专利名称:一种烧结钕铁硼磁体的制作方法
【专利摘要】烧结钕铁硼磁体，包括N52钕铁硼磁体本体，其特征在于，在所述N52钕铁硼磁体本体的外层包裹有一层N45钕铁硼磁体，所述N45钕铁硼磁体外部为镍磷镀层，镍磷镀层外部为镍钴镀层，镍钴镀层外部为聚氯乙烯树脂保护层。所述镍磷镀层厚度为10μm～12μm。所述镍钴镀层厚度为5μm～7μm。所述聚氯乙烯树脂保护层厚度为25μm～30μm。所述N45钕铁硼磁体厚度为5mm～10mm。
【专利说明】一种烧结钕铁硼磁体
【技术领域】
[0001]本实用新型属于材料领域，具体涉及一种钕铁硼磁性材料。
【背景技术】
[0002]钕铁硼磁性材料，作为稀土永磁材料发展的最新结果，由于其优异的磁性能而被称为“磁王”。钕铁硼磁性材料是镨钕金属，硼铁等的合金。又称磁钢。钕铁硼具有极高的磁能积和矫力，同时高能量密度的优点使钕铁硼永磁材料在现代工业和电子技术中获得了广泛应用，从而使仪器仪表、电声电机、磁选磁化等设备的小型化、轻量化、薄型化成为可能。钕铁硼的优点是性价比高，具良好的机械特性；不足之处在于居里温度点低，温度特性差，且易于粉化腐蚀，必须通过调整其化学成分和采取表面处理方法使之得以改进，才能达到实际应用的要求。
[0003]钕铁硼永磁体中的钕是一种稀土元素，化学活性很强，其标准平衡电位是-2.431V，在空气中易被氧化，耐蚀性差。并且在烧结钕铁硼永磁材料中富B相、富Nd相、Nd2Fel4B相的电化学电位各不相同，富Nd相的电极电位负于基体Nd2Fel4B相，晶界上数量众多的富钕相，在湿热的环境中形成腐蚀微电池，组成了许多大阴极(Nd2Fel4B相)与小阳极(Nd相)组成的微电池群。富Nd相首先被腐蚀，形成晶间腐蚀，严重时，产生大量Nd的氧化物和氢化物使材料粉化，从而导致磁性能下降。因此，一般都要对钕铁硼永磁体表面进行涂层处理，目前使用的涂层技术有:电镀Ni层、电镀Zn层、组合电镀NiCuNi层、化学镀Ni层、电泳以及真空溅射铝膜等技术。
[0004]采用上述方法获得的钕铁硼永磁体的表面涂层，不能完全满足钕铁硼永磁体的防腐和使用性能，限制了钕铁硼磁体在风电等耐蚀性、稳定性方面有更高要求的领域的应用。
【发明内容】
[0005]本实用新型的目的是提供一种耐腐蚀性强，磁性能好的烧结钕铁硼磁体。
[0006]本实用新型的烧结钕铁硼磁体，烧结钕铁硼磁体，包括N52钕铁硼磁体本体，在所述N52钕铁硼磁体本体的外层包裹有一层N45钕铁硼磁体，所述N45钕铁硼磁体外部为镍磷镀层，镍磷镀层外部为镍钴镀层，镍钴镀层外部为聚氯乙烯树脂保护层。
[0007]所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述镍磷镀层厚度为10 μ m?12 μ m。
[0008]所述镲钴镀层厚度为5 μ m?7 μ m。
[0009]所述聚氯乙稀树脂保护层厚度为25 μ m?30 μ m。
[0010]所述N45钕铁硼磁体厚度为5mm?10 m m。
[0011]其中，钕铁硼磁体的几何尺寸不限。
[0012]本实用新型烧结钕铁硼磁体，主要是增强钕铁硼磁体的耐腐蚀能力，保持钕铁硼持久的磁性能。以及扩大钕铁硼磁体的应用领域而发明的。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:通过N52钕铁硼磁体本体的外层包裹有一层N45钕铁硼磁体，提高钕铁硼材料的磁性能，通过在N45钕铁硼磁体外部包裹镍磷镀层，镍磷镀层外部包裹镍钴镀层，镍钴镀层外部包裹聚氯乙烯树脂保护层。形成三层的复合保护层，达到了最佳的耐腐蚀效果。提高了稀土永磁器件的可靠性和耐用年限，镀层的盐雾试验可达200小时以上。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型烧结钕铁硼磁体结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面给出的实施例拟对本实用新型作进一步说明，但不能理解为是对本实用新型保护范围的限制，本领域技术人员根据本实用新型内容对本实用新型的一些非本质的改进和调整，仍属于本实用新型的保护范围。
[0015]如图1所示，烧结钕铁硼磁体，包括N52钕铁硼磁体本体1，在所述N52钕铁硼磁体本体I的外层包裹有一层N45钕铁硼磁体2，所述N45钕铁硼磁体2外部为镍磷镀层3，镍磷镀层3外部为镍钴镀层4，镍钴镀层4外部为聚氯乙烯树脂保护层5。所述镍磷镀层3厚度为10 μπι?12 μπι。所述镲钴镀层4厚度为5 μm?7 μm。所述聚氯乙稀树脂保护层5厚度为25 μ m?30 μ m。所述N45钕铁硼磁体2厚度为5_?10 m m。
【权利要求】
1.一种烧结钕铁硼磁体，包括N52钕铁硼磁体本体，其特征在于，在所述N52钕铁硼磁体本体的外层包裹有一层N45钕铁硼磁体，所述N45钕铁硼磁体外部为镍磷镀层，镍磷镀层外部为镍钴镀层，镍钴镀层外部为聚氯乙烯树脂保护层。2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述镍磷镀层厚度为10μπι?12 μ m03.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述镍钴镀层厚度为5μ m?7 μ m。4.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述聚氯乙烯树脂保护层厚度为25 μ m ?30 μ m。5.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述N45钕铁硼磁体厚度为5mm?1mm0
【文档编号】H01F1-057GK204288996SQ201420783193
【发明者】齐丽平 [申请人]太原新力磁业有限公司