制造用于平板显示器彩色滤光片的像素矩阵的方法和设备的制作方法

专利名称：制造用于平板显示器彩色滤光片的像素矩阵的方法和设备的制作方法
技术领域：
本发明一般而言涉及用于平板显示器制造的喷墨印刷，更具体地涉及用于在衬底上形成像素矩阵的设备和方法。
背景技术：
平板显示器工业已经试图采用喷墨印刷制造显示器件，尤其是制造用于平板显示器的彩色滤光片。因为当印刷用于彩色滤光片的图案时墨水沉积到其中的像素井会特别小，所以产生缺陷的可能性很大。因而，需要包括改进的像素矩阵结构的改进的方法和设备，以帮助精确地和稳定一致地将墨水沉积到像素井中。

发明内容
在本发明的某些方面，提供一种包括多个像素井的像素矩阵，每一个像素井包括顶面和侧壁面，其中顶面是疏墨水性的，而侧壁面是亲墨水性的。
在本发明的其它方面，提供一种用于形成像素矩阵的系统，其包括包含激光烧蚀系统的图案化工具，其可操作地在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井。激光烧蚀系统可操作地在含氧的环境下在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井，使得像素矩阵的侧壁制成亲墨水性的。
在本发明的另一方面，提供一种形成像素矩阵的方法，其包括通过在衬底上以矩阵图案沉积多个珠状像素矩阵材料而印刷像素矩阵，激光烧蚀每一个珠状像素矩阵材料的一部分，以形成垂直侧壁面。
在本发明的另一方面，提供一种形成像素矩阵的方法，其包括用像素矩阵材料涂覆衬底，用疏墨水性材料涂覆像素矩阵材料，在像素矩阵材料和疏墨水性材料中形成像素井。
从下面详细的描述、权利要求和附图中，本发明的其它特征和方面将变得明显。


图1是在衬底上具有各种程度的可湿性的液滴描述；图2是具有沉积在像素矩阵材料的顶面上的墨水的像素井的封闭剖视图的描述图3和图4A至图4C是根据本发明实施例的像素井的封闭剖视图描述；图5A和图5B分别是根据本发明的示例性方法的第一步骤处理的衬底的俯视图和剖视侧视图示意描述；图6A和6B分别是根据本发明的示例性方法的第二步骤处理的衬底的俯视图和剖视侧视图示意描述；图7A和图7B分别是根据本发明的示例性方法的第三步骤处理的衬底的俯视图和剖视侧视图示意描述；图8是描述根据本发明的一些实施例的示例性方法的流程图；图9和图10是根据本发明图案化工具的两个示例性实施例的示意剖视图。
具体实施例方式
本发明提供允许在衬底上形成像素矩阵的系统、方法和设备，其中像素矩阵材料(例如，黑矩阵材料)的顶面是疏墨水性的，而像素矩阵材料的侧壁面是亲墨水性的。这种新型结构导致改进的用于平板显示器(例如，LCD，OLED等)的彩色滤光片，这是因为不注意地沉积在疏墨水性的像素矩阵材料顶面上的任何墨水将趋于流到像素井中，而在像素井中的墨水不会趋于从亲墨水性的像素井侧壁面形成液珠，在全部用疏墨水性材料制造的像素矩阵的情况下也是这样的。新型结构通过在固体的顶部形成疏墨水性涂层、在衬底上形成像素矩阵材料的亲墨水性层而实现。激光烧蚀系统用在含氧环境中以直接对在像素矩阵材料的涂覆的固体层外的像素矩阵进行图案化。在含氧环境中的激光烧蚀导致在已形成的像素井侧壁上的像素矩阵材料被烧焦，这使侧壁更具亲墨水性，而矩阵的顶面由于疏墨水性涂层仍保持疏墨水性。
与液体接触的材料可以具有相吸或排斥该液体的特性。材料的组分、其相应的表面化学性和液体的化学性决定与液体的相互作用。该现象被称为亲水性(例如，对于液体墨水的亲墨水性)和疏水性(例如，对于液体墨水的疏墨水性)。
亲水性还被称为亲合性，是显示对液体的亲合力的材料特性。亲合性的字面意思是“喜欢液体的”，这样的材料易于吸收液体。表面化学性允许这些材料被润湿后在其表面上形成液体膜或涂层。亲水性材料还拥有较高的表面张力值，并且具有与液体形成化合键的能力。
疏水性还称为“憎水性”，具有这种特性的材料与亲水性材料相比，具有与液体的互相作用相反的响应。疏水性材料(“恐液体材料”)具有较小的吸收液体趋势或没有吸收液体的趋势，并且液体趋于在其表面形成液珠(例如，形成离散的小液滴)。疏水性材料具有低的表面张力值，并且在其表面化学性中缺少用于形成与液体的化合键的活性基团。
可湿性是指材料的表面性能特性。能够利用材料的表面张力值确定材料被特定液体的可湿性。通过测量固体表面和该表面上的小液滴之间的接触角θ，能够计算固体材料的表面张力。
表面张力是指一种由于当两个不同的材料(例如，固体表面上的小液滴)互相接触形成界面或边界时发生的分子力的不平衡而引起的力。该力是由于所有的材料为了响应于在其接触点处发生的分子力的不平衡而降低其表面面积的趋势。这种力的结果将针对不同系统的液体和固体而变化，这规定可湿性和液滴和表面之间的接触角。
参照图1，描述可湿性100的连续性。对于在固体表面B上给定的小液滴A，接触角θ是在固体B的表面和从与固体B的接触点与小液滴A的半径相切的切线之间形成的角度的量度。接触角θ是关于由杨氏方程式(Young’s equation)计算的表面张力，通过该张力，能够计算特定的液体-固体互相作用的行为。零度的接触角θ102导致变湿了，而零度和九十度之间的角度θ104导致液滴的延展(由于分子吸引)。九十度的接触角θ106可以导致稳定的状态，其中表面张力使液体的延展停止。大于九十度的角度θ108表示液体趋于从固体表面形成液珠或收缩。
平板显示器制造可以使用包括在玻璃(或其它材料)衬底上印刷的不同色彩墨水的彩色滤光片。墨水可以使用适于精确喷墨和/或其它适合材料的喷墨打印机沉积到由矩阵限定的特定像素井中。在沉积墨水之前，可以使用光刻、印刷或其它任何适合处理，在衬底上形成像素井矩阵。由于衬底和/或用于形成矩阵的材料的亲墨水性/疏墨水性的变化，沉积到像素井中的墨滴的剖面填充外形(例如，分布)对于形成彩色滤光片不是可选的。在一些情况下，墨水在像素井中不均匀的分布会导致彩色滤光片中的缺陷。例如，如果墨水“出现水珠”，则就不可以完全填充像素井。本发明人已经注意到矩阵的亲墨水性/疏墨水性在制造中变化很大。因而为了试图调整表面张力，即使是可行的，通过化学变化的墨水的填充外形也不会符合要求。
参照图2，本发明人已经进一步注意到通常用来形成像素矩阵204(例如，黑矩阵)的材料202的顶部(例如，(在彩色滤光片印刷过程中)水平)表面200可以是足够地亲墨水性，使得如果墨水206落在像素矩阵204上，并且不合乎需要地保持在顶面200上，则要落在像素井204内的墨水206趋于使顶面200变湿。进一步地，如在图2中的像素井204的剖视图示出，由于墨水206仍然保持在亲墨水性像素矩阵材料202的顶部200上，墨水206在衬底208上的像素井204的外形会不希望地凹入。在一些实施例中，不同于图2，已填充墨水的像素井的顶面是扁平的，并且与像素矩阵壁的顶面平齐是必要的。
如在图3中示出，弥补这个问题的一个方法是在墨水206沉积在像素井204内之前，对像素矩阵材料202的所有表面(包括顶面200和侧面300)进行处理或涂覆，以使表面具有疏墨水性。该想法是，通过涂有涂层302，像素矩阵材料202可以制成对在顶面上延展的墨水206具有更大的阻力。在像素矩阵204已经被图案化之后，并且如所指出在井被填充墨水206之前，完成处理或涂覆302。尽管这样的处理或涂覆302可以使顶面200更不易于水延展，但像素井204的侧壁300会变成过于疏墨水，并且由于如在图3中所示墨水从疏墨水性像素井壁204中拉走，沉积在井204中的墨水206的外形会凸起到不需要的程度。
参考图4A至图4C，本发明提供允许形成像素矩阵204的系统、方法和设备，其中，像素矩阵材料202的顶面200是疏墨水性，而像素矩阵材料202的侧壁面300是亲墨水的性。当像素矩阵材料202的顶面200是疏墨水性而侧壁300是亲墨水性时，如果如在图4A中所示分配墨水206的正确量，则墨水206将填充像素矩阵204到理想的水平。如果所分配的墨水206的量略多于理想的量，则疏墨水性顶部200和亲墨水性侧壁300还将可以(在给定的条件下)针对墨水206表面能够提供最理想的形状(例如，从侧壁的顶部凸向侧壁)，如在图4B中所描述。如果所分配的墨水206的量略少于理想的量，则疏墨水性的顶部200和亲墨水侧壁300仍将能够(在给定的条件下)针对墨水206的表面提供最理想的形状(例如，从侧壁的顶部凹向侧壁)如在图4C中所描述。
现在参照图5至图8描述根据本发明的一些实施例制造像素矩阵的方法。方法800在图8中作为流程图描述。
在步骤804中，衬底208首先涂覆有像素矩阵材料202(例如，聚合体)层，如分别在图5A和图5B中衬底的俯视图和侧视图所示。像素矩阵材料层202的厚度可以在约1微米和2.5微米之间。其它的厚度范围也是可行的。将像素矩阵材料层202选定为对墨水较亲墨水性，该墨水将在后续用于填充像素井。
接着在步骤806中，如在图6A和6B中的衬底208的俯视图和侧视图中示出，像素矩阵材料层202的表面被处理或涂覆有由约10和1000厚度之间的很高疏墨水性材料302组成的很薄的层。其它厚度范围也是可行的。
在随后的步骤808中，如在图7A和图7B中所描述，诸如激光烧蚀系统的直接图案化工具700用来有选择地去除所处理的或涂覆的像素矩阵材料层202的部分，向下完全去除到衬底208，以形成像素“墨水井”或“井”。激烧蚀系统将在下面参照图9和图10更详细地描述。图案化的衬底208接着准备用于墨水填充。井的侧壁因而与用来形成像素矩阵材料202的基体材料一样是亲墨水性的，并且顶部由于处理或涂覆302而仍是疏墨水性的。注意，附图不是按比例绘制的。
在本发明的一些实施例中，可以选择对在后面用来填充像素的墨水是比较疏墨水性的像素矩阵材料。接着可以在含氧的环境中执行激光烧蚀(图案化)步骤808。氧的效果将使像素井的侧壁“燃烧”或“烧焦”，这使的侧壁变成较亲墨水性，而像素矩阵的顶面保持疏墨水性。在这样的可选方法中，可以省略用疏墨水性材料涂覆像素矩阵材料的步骤804。
以上方法使用激光烧蚀系统以产生本发明的新型像素矩阵结构。然而，在其它实施例中，可以利用不使用激光烧蚀的方法来形成本发明的新型结构。例如，可以在衬底形成一层光阻像素矩阵聚合体材料，接着用疏墨水性材料处理，然后使用光刻进行图案化。
一旦在衬底上已经形成上述新型结构，如例如在之前所包含的美国专利申请案美国临时专利申请案序号No.60/625,550所描述的喷墨印刷系统可以用来用彩色墨水填充像素矩阵，以形成适合用于平板显示器的彩色滤光片。在一些实施例中，即使层在填充有墨水的像素矩阵上，在填充墨水之后，可能需要在水平面上涂覆透明涂层(例如，透明电极、铟-锡氧化物(ITO))。然而，如果像素矩阵的顶面保持疏墨水性，则会难于均匀地分布透明涂层。在这样的实施例中，可以首先使碳氢化合物、氟化的碳氢化合物和/或氟化硅油流过填充墨水的像素矩阵，以使顶面与墨水或其它液体的亲水性一致。
在本发明的另一个实施例中，像素矩阵可以使用凝固成为疏墨水性的材料印刷在衬底上。可以执行喷墨像素矩阵材料，使得该材料沉积成半月形液滴状。在一些实施例中，半月形液滴状的印刷像素矩阵材料的两侧可以在含氧的环境中使用激光烧蚀进行修整，形成垂直侧壁。侧壁因而将燃烧，使得侧壁由于激光烧蚀的结果而变成亲墨水性的。
本发明进一步包括如分别在图9和图10的示例性实施例中示出的图案化工具900、1000。参照图9，描述图案化工具900的剖面示意表示。图案化工具900包括激光烧蚀系统902，激光烧蚀系统902包括设置在外壳906内的一个或多个激光源904。激光源904可以包括或耦合到一个或多个光学头908。激光源904和/或光学头908可以由激光桥910支撑。尽管没有示出，激光桥910还可以包括电动机、致动器、驱动器、齿轮、链条和适于影响如以下所述的激光桥910工作的部件。激光桥910可以由工具基体912支撑。工具基体912可以由例如大的花岗岩体制成，并且包括振动隔离特征。
图案化工具900还可以包括活动平台914(例如，X-Y工作台)，活动平台914可以包括或支撑光学掩膜916。平台914可以由工具基体912上的导轨系统918支撑。平台914适用于支撑涂覆有像素矩阵材料922的衬底920。平台914适用于支撑衬底920，使得平台914保持扁平，并且靠近设置在衬底920下面的光学头908。平台914还可以包括用于将衬底920支撑就位于平台914上的卡盘系统924。尽管没有示出，但平台914可以包括电动机、致动器、驱动器、齿轮、链条和其它适于影响如下所述的平台914工作的其它部件的系统。
图案化工具900还可以包括废物去除系统926，废物去除系统926可以包括耦合到一个或多个提取头930的真空源928。真空源928和/或提取头930可以由门架932支撑，门架932可以由垂直构件(未示出)悬挂，垂直构件由工具基体912支撑。尽管未示出，门架932还可以包括电动机、致动器、驱动器、齿轮、链条和其它适于影响如下所述的门架932工作的部件的系统。工具900还可以包含或耦合到适于向外壳供应氧气或其它气体或使氧气直接流到正烧蚀的区域(例如，经由一个或多个未示出的导管)的气体供应单元934。工具900可以在系统控制器936的引导下工作，控制器936可以包括用户界面(未示出)和/或制造执行系统界面(未示出)。
参考图10，描述另一个图案化工具1000示例性实施例，除了多提取头930以外，类似于上述工具900，另一个图案化工具1000包括跨越正被烧蚀的衬底920的所有区域的吸风器931。
参照图9和图10，在工作中，图案化工具900、1000在衬底920上的像素矩阵材料922中形成像素井。激光源904(例如，二极管泵浦固体(DPSS)激光器)可操作地执行对像素矩阵材料922(例如，黑矩阵树脂)进行精确烧蚀图案化。例如，多高功率CW Q切换的DPSS激光器(例如，在1.06μm波长、10kHz的350W功率、30kHz Max rep速率，10kHz下约80ns脉冲长度下工作)可以用来经由光纤向光学头908输送能量。
在衬底920被卡盘系统924固定的情况下，任何尺寸的衬底920可以手工或机器加载到的平台914上。平台914可操作地在激光桥910上方的一个轴线上移动，激光桥910适于沿第二、正交轴线移动光学头908和/或激光源904。在一些实施例中，可以提供成像系统(例如，CCD相机)(未示出)以检测衬底920和/或辅助通过使用衬底920上的基准标记的衬底920的对准。
一旦衬底920加载到平台914上，光学读取头908可以引导激光能量通过掩膜916上的孔径(如果使用)，向上通过衬底920(没有吸收很多激光能量)到像素矩阵材料922的层中。经由气体供应单元934，同时流到工具900、1000的氧气，结合激光能量使通过掩膜916曝光于激光能量的像素矩阵材料922挥发。残余物材料被提取头930或吸风器931去除。
平台914可操作地沿±Y方向(例如，进出附图绘制的页面并且由指向外的箭头“⊙”标记的Y方向)。光学头908和/或激光源904适于以±X方向移动(如箭头标记X表示)沿激光器桥910移动。同样，真空源928和/或提取头930适于以±X方向沿门架932移动到对应于光学头908和/或激光源904的位置的位置。注意，吸风器931根本不需要移动，这是因为吸风器931跨越衬底922。
平台914、气体供应单元934、光学头908、激光源904、真空源928和/或提取头930的移动和操作可以在系统控制器936的控制下。系统控制器936可以引导工具900、1000的部件沿所需的图案移动，而从衬底920烧蚀所选定的像素矩阵材料922的部分，以形成像素矩阵。在一些实施例中，不使用掩膜916，相反，系统控制器936可以分别引导光学头908和/或激光源904何时启动和引导激光桥910和平台914，何时和何处移动光学头908(和/或激光源904)和衬底920。
前述描述仅仅公开了本发明特定的实施例；以上公开的方法和设备的落入本发明范围内的修改对于本技术领域的一般技术人员是明显的。进一步地，本发明还可以应用到间隔层形成、偏光器涂层和纳米微粒电路形成。
因而，尽管已经结合具体的实施例公开了本发明，但应该了解到其它实施例会落在本发明的精神和范围内，本发明的范围由权利要求限定。
本发明主张于2005年9月19日提交的名称为“METHOD ANDAPPARATUS FOR MANUFACTURING A PIXEL MATRIX OF A COLORFILTER FOR A FLAT PANEL DISPLAY”(代理案件号No.10502/L)的美国临时专利申请案序号No.60/718,565D的优先权，该专利在此处通过引用的方式全部包含于此，以用于所有目的。
本发明主张于2006年7月28日提交的名称为“METHOD ANDAPPARATUS FOR MANUFACTURING A PIXEL MATRIX OF A COLORFILTER FOR A FLAT PANEL DISPLAY”(代理案件号No.10502/L2)的美国临时专利申请案序号No.60/834,076的优先权，该专利在此处通过引用的方式全部包含于此，以用于所有目的。
本发明涉及下面共同转让、申请待决的美国专利申请案，其中的每一个在此处通过引用的方式全部包含于此以用于所有目的。
于2004年11月4日提交的名称为“APPARATUS AND METHODSFOR FORMING COLOR FILTERS IN A FLAT PANEL DISPLAY BYUSING INKJETTING”的美国临时专利申请案序号No.60/625,550。
于2004年11月22日提交的名称为“APPARATUS AND METHODSOF AN INJET HEAD SUPPORT HAVING AN INKJET HEAD CAPABLEOF INDEPENDENT LATERAL MOVEMENT”(代理案件号No.9521-1)的美国专利申请案序号No.11/019,967。
于2004年11月22日提交的名称为“METHODS AND APPARATUSFOR INKJET PRINTING”(代理案件号No.9521-2)的美国专利申请案序号No.11/019,929。
于2004年11月22日提交的名称为“METHODS AND APPARATUSFOR ALIGNING PRINT HEADS”(代理案件号No.9521-3)的美国专利申请案序号No.11/019,930。
于2005年7月28日提交的名称为“METHODS AND APPARATUSFOR SIMULTANEOUS INKJET PRINTING AND DEFECT INSPECTIOIN”(代理案件号No.9521-L02(以前9521-7/L))美国临时专利申请案序号No.60/703,146。
于2005年7月25日提交的名称为“METHODS AND APPARATUSFOR CONCURRENT INKJET PRINTING AND DEFECT INSPECTIOIN”(代理案件号No.9521-10)美国专利申请案序号No.11/493,861。
权利要求
1.一种形成像素矩阵的方法，包括用像素矩阵材料涂覆衬底；用疏墨水性材料涂覆所述像素矩阵材料；在所述像素矩阵材料和所述疏墨水性材料中形成像素井。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述衬底是适合用于制造用于平板显示器的彩色滤光片的玻璃。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述衬底涂覆有亲墨水性的像素矩阵材料。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述衬底涂覆有具有适合于形成像素井的厚度的像素矩阵材料。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述像素矩阵材料涂覆有疏墨水性材料层，所述疏墨水性材料层相对于所述像素矩阵材料的厚度较薄。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，形成像素井包括形成所述像素井使得所述像素井的顶面是疏墨水性的而所述像素井的侧面是亲墨水性的。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，形成像素井包括使用激光烧蚀对像素矩阵进行图案化。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，使用激光烧蚀对像素矩阵进行图案化包括在含氧的环境中使用激光烧蚀。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，在含氧环境中的激光烧蚀步骤使得形成亲墨水性的像素井侧壁。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述像素井的顶面由于所述疏墨水性的涂层而是疏墨水性的。
11.根据权利要求1所述的方法，其中，形成像素井包括使用光刻对像素矩阵进行图案化。
12.一种形成像素矩阵的方法，包括用疏墨水性的像素矩阵材料涂覆衬底；在含氧环境中使用激光烧蚀在所述像素矩阵材料中形成像素井，以直接对所述像素井进行图案化，其中，所述像素井形成为使得所述像素井的顶面是疏墨水性的而所述像素井的侧壁面是亲墨水性的。
13.一种用于形成像素矩阵的系统，包括具有激光烧蚀系统的图案化工具，可操作地在衬底上的像素矩阵材料中形成像素井，其中，所述激光烧蚀系统可操作以形成具有疏墨水性的顶面和亲墨水性的侧壁面的所述像素井。
14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述激光烧蚀系统可操作以在涂覆有疏墨水性的材料的像素矩阵材料中形成像素井。
15.根据权利要求13所述的系统，其中，所述激光烧蚀系统可操作以在含氧环境下在像素矩阵材料中形成像素井。
16.根据权利要求13所述的系统，其中，所述图案化工具包括适于去除被所述激光烧蚀系统挥发的材料的真空系统。
17.根据权利要求13所述的系统，其中，所述图案化工具包括掩膜，通过所述掩膜，所述激光烧蚀系统使所述像素矩阵材料挥发，以形成像素井矩阵。
18.根据权利要求13所述的系统，其中，所述激光烧蚀系统可操作以利用设置在所述衬底下的至少一个激光器在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井，其中，所述激光烧蚀系统包括外壳和氧气供应单元，并且可操作以在含氧环境下在像素矩阵材料中形成像素井，所述图案化工具包括抽真空系统，该系统设置在所述衬底上方，并且适于去除如被被所述激光烧蚀系统挥发的材料的材料，所述图案化工具包括掩膜，该掩膜设置在所述激光器和所述衬底之间的，通过所述掩膜，所述激光烧蚀系统使所述像素矩阵材料挥发，以形成像素井矩阵。
19.一种形成像素矩阵的方法，包括通过在衬底上以矩阵图案沉积多个珠状像素矩阵材料而印刷像素矩阵；并激光烧蚀每一个珠状像素矩阵材料的一部分，以形成垂直侧壁面。
20.根据权利要求19所述的方法，其中，所述衬底是适合用于制造用于平板显示器的彩色滤光片的玻璃。
21.根据权利要求19所述的方法，其中，所述像素矩阵材料是疏墨水性的。
22.根据权利要求19所述的方法，其中，所述沉积的珠状像素矩阵材料具有适合于形成像素井的高度。
23.根据权利要求19所述的方法，其中，激光烧蚀每一个珠状像素矩阵材料的一部分包括在含氧的环境中激光烧蚀每一个珠状像素矩阵材料的一部分以形成亲墨水侧壁面。
24.一种像素矩阵，包括多个像素井，所述每一个像素井都包括顶面或侧壁面，其中，所述顶面是疏墨水性的，而所述侧壁面是亲墨水性的。
25.根据权利要求24所述的像素矩阵，其中，所述像素井在衬底上形成，所述像素矩阵适于容纳墨水以形成彩色滤光片。
全文摘要
本发明提供了一种形成像素矩阵的方法和设备。该方法包括用像素矩阵材料涂覆衬底，用疏墨水性材料涂覆像素矩阵材料，在像素矩阵材料和疏墨水性材料中形成像素井。提供一种用于形成像素矩阵的系统，其包括包含激光烧蚀系统的图案化工具，该工具可操作地在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井。激光烧蚀系统可操作在含氧环境下在涂覆有疏墨水性材料的像素矩阵材料中形成像素井，使得像素矩阵的侧壁制成亲墨水性的。本发明还包括像素井结构，其中，像素井的顶面是疏墨水性的，侧壁面是亲墨水性的。还提供了许多其它方面。
文档编号H01L21/00GK1959449SQ20061012759
公开日2007年5月9日 申请日期2006年9月19日 优先权日2005年9月19日
发明者约翰·M·怀特, 上泉元, 叶雁, 周里归 申请人:应用材料公司