排于臂606的第一及第二凸缘702、704的第二孔710中，藉以允许臂606相对于安装托架610旋转。
另外，一偏压件734被安排于凸缘702、704之一与臂606之间。该偏压件734大致将臂606推动绕着轴608旋转于将推挤件604推离开支撑板160的方向。因此，当引动指部616移动以接触滚子612时，偏压件734确保与滚子612与轮廓面618间的紧密接触，因而，使得推挤件604的所得动作具有一预定范围及速率。偏压件734另外允许推挤件604在对准程序后与支撑板160分开并摆动，以不干扰基材传递。于一实施例中，偏压件734为一扭转弹簧。
图8A-B是对准机构602在一未引动及引动状态，引动状态中，基材被移动于第一方向。同时发生但未示出，其它对准机构也作动以移动基材于一第二方向，该配合基材的移动于第一方向，而配合将基材移动入预定位置。一般而言，基材106被大气机械手臂(未示出)放置于支撑板160的支持组件302上。包含冷却板214及引动指部616的引动器614被连接至冷却板214的抬举机构216所升高。当引动指部616向上移动时，引动指部616的轮廓面618接触对准机构602的滚子612，使得对准机构将推挤件604旋转向支撑板160的中心。如果基材对在第8A-B图所示的特定对准机构为失准，则推挤件604将接触基材106并将基材推向第一方向630。因为在支撑板160的其它缘上的其它对准机构(简单地如第3图所示)将基材推向于与第一方向630不同的第二方向中，所以推挤件604会旋转，藉以允许基材随着对准机构602作横向移动，典型地在垂直于第一方向630的方向，而不会损及基材或产生微粒。与其它对准机构的组合作用使得基材被放置于一预定位置，以促成进一步的固定与处理，而不会有由于基材失准所造成的损坏。
另外，冷却板214在对准处理时，移动至接近从传送室(未示出)回来的已处理基材802的位置。在此位置中，基材802的冷却配合对准处理开始，在真空隔绝室600内不需要独立引动器或控制，以促成对准与冷却。
图9-11是可以用于真空隔绝室内的对准机构902的另一实施例。一般而言，至少一对准机构902连接至支撑板160的每一侧(只有两侧被显示安排在支撑板160的一角落的邻近侧上)。每一对准机构902可以被引动以线性移动朝向支撑板160的中心。对准机构902通过一引动器904所设定动作。引动器904大致类似于上述的引动器616，并包含一引动指部906连接至冷却板214。
对准机构902大致由一中心主体910及一滚子914所组合，主体910具有一推挤件912连接至面向支撑板160的主体910侧上，以及滚子914连接至主体910的另一侧。虽然推挤件912所示为固定到主体910上，但推挤件912也可以架构以类似于上述推挤件402、604般地旋转。
多数导件大致连接对准机构902至支撑板160，同时，允许对准机构902相对于支撑板160作移动。在一实施例中，导件包含一对肩部螺丝916，每一螺丝均通过一形成在对准机构902中的孔918并被螺旋入形成于支撑板160中的孔920中。面向支撑板160的孔918侧包含一埋头孔，其部分包围住一弹簧922。弹簧922大致将对准机构902偏压离开支撑板160，以在引动器904与放置于支撑板160上的基材间提供适当余隙。
基材大致被对准于支撑板160上，藉由将冷却板214升高，以引动对准机构902。引动指部906以一轮廓面924接触滚子914，以将对准机构902位移向支撑板160的中心。因为每一对准机构902被沿着支撑板160的四个边引动，所以座落于支撑板160上的基材被对准机构902推入预定位置，以促成了进一步的固定与处理，而不会由于基材失准而造成损坏。
依据本发明的主旨，本发明的其它实施例可以在不脱离本发明的基本范围下加以想出。应注意的是，附图只例示本发明的典型实施例，因此，并不应被认为是本发明的范围限制，因为本发明可以适用于其它等效实施例。
权利要求
1.一种用以支撑一基材的装置，该装置至少包括一支撑板，具有一第一侧适合用来支撑基材及一第一缘包围住该第一侧的一部分；一第一主体，可旋转地设置于该第一缘近端；及一第一推挤件，径向地连接至该第一主体并适合用来当该第一主体旋转时，将基材推向平行该第一侧的一第一方向。
2.如权利要求1所述的装置，其中，所述的第一主体具有一旋转轴，平行于支撑板的一平面。
3.如权利要求1所述的装置，其中，所述的第一推挤件具有一被第一主体的旋转所界定的第一旋转轴和一朝向与第一旋转轴不同方向的第二旋转轴。
4.如权利要求3所述的装置，其中，所述的第二旋转轴垂直于该第一旋转轴。
5.如权利要求1所述的装置，其中，所述的第一推挤件具有一凹陷面，适用以推挤该基材，其中所述的第一方向正切于该凹陷面。
6.如权利要求1所述的装置，其中，所述的主体连接至一引动器。
7.如权利要求1所述的装置，还包括一滚子，连接于主体的一旋转轴与第一推挤件之间。
8.如权利要求1所述的装置，其中，所述的主体还包括一第一凸缘；一第二凸缘；一中心部份，连接该第一及第二凸缘；一第一孔形成穿过该第一及第二凸缘，并与主体的第一旋转轴同轴；及一滚子，设置在第一及第二凸缘间，该滚子具有一第二旋转轴平行朝向该主体的第一轴，该第二轴被界定于第一轴与中心部分之间。
9.如权利要求8所述的装置，还包括一偏压件，设置于该第一及第二凸缘的至少一个与滚子之间，该偏压件适用以将主体压靠至该第一轴。
10.如权利要求8所述的装置，还包括一冷却板；及一引动指部，连接至该冷却板，并适用以当冷却板相对于主体作位移时，推挤该滚子。
11.如权利要求1所述的装置，还包括一第二主体，可旋转地设置于接近支撑板的第二缘，该第二缘被安排成接近第一缘；及一第二推挤件，径向地连接至第二主体并适用以将基材推向第二方向，该第二方向不同于该第一方向。
12.如权利要求11所述的装置，还包括一第三主体，可旋转地设置在接近该支撑板的第三缘，该第三缘设置成接近该第一缘并与第二缘相对；一第三推挤件，径向地连接至该第三主体并适合用来当第三主体旋转时，将基材推向相反于第一方向的方向中；一第四主体，可旋转地安排于接近该支撑板的第四缘，该第四缘被设置与第二缘相对；及一第四推挤件，径向地连接至该第四主体并适用以当第四主体旋转时，将基材推向相反于第二方向的方向中。
13.一种用以支撑一基材的装置，还包括一第一推挤件，具有一第一旋转轴及一第二旋转轴垂直朝向该第一旋转轴，该第一推挤件适用以将基材推向第一方向；一第二推挤件，具有一第三旋转轴设置平行于该第一旋转轴及一第四旋转轴垂直朝向该第三旋转轴，该第二推挤件适用以将基材推向相反于第一方向的第二方向中；一第三推挤件，具有一第五旋转轴安排垂直于该第一旋转轴及一第六旋转轴垂直朝向该第五旋转轴，该第三推挤件适用以将基材推向第三方向；一第四推挤件，具有一第七旋转轴安排平行于第五旋转轴及一第八旋转轴垂直朝向该第七旋转轴，该第一、第三、第五及第七轴在单一平面上，及第二推挤件适用以将基材推向相反于第三方向的第四方向中。
14.如权利要求13所述的装置，其中，所述的第一推挤件还包括一凹陷面。
15.如权利要求14所述的装置，其中，所述的第三方向正切于该第一推挤件的凹陷面。
16.如权利要求13所述的装置，还包括一引动器连接至至少一推挤件。
17.如权利要求13所述的装置，其中所述的引动器为一冷却板相对于第一轴移动。
18.一种真空隔绝室，用以传送一基材于一第一环境与一第二环境之间，该真空隔绝室至少包括一室主体，具有一第一基材传送埠及一第二基材传送埠；一支撑板，安排于该室主体内并具有一第一侧，适合用来支撑经由第一或第二基材传送埠传送的基材；一第一主体，设置成接近该支撑板的第一缘并具有一第一旋转轴平行该第一缘；及一第一推挤件，连接至该第一主体并有一第二旋转轴垂直于该第一旋转轴，该推挤件适合用来当主体绕着第一轴旋转时，推挤该基材于第一方向中。
19.如权利要求18所述的真空隔绝室，其中，所述的第一推挤件具有一凹陷面，适用以推挤该基材。
20.如权利要求18所述的真空隔绝室，其中，所述的第一主体连接至一引动器。
21.如权利要求18所述的真空隔绝室，其中，所述的第一主体还包括一第一凸缘；一第二凸缘；一中心部份，连接该第一及第二凸缘；一第一孔，形成穿过该第一及第二凸缘，并与该主体的第一旋转轴同轴；及一滚子，安排于该第一及第二凸缘之间，该滚子具有一第二旋转轴平行于该主体的第一轴，该第二轴界定于该第一轴与中心部分之间。
22.如权利要求21所述的真空隔绝室，还包括一偏压件，安排于该第一及第二凸缘的至少一个凸缘与该滚子之间，该偏压件适用以将主体偏压靠第一轴。
23.如权利要求21所述的真空隔绝室，还包括一冷却板；及一引动指部，连接至该冷却板并适用以当该冷却板相对于主体位移时，推挤该滚子。
24.如权利要求18所述的真空隔绝室，还包括一第二主体，可旋转地安排于接近该支撑板的第二缘，该第二缘被安排接近该第一缘；及一第二推挤件，径向地连接至该第二主体并当第二主体旋转时，适用以将该基材推向一与第一方向不同的第二方向。
25.如权利要求24所述的真空隔绝室，其中所述的第一方向垂直于该第二方向。
26.一种用以传送基材于一第一环境与第二环境间的真空隔绝室，该真空隔绝室至少包括一室主体，有一第一基材传送埠及一第二基材传送埠；一支撑板，安排于该室主体内并有一第一侧，适用以支撑该基材通过第一或第二基材传送埠；一第一对准机构，安排于接近该支撑板的第一缘，该第一支撑板具有一第一推挤件，具有一第一旋转轴平行于该第一缘，该推挤件适用以当被绕着第一轴旋转时，推挤该基材于一第一方向；一第二对准机构，安排于接近该支撑板的第二缘，并具有一第二推挤件含一第二旋转轴平行于该第一旋转轴，该第二推挤件适用以当被绕着第二轴旋转时，推挤该基材于相反于该第一方向的第二方向；一第三对准机构，设置成接近该支撑板的第三缘，该支撑板被放置于该第一及第二缘之间，该第三对准机构具有一第三推挤件，具有一第三旋转轴垂直于该第一旋转轴，该推挤件当被绕着第三轴旋转时，适用以推挤该基材于垂直于第一方向的第三方向中；一第四对准机构，安排于接近该支撑板的第四缘，并具有一第四推挤件，含一平行于第三旋转轴的第四旋转轴，该第四推挤件适用以当被绕着第四轴旋转时，推挤该基材于相反于第三方向的第四方向；及一冷却板，可动地设置在室主体内并适合用于当移动向支撑板时，使得第一至第四对准机构旋转。
27.如权利要求26所述的真空隔绝室，其中所述的第一推挤件具有一面，其绕着垂直于第一旋转轴的轴旋转，其中该第三方向正切于该表面。
28.一种用以将一基材对准于一基材支撑件上的方法，该方法至少包含步骤将一基材放置在一支撑件上；旋转一第一推挤件，以使基材被推动于一第一方向；及旋转一第二推挤件，以使基材被推动于一不同于第一方向的第二方向。
29.如权利要求28所述的方法，其中所述的旋转第一推挤件的步骤还包括将该第一推挤件绕着定义成平行于该支撑件的第一轴旋转。
30.如权利要求29所述的方法，还包括将该第一推挤件绕着一定义成垂直于该第一轴的第二轴旋转。
31.如权利要求28所述的方法，其中，所述的旋转第一推挤件的步骤还包括将一冷却板升高朝向该支撑件，以造成该第一推挤件的旋转。
32.一种用以将一基材对准于一基材支撑件上的方法，该方法至少包含步骤将一基材放置于一支撑件上；将一冷却板升高朝向该支撑件，以引动该对准机构；及反应于该引动，而将对准机构的一第一推挤件移动向基材的中心，以将基材推动于第一方向。
33.如权利要求32所述的方法，其中，所述的移动第一推挤件的步骤还包括至少旋转或线性位移该第一推挤件。
34.如权利要求32所述的方法，还包括将第一推挤件绕着一被定义为垂直于该第一方向的一第二轴旋转。
35.如权利要求32所述的方法，其中，所述的升高一冷却板的步骤还包含引动一第二对准机构；及反应于该引动，而向支撑件的中心移动该第二对准机构的一第二推挤件，以推挤该基材于垂直于该第一方向的第二方向。
36.一种对准一基材于一基材支撑件上的方法，该方法至少包含步骤将一基材放置于一支撑件上；将一冷却板升高朝向该支撑件，以引动一对准机构；反应于该引动，而旋转第一推挤件向该支撑件的中心，以推挤该基材向第一方向；及绕着定义为垂直于该第一方向的第二轴，旋转该第一推挤件。
全文摘要
本发明大致提供一种用以支撑一基材的方法和设备。在一种情况下，一种用以支撑一基材的设备包括一支撑板，具有一第一主体安排成接近该支撑板。一第一推挤件径向地连接至第一主体并用来当第一主体旋转时，在平行于该支撑板的第一方向挤压基材。在另一种情况下，一具有一基材支撑件的真空隔绝室包含有一冷却板，其被移动以作动至少一个对准机构，该基材支撑件支撑放在其上面的基材。对准机构包含一推挤件，该推挤件将基材在第一方向朝该支撑件的中心推挤。推挤件可以另外旋转于垂直于第一方向的轴上。
文档编号H01L21/205GK1639839SQ03804395
公开日2005年7月13日 申请日期2003年2月18日 优先权日2002年2月22日
发明者栗田·新一, 温道尔·T·布洛尼根, 苏海勒·安瓦尔, 清武·俊男, 阮·亨·T 申请人:应用材料股份有限公司