专利名称：影像感测器封装用清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于影像感测器制造辅助设备，特别是一种影像感测器封装用清洗装置。
背景技术：
如图1所示，习知影像感测器包括基板10、凸缘层18、影像感测芯片26、数条导线28及透光层34。
基板10设有形成有讯号输入端15的第一表面12及形成有讯号输出端16的第二表面14。
凸缘层18设有上表面20及下表面22。下表面22黏着固定于基板10第一表面12上的，并与基板10形成容置室24。
影像感测芯片26设于基板10与凸缘层18所形成的容置室24内，并固定于基板10的第一表面12上。
数条导线28具有电连接至影像感测芯片26的第一端点30及电连接至基板10上讯号输入端15的第二端点32。
透光层34黏设于凸缘层18的上表面20。
在影像感测器封装过程中，为了提高产品的洁净度，减少杂质的残流留，当将凸缘层18黏着固定于基板10的第一表面12后，容置室24内必须予以清洗，降低杂质残留于容置室24内，以提高封装品质。
如图2所示，习知的影像感测器封装用清洗装置包括设有清洗室46的密封体40、旋转机构42及喷洗机构44。
旋转机构42设置于密封体40的清洗室46内，可相对于密封体40旋转。
喷洗机构44设置于密封体40上方。如是，在封装过程中，将设置凸缘层18的基板10固定于旋转机构42上，其容置室24朝向喷洗机构44，此时，喷洗机构44可朝向容置室24方向喷洒水柱进行清洗，并借由旋转机构42的离心力将清洗后的杂质排除，以提高容置室24内的洁净度。
惟，上述习知的清洗装置存在如下缺点1、容置室24内基板10与凸缘层18接触的位置为直角，杂质藏匿于直角上时，喷水并无法有效地将杂质冲洗。
2、旋转机构42以离心方式清除杂质时，杂质容易被凸缘层18挡住，无法有效地将杂质自容置室24内去除。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种有效清洁杂质、提高影像感测器封装品质的影像感测器封装用清洗装置。
本实用新型包括设有清洗室的密封体及设置于清洗室内的喷洗机构；喷洗机构位于密封体底部，其与设置于清洗室顶端基板上朝下的容置室相对，并可向基板容置室喷洒清洗物。
其中清洗室内设有真空泵。
喷洗机构的清洁物为清洁水。
喷洗机构的清洁物为氮气或二氧化碳。
由于本实用新型包括设有清洗室的密封体及设置于清洗室内的喷洗机构；喷洗机构位于密封体底部，其与设置于清洗室顶端基板上朝下的容置室相对，并可向基板容置室喷洒清洗物。清洗时，将设置凸缘层的基板置放于密封体的清洗室内，并固定于清洗室顶端，而容置室则朝向清洗室下方与喷洗机构相对，此时，由喷洗机构喷出的清洁物喷向容置室，用以清洁容置室，并借由真空泵将清洗室内的杂质及清洁物(清洁水或氮气)吸出，而将容置室内的杂质清洗干净，即可有效地将基板的容置室内的杂质清洗干净，以提高影像感测器的清洗品质，达到提高影像感测器的封装品质。不仅有效清洁杂质，而且提高影像感测器封装品质，从而达到本实用新型的目的。
图1、为习知影像感测器结构示意剖视图。
图2、为习知的影像感测器封装用清洗装置结构示意剖视图。
图3、为本实用新型结构示意剖视图。
图4、为本实用新型使用状态示意图。
具体实施方式
如图3所示，本实用新型包括密封体50、喷洗机构52及真空泵54。
密封体50形成清洗室62，其包括底座56、外盘58及上盖60。
喷洗机构52位于密封体50的清洗室62内，并设置于底座上58，可喷出清洁水或氮气(N2)或二氧化碳(CO2)等清洁物。
真空泵54设置于密封体50的清洗室62内。
如图4所示，基板64为封装影像感测器封装用，其凸缘层66设置于基板64上而与基板64形成容置室68。将设置凸缘层66的基板64置放于密封体50的清洗室62内，并固定于清洗室62顶端，而容置室68则朝向清洗室62下方与喷洗机构52相对，此时，由喷洗机构52喷出的清洁物喷向容置室68，用以清洁容置室68，并借由真空泵将清洗室62内的杂质及清洁物(清洁水或氮气)吸出，而将容置室68内的杂质清洗干净。
如是，即可有效地将基板64的容置室68内的杂质清洗干净，以提高影像感测器的清洗品质，达到提高影像感测器的封装品质。
权利要求1.一种影像感测器封装用清洗装置，它包括设有清洗室的密封体及设置于清洗室内的喷洗机构；其特征在于所述的喷洗机构位于密封体底部，其与设置于清洗室顶端基板上朝下的容置室相对，并可向基板容置室喷洒清洗物。
2.根据权利要求1所述的影像感测器封装用清洗装置，其特征在于所述的清洗室内设有真空泵。
3.根据权利要求1所述的影像感测器封装用清洗装置，其特征在于所述的喷洗机构的清洁物为清洁水。
4.根据权利要求1所述的影像感测器封装用清洗装置，其特征在于所述的喷洗机构的清洁物为氮气或二氧化碳。
专利摘要一种影像感测器封装用清洗装置。为提供一种有效清洁杂质、提高影像感测器封装品质的影像感测器制造辅助设备，提出本实用新型，它包括设有清洗室的密封体及设置于清洗室内的喷洗机构；喷洗机构位于密封体底部，其与设置于清洗室顶端基板上朝下的容置室相对，并可向基板容置室喷洒清洗物。
文档编号H01L21/00GK2746518SQ20042006651
公开日2005年12月14日 申请日期2004年6月22日 优先权日2004年6月22日
发明者杨翔钧, 林明勋, 魏佳民 申请人:胜开科技股份有限公司