专利名称：高输出红色半导体激光器的制作方法
技术领域：
本发明涉及在DVD等应用的高输出红色半导体激光器。
技术背景随着记录型DVD市场的成熟，由于DVD以高倍速度写入，因此波长 650nm频带的AlGalnP类红色半导体激光器就需要超过250mW的高输出。该红色半导体激光器的一般结构示于图4,具有n-GaAs衬底32和在其 上成长的半导体层叠结构。该半导体层叠结构从衬底侧开始依次由 n-AlGalnP包层33、 MQW有源层34、 p-AlGalnP第1包层35、 p-GalnP蚀 刻停止层36、 n-GaAs阻挡层(7、、口 、乂夕層)37、 p-AlGalnP第2包层38、 p-GaInP緩沖层39、 p-GaAs盖层40构成。另外，在n-GaAs衬底32的下面 形成有n电极31,在p-GaAs盖层40的上面形成有p电极41。图4的红色半导体激光器具有脊部埋入结构，其由第2包层38和缓冲 层39形成带状的脊部A,在该脊部A的两侧配置n-GaAs阻挡层37，用p-GaAs 盖层40覆盖p-GalnP緩沖层39和n-GaAs阻挡层37。根据脊部A的折射率和在脊侧面配置的n-GaAs阻挡层37的折射率之 差，在水平方向封入光。电流不在成为反偏置的n-GaAs阻挡层37及其下部 流通，而在带状的脊部A流通。另外，如果直接接合p-GaAs盖层40和p-AlGalnP第2包层38,由于带 隙差大，对作为p侧区域的载流子的空穴，在接合界面旁边形成大的壁垒， 阻止空穴的使之不流通，使电流难以流通。为了防止这种现象，在p-GaAs 盖层40和p-AlGalnP第2包层38之间，夹着带隙成为两者中间的p-GalnP 緩沖层39,降低在接合界面形成的壁垒，使空穴易于流通。如果在p电极41和n电极31之间通电，电流则因作为电流阻挡层的 n-GaAs阻挡层变狭窄，可以从相当于脊部A的下部位置的MQW有源层34 的中央部得到发光。然而，如果想要得到超过250mW的高输出，就需要增 大动作电流，随之，由各层的电阻产生的焦耳热也增加，从激光器元件内部产生的热量增多。为了防止因从激光器元件内部产生的热量导致温度上升，在对半导体激光器元件进行模块化时，如图5所示，在由光学玻璃窗52、引线管脚51等 构成的封装上安装散热片54，在该散热片54上安装激光器元件53,从而冷 却激光器元件53。专利文献1:日本特开平9-205249号公报在上述现有的红色半导体激光器中，因焦耳热增加，从激光器元件内部 产生的热量增多时，由于作为基体材料的AlGalnP的热传导率不良，特别是 热量容易蓄留在元件内部，导致激光器元件的温度过度地上升，因此发光效 率下降，或者导致最大输出的下降。另外，如图5所示，即使通过散热片冷 却激光器元件，如果激光器元件的散热特性不良，由于冷却有限，因此存在 不能充分冷却的问题。于是，作为促进激光器元件散热的方法，提出了增大激光器元件的表面 面积而增加散热量的方案。 一般地，为了改善激光器元件的温度特性，有必 要减小激光器元件内部的电流密度，而且增加谐振器长度，因此要增大激光 器元件的散热面积，需要进一步增加激光器元件的谐振器方向(轴向)的长 度。但是，如果采用如上所述方案，激光器元件就变得相当大，其价格也变 得非常昂贵。另外，如图5所示，安装激光器元件的封装大小，通常按照一 定的大小生产，如果制作比该封装大小长且大的激光器元件，就存在不能安 装的问题。发明内容本发明是为解决上述的课题而创造的方案，其所要解决的技术问题是， 提供一种通过改善散热特性抑制温度上升，无需增大元件的散热面积的高输 出红色半导体激光器。为了达到上述目的，方面1所述的发明是一种AlGalnP类的高输出红色 半导体激光器，其在n型半导体衬底上，至少依次具有n型包层、有源层及 p型包层，在有源层的上部具有含有所述p型包层的带状的脊部，其特征在 于，用含有AlGaAs的半导体形成构成所述脊部的半导体层的一部分。另外，方面2所述的发明是如方面1所述的、特征为用含有AlGaAs的半导体形成所述p型包层的高输出红色半导体激光器。另外，方面3所述的发明是如方面l所述的、特征为所述p型包层通过在中间形成的蚀刻停止层分成有脊部的第2p型包层和不含有脊部的第lp型包层的高输出红色半导体激光器。另外，方面4所述的发明是如方面3所述的、特征为用含有AlGaAs 的半导体形成所述第2p型包层的高输出红色半导体激光器。另外，方面5所述的发明是如方面4所述的、特征为用含有AlGaAs 的半导体形成所述第lp型包层的高输出红色半导体激光器。另外，方面6所述的发明是如方面1至5中任一项所述的、特征为用 含有AlGaAs的半导体形成所述n型包层的高输出红色半导体激光器。根据本发明，由于可以通过含有良好热传导率的AlGaAs的半导体，形 成构成脊部的半导体层的一部分例如p型包层，因此在激光器元件内部产生 的热容易传导至p电极侧，并且来自p电极的热的辐射容易进行，所以可以 防止温度的过度上升。另外，由于通过用含有热传导率良好的AlGaAs的半导体构成包层，可 以改善散热特性，因此无需增大激光器元件的散热面积。
图1是表示本发明的高输出红色半导体激光器的剖面结构的图； 图2是表示本发明的高输出红色半导体激光器的其他剖面结构的图; 图3是表示本发明的高输出红色半导体激光器的其他剖面结构的图; 图4是表示以往的红色半导体激光器的剖面结构的图； 图5是安装半导体激光器元件的封装结构的图。 附图标记i兑明1 n电极2 n-GaAs ^H"底3 n-AlGalnP包层4 AlGalnP光导层5 MQW有源层6 AlGalnP光导层7 p-AlGalnP第1包层58 AlGalnP蚀刻停止层9 p-AlGaAs第2包层10 p-GaAs接触层11 n-AlGalnP阻挡层12 p电极31 n-AlGaAs包层71 p-AlGaAs第1包层具体实施方式
下面，参照附图对本发明的一实施例进行说明。图l表示根据本发明的 高输出红色半导体激光器的剖面结构。在倾斜n-GaAs衬底2上层叠有n-AlGalnP包层3、 AlGalnP光导层4、 MQW有源层5、 AlGalnP光导层6、 p-AlGalnP第1包层7、 AlGalnP蚀刻停 止层8、 n-AlGalnP阻挡层11、 p-AlGaAs第2包层9、 p-GaAs接触层10和 p电极12,在n-GaAs衬底2的背面侧形成有n电极1。 n-GaAs衬底2采用 其晶体取向为从(001)倾斜10 15度的衬底。MQW有源层5由3层GalnP阱层和2层非掺杂的(Ala5Gao.5) o.5In05P 势垒层(^卩7層)形成。n-AlGalnP包层3由掺杂n型杂质Si的(Ala7Ga0.3) 05Ino.5P构成，AlGalnP光导层4和AlGalnP光导层6由非掺杂的(Ala5Ga05) 0.5In0.5P构成，p-AlGalnP第1包层7由掺杂p型杂质Zn的(Al0.7Ga0.3 )05In0.5P 构成，AlGalnP蚀刻停止层8是采用3层掺杂p型杂质Zn的无应变的 (Alo.,Ga。.9) 05In05P和2层掺杂p型杂质Zn的(Al0.4Ga0.6) 0.5In05P并交替 层叠的层，p-AlGaAs第2包层9由掺杂p型杂质Zn的Ala5GaAs构成，p-GaAs 接触层10由掺杂p型杂质Zn的GaAs构成，n-AlGalnP阻挡层11由掺杂n 型杂质Si的(Alo.8Ga().2) o.5Ino.5P构成。P电极12采用Ti和Au的多层金属 膜，n电极1则采用Au、 Ge、 Ni的合金层和Ti和Au的多层金属膜。MQW有源层5是从两侧用AlGalnP光导层4、 6夹着而构成的。这些 光导层是为了在垂直方向封入光而形成的层，可以根据光导层的组成、厚度 控制垂直扩展角度。如果减弱该垂直方向的光的封入，则发光点在垂直方向 扩大，射出光束的垂直扩展角度(FFP的层叠方向的大小)降低。如图1所示的高输出红色半导体激光器，具有用p-AlGaAs第2包层9和p-GaAs接触层10形成带状的脊部B、用n-AlGalnP阻挡层11覆盖该脊 部B的两侧的脊部埋入结构。电流不在成为反偏置的n-AlGalnP阻挡层11 及其下部流通，而在带状的脊部B流通。制造方法利用已知的MOCVD法或光刻技术等按照如下步骤进行。另 外，各层的合适的膜厚随着半导体材料的组成比例等而变化，但是在本实施 例中，各层的膜厚根据所述的各层的组成比例如下形成。在n-GaAs衬底2上，通过利用MOCVD法(有4几金属化学气相成长法) 的第1次结晶成长，依次形成2.5 nm厚的n-AIGalnP包层3、 5nm厚的 AlGalnP光导层4、 MQW有源层5、 10nm厚的AlGalnP光导层6、 0.24 n m 厚的p-AlGalnP第1包层7、 AlGalnP蚀刻停止层8、 1.25 jli m厚的p-AlGaAs 第2包层9、 0.2)am厚的p-GaAs接触层10,得到双异质结构的晶片。另夕卜， MQW有源层5是具有3层6nm厚的阱层、2层4nm厚的势垒层的多重量子 阱结构；蚀刻停止层8是具有3层2nm厚的无应变的(Alo」Ga。.9) o.5In05P、 2层5nm厚的(Al04Ga0.6) 0.5In0.5P的多层结构。其次，将带状的Si02作为掩模，通过干式蚀刻将p-GaAs接触层10和 p-AlGaAs第2包层9进行蚀刻形成脊部B。再其次，利用盐酸或稀硫酸和双 氧水进行湿式蚀刻，直至达到蚀刻停止层8进行蚀刻。通过蚀刻停止层8， 脊蚀刻自动停止，可以良好地控制形成脊。然后，将晶片回送到MOCVD装置内，通过第2次的结晶成长形成 n-AlGalnP阻挡层11。然后，通过HF处理去除SK)2掩模。最后，通过研磨、 抛光，使晶片薄化至100jum左右，并且通过真空蒸镀法形成n电极1和p 电极12。如果在p电极12和n电极1之间一通电，就发生振荡，激光继续产生， 但是，由于电阻等的关系，特别是在p侧的层或MQW有源层5产生大量的 焦耳热。产生的这些热量虽然在扩散，但是由于第2包层9将含有热传导率 良好的AlGaAs作为其成分，因此热量迅速向第2包层9传导、到达p-GaAs 接触层10。由于p-GaAs接触层10薄，因此热量立即扩散到p电极12，从 p电极12进行散热。因为AlGaAs的热传导率达AlGalnP热传导率的约2倍， 所以与如图4所示的红色半导体激光器比较，热可以迅速扩散。这样通过将 AlGaAs作为成分的半导体形成构成脊部B的半导体层的一部分，可以改善 散热特性，防止激光器元件的温度过度地上升。然而，AlGaAs混晶系列中，通过降低A1成分，可以更加提高热传导率 (低热阻化)，但是另一方面，由于包层的带隙能减少，不能阻挡少数载流 子的流出，因此如本实施例所述，包层在40%~70%,优选在50%~60%范 围构成Al0.5GaAs和Al组成。在本实施例中，Al成分为50%。图2表示在图1的结构中用p-AlGaAs第1包层71代替p-AlGalnP第1 包层7的结构。第1包层71与第2包层9同样，由掺杂p型杂质Zn的Alo.5GaAs 构成。如上所述，由于AlGaAs的热传导率高，因此在MQW有源层5或p 侧的层产生的焦耳热迅速向p-AlGaAs第1包层71传导，进而也在p-AlGaAs 第2包层9中迅速扩散传导到p电极侧12,所以散热特性得到改善。另外， 为了提高散热特性，优选降低脊部B的高度H，缩小热的扩散距离。优选降 低高度H,对于图1和图3的结构同样适用。图3表示在图2的结构中用n-AlGaAs包层31代替n-AlGalnP包层3的 结构。包层31由掺杂n型杂质Si的Alo.sGaAs构成。包层31通过由将热传 导率良好的AlGaAs作为成分的半导体构成，也可以使在n侧的层产生的焦 耳热有效地进行散热，且在n侧的层产生的热，迅速向n-AlGaAs包层31传 导，容易扩散至p电极12或n电极l侧，散热特性得到改善。另外，在实施例中所述的各层的膜厚并不限于此。例如，n型包层3、 31的膜厚约为1 ~ 3 u m, n侧光导层4的膜厚为5 ~ 30nm, MQW有源层5 的阱层的膜厚约为3-9nm, MQW有源层5的势垒层的膜厚约为3~9nm， p侧光导层6的膜厚为5-30nm, p型第1包层7、 71的膜厚为0.2~0.4|um， 蚀刻停止层8的无应变的(AIo」Ga。.9) Q.5In。.5P层的膜厚约为1 ~5nm,蚀刻 停止层8的(Ala4Ga。.6) Q.5lno.5P层的膜厚约为3~ 10nm， p型第2包层9的 膜厚在0.5-2 nm范围，进一步优选为0.8~ 1.5 p型接触层10的膜厚 为0.2 ~ 0.8 jam。
权利要求
1.一种高输出红色半导体激光器，其是AlGaInP类的高输出红色半导体激光器，其在n型半导体衬底上至少依次具有n型包层、有源层和p型包层，并且在有源层的上部具有含有所述p型包层的带状的脊部，其特征在于，用含有AlGaAs的半导体形成构成所述脊部的半导体层的一部分。
2. 如权利要求1所述的高输出红色半导体激光器，其特征在于，用含 有AlGaAs的半导体形成所述p型包层。
3. 如权利要求1所述的高输出红色半导体激光器，其特征在于，所述p 型包层通过在中间形成的蚀刻停止层分离为有脊部的第2p型包层和不含有 脊部的第lp型包层。
4. 如权利要求3所述的高输出红色半导体激光器，其特征在于，用含 有AlGaAs的半导体形成所述第2p型包层。
5. 如权利要求4所述的高输出红色半导体激光器，其特征在于，用含 有AlGaAs的半导体形成所述第lp型包层。
6. 如权利要求1至5中任一项所述的高输出红色半导体激光器，其特 征在于，用含有AlGaAs的半导体形成所述n型包层。
全文摘要
本发明提供一种高输出红色半导体激光器，其改善散热特性抑制激光器元件的温度上升，无需增大元件的散热面积。该发明在倾斜n-GaAs衬底(2)上层叠有n-AlGaInP包层(3)、AlGaInP光导层(4)、MQW有源层(5)、AlGaInP光导层(6)、p-AlGaInP第1包层(7)、AlGaInP蚀刻停止层(8)、n-AlGaInP阻挡层(11)、p-AlGaAs第2包层(9)、p-GaAs接触层(10)、p电极(12)，在n-GaAs衬底(2)的背面形成有n电极(1)。由于第2包层(9)把热传导率良好的AlGaAs作为其成分，因此可以提高激光器元件的散热特性。
文档编号H01S5/22GK101283493SQ20068003716
公开日2008年10月8日 申请日期2006年8月9日 优先权日2005年8月12日
发明者中原健, 石川努 申请人:罗姆股份有限公司