专利名称：一种新型结构的真空灭弧室的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种灭弧室，特别是一种新型结构的真空灭弧室。
背景技术：
现有的真空灭弧室，其结构主要由动组件、静组件、绝缘外壳、封接环、屏蔽筒、端罩 组成，其屏蔽筒固定在绝缘外壳中部，两端靠封接环密封，屏蔽筒固定在外壳中部，外壳中 部必须设计一个台阶固定和支撑屏蔽筒，要求瓷壳比较长，并且体积较大，屏蔽筒不好固定 ，结构较复杂。因此在屏蔽筒固定结构设计时，固定屏蔽筒的外附件以及外壳中部的台阶等 必然要占据较大的空间，但内部零件之间的距离必须要满足绝缘要求，加上绝缘外壳和封接 环的材料成本较高，因此不利于真空灭弧室的小型化设计和降低产品的成本。由于市场环境 和用户的要求，真空灭弧室的小型化和低成本是势在必行。
实用新型内容
本实用新型的目的在于，提供一种新结构真空灭弧室。本实用新型在保证真空灭弧室性 能不变的前提下，可以简化结构，减小体积，降低成本。从而达到真空灭弧室小型化和节约 成本的目的。
本实用新型的技术方案 一种新型结构的真空灭弧室，它包括绝缘外壳l，绝缘外壳l内 设有动组件2，动组件2—端设有动触头3，动组件1中部依次套有波纹管屏蔽罩4、波纹管5和 导向套6，导向套6与动端封接环7连接，动端封接环7的另一端与绝缘外壳1的一端焊接在一 起；其特征在于绝缘外壳1的另一端经端罩8与静端封接环9焊接在一起，静端封接环9中设 有静组件IO，静组件10的一端设有静触头11，静组件10的另一端从静端封接环9穿出，静组 件IO的中部与静端封接环9连接。
上述的新型结构的真空灭弧室中，绝缘外壳1的端面直接与静端封接环9焊接在一起，在 静端封接环9内设有屏蔽筒12 。
前述的新型结构的真空灭弧室中，当动触头3与静触头11处于分开状态时，动触头3与静 触头l l之间的间距B大于动触头3与静端封接环9之间的间距A。
前述的新型结构的真空灭弧室中，绝缘外壳l用陶瓷或玻璃材料制成，绝缘外壳l的外表 面为波纹面或光面。
前述的新型结构的真空灭弧室中，动触头3和静触头11可根据不同的使用场合，选用不 同的触头形状，动触头3和静触头ll使用CuCr、 AgWC 、 CuW(WC)、 CuW制作。
前述的新型结构的真空灭弧室中，动端封接环7、端罩8和静端封接环9使用不锈钢、无 氧铜、电工纯铁制作。
与现有技术相比，本实用新型将屏蔽筒和静端端罩合二为一，设计成一个较长的静端封 接环，既起到了端罩的作用，也代替了现有技术中的屏蔽筒，直接与绝缘外壳端面焊接，减 少一个零件，由于静端封接环直接焊接在绝缘外壳上或经端罩8焊接在绝缘外壳上，可获得 可靠的支撑，取消了现有技术中绝缘外壳中间的固定台阶；结构简单，加工方便；因为用静 端封接环替代了现有技术中的屏蔽筒，可以保证在静端封接环与动触头或静触头之间的距离 不变的情况下，减小绝缘外壳的直径；本实用新型采用容易变形的材料做静端封接环，利用 端罩的边缘作为绝缘外壳与金属制作的静端封接环的过渡材料，使动端封接环7、端罩8和静 端封接环9在材料选择时可以不用价格昂贵的4J33材料，而选用价格便宜的不锈钢、无氧铜 、电工纯铁等材料替代。该实用新型在保证真空灭弧室性能不变的条件下，可以减小体积， 简化结构，降低成本。从而达到真空灭弧室小型化和节约成本的目的。该结构的真空灭弧室 可用在真空断路器、真空负荷开关、真空接触器、固封开关等真空开关中。
附图l是本实用新型的结构示意附图2是静端封接环直接与绝缘外壳焊接的结构示意图； 附图3是动触头与静触头分开时的示意图 附图4是用于接触器和负荷开关时，触头的形状示意附图5是现有技术的结构示意附图中的符号标记为l-绝缘外壳，2-动组件，3-动触头，4-波纹管屏蔽罩，5-波纹管 ，6-导向套，7-动端封接环，8-端罩，9-静端封接环，10-静组件，11-静触头，12-屏蔽筒
具体实施方式
实施例。 一种新型结构的真空灭弧室，如图1所示，它包括绝缘外壳l，绝缘外壳l内设 有动组件2，动组件2—端设有动触头3，动组件1中部依次套有波纹管屏蔽罩4、波纹管5和导 向套6，导向套6与动端封接环7连接，动端封接环7的另一端与绝缘外壳1的一端焊接在一起 ;其特征在于绝缘外壳1的另一端经端罩8与静端封接环9焊接在一起，静端封接环9中设有 静组件IO，静组件10的一端设有静触头11，静组件10的另一端从静端封接环9穿出，静组件 10的中部与静端封接环9连接。本实用新型也可以如图2所示，绝缘外壳l的端面直接与静端
封接环9焊接在一起，在静端封接环9内设有屏蔽筒12。当动触头3与静触头11处于分开状态 时，动触头3与静触头11之间的间距B大于动触头3与静端封接环9之间的间距A。绝缘外壳l可 用陶瓷或玻璃材料制成，绝缘外壳l的外表面为波纹面或光面，图l所示为波纹面的绝缘外壳 1，图2、图3、图4所示为光面的绝缘外壳1。动触头3和静触头11可根据不同的使用场合，选 用不同的触头形状，图2、图4所示的触头是用在接触器和负荷开关真空灭弧室中的触头形状 ，图l、图3所示的触头是用在断路器真空灭弧室中的触头形状，动触头3和静触头11使用 CuCr、 AgWC 、 CuW(WC)、 CuW制作。动端封接环7、端罩8和静端封接环9使用不锈钢、无氧铜 、电工纯铁、4J33、 4J29制作。
权利要求1.一种新型结构的真空灭弧室，它包括绝缘外壳(1)，绝缘外壳(1)内设有动组件(2)，动组件(2)一端设有动触头(3)，动组件(1)中部依次套有波纹管屏蔽罩(4)、波纹管(5)和导向套(6)，导向套(6)与动端封接环(7)连接，动端封接环(7)的另一端与绝缘外壳(1)的一端焊接在一起；其特征在于绝缘外壳(1)的另一端经端罩(8)与静端封接环(9)焊接在一起，静端封接环(9)中设有静组件(10)，静组件(10)的一端设有静触头(11)，静组件(10)的另一端从静端封接环(9)穿出，静组件(10)的中部与静端封接环(9)连接。
2.根据权利要求l所述的新型结构的真空灭弧室，其特征在于绝缘 外壳(1)的端面直接与静端封接环(9)焊接在一起，在静端封接环(9)内设有屏蔽筒( 12)。
3.根据权利要求2所述的新型结构的真空灭弧室，其特征在于当动 触头(3)与静触头(11)处于分开状态时，动触头(3)与静触头(11)之间的间距(B) 大于动触头(3)与静端封接环(9)之间的间距(A)。
4.根据权利要求3所述的新型结构的真空灭弧室，其特征在于动端 封接环(7)、端罩(8)和静端封接环(9)使用不锈钢、无氧铜或电工纯铁制作。
5.根据权利要求l所述的新型结构的真空灭弧室，其特征在于绝缘 外壳(1)用陶瓷或玻璃材料制成，绝缘外壳(1)的外表面为波纹面或光面。
专利摘要本实用新型公开了一种新型结构的真空灭弧室，它包括绝缘外壳(1)，绝缘外壳(1)内设有动组件(2)，动组件(2)一端设有动触头(3)，动组件(1)中部依次套有波纹管屏蔽罩(4)、波纹管(5)和导向套(6)，导向套(6)与动端封接环(7)连接，动端封接环(7)的另一端与绝缘外壳(1)的一端焊接在一起；绝缘外壳(1)的另一端经端罩(8)与静端封接环(9)焊接在一起，静端封接环(9)中设有静组件(10)，静组件(10)的一端设有静触头(11)，静组件(10)的另一端从静端封接环(9)穿出，静组件(10)的中部与静端封接环(9)连接。本实用新型在保证真空灭弧室性能不变的前提下，可以简化结构，减小体积，降低成本。从而达到真空灭弧室小型化和节约成本的目的。
文档编号H01H33/664GK201066650SQ20062020093
公开日2008年5月28日 申请日期2006年11月16日 优先权日2006年11月16日
发明者跃 何 申请人:中国振华(集团)科技股份有限公司宇光分公司