可挠式显示面板的制作方法

文档序号:6950296阅读:79来源:国知局
专利名称:可挠式显示面板的制作方法
技术领域
本发明涉及一种可挠式显示面板的制作方法。
背景技术
随着显示技术的突飞猛进,显示器已从早期的阴极射线管(CRT)显示器逐渐地发 展到目前的平面显示器(Flat Panel Display,FPD)。相较于硬质载板(诸如玻璃基板)所 构成的平面显示器,由于可挠性基板(诸如塑料基板)具有可挠曲及耐冲击等特性,因此, 近年来已着手研究将主动元件制作于可挠性基板上的可挠式显示器。一般来说,可挠式显示面板的制作方式是先将塑料基板固定在玻璃基板上。之后, 再于塑料基板上进行显示元件的制造程序。待完成显示元件制造完成以形成显示面板之 后,再将此可挠式显示面板从玻璃基板上取下。当塑料基板贴附于玻璃基板时,容易因为贴 附时所产生的气泡或者因为环境中的尘粒沾附到塑料基板的背面而造成后续进行显示元 件的制造程序时塑料基板上的线路产生断线。再者,为了保护可挠式显示面板的塑料基板, 通常会在塑料基板的背面再贴上保护膜;但是,当将此可挠式显示面板从玻璃基板上取下 之后以及在将保护膜贴上塑料基板的背面之前或之时,环境中的尘粒很容易在此时即沾附 到塑料基板的背面。而此尘粒将容易导致塑料基板上的线路或元件产生断线或裂缝。

发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种可挠式显示面板的制作方法,其可以解 决传统可挠式显示面板于进行保护层贴膜时容易受到环境尘粒污染的问题。本发明提出一种可挠式显示面板的制作方法。此方法包括在支撑基板上形成堆栈 层,所述堆栈层从下往上包括第一粘着层、第一基材、第二粘着层以及第二基材。在上述第 二基材上形成像素阵列。之后进行分离程序,以使第一粘着层与第一基材分离开来,其中在 分离程序之后,第一粘着层留在支撑基板上。在本发明的一实施例中,在进行上述分离程序之后,该第一基材作为一保护膜。其中,该第一基材的尺寸大于该第二基材的尺寸。其中,该第一基材的厚度大于该第二基材的厚度。其中,该第一基材与该第二基材的厚度比例为1 1 10 1。其中,该第一基材的材料与该第二基材的材料不相同。其中,该第一基材与该第二基材的材质分别选自有机材料、无机材料、有机材料与 无机材料的混合物或是有机材料与无机材料的复合层。其中,所述有机材料包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜/聚 苯醚砜、聚碳酸酯、聚亚酰胺、环状烯腈聚合物或聚芳酯树脂。其中,所述无机材料包括金属或是玻璃。其中,该第一基材包含金属,该第二基材包含有机材料。其中,该第一粘着层的厚度大于该第二粘着层的厚度。
其中,该第一粘着层与该第二粘着层包括硅树脂胶或是环氧树脂胶。其中,该分离程序包括利用水使该第一粘着层与该第一基材分离,或是利用紫外 光照射使第一粘着层与该第一基材分离。其中,该方法更包括进行另一分离程序以使该第二粘着层与该第二基材分离开 来,该第二粘着层留在第一基材上。本发明另提出一种可挠式显示面板的制作方法。此方法包括提供支撑基板,其中 支撑基板具有多个显示单元区域。在上述的支撑基板上形成堆栈层,所述堆栈层从下往上 包括第一粘着层、第一基材、第二粘着层以及第二基材。之后,在第二基材上形成多个像素 阵列,其中每一像素阵列对应形成在一个显示单元区域内。进行切割程序,以形成多个显示 面板单元。然后进行分离程序,以使每一显示面板单元的第一粘着层与第一基材分离开来, 其中在进行分离程序之后,每一显示面板单元的第一粘着层留在支撑基板上且第一基材是 作为保护膜。其中,该第二基材具有多个基材单元,其对应设置在该些显示单元区域内,且每一 基材单元的面积小于一个显示单元区域的面积。其中,该第一基材的厚度大于该第二基材的厚度。其中,该第一基材与该第二基材的厚度比例为1 1 10 1。其中,该第一基材的材料与该第二基材的材料不相同。其中,该第一基材与该第二基材的材质分别选自有机材料、无机材料或是有机材 料与无机材料的混合物。其中,所述有机材料包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜/聚 苯醚砜、聚碳酸酯、聚亚酰胺、环状烯腈聚合物或聚芳酯树脂。其中,所述无机材料包括金属或是玻璃。其中,该第一基材包含金属,该第二基材包含有机材料。其中,该第一粘着层的厚度大于该第二粘着层的厚度。其中,该第一粘着层与该第二粘着层包括硅树脂胶或是环氧树脂胶。其中,该分离程序包括利用水使该第一粘着层与该第一基材分离,或是利用紫外 光照射使第一粘着层与该第一基材分离。基于上述,由于本发明是直接将堆栈层形成在支撑基板上。在堆栈层上进行像素 阵列的制作时,第一基材可作为隔离层,用以隔离当第一基材贴附于支撑基板时所产生的 气泡以及环境中的尘粒,以避免进行像素阵列的制作时塑料基板上的线路产生断线。此外, 在堆栈层上完成像素阵列的制作以及进行分离程序之后,暴露出来的第一基材即可作为可 挠式显示面板的保护膜。因此,本发明不会有使第二基材暴露在环境而使尘粒污染的机会。 因而可以避免传统可挠式显示面板为了贴附保护膜而导致尘粒污染的问题。以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。


图IA至图IC是根据本发明一实施例的可挠式显示面板的制造方法;图ID至图IE是根据本发明一实施例的可挠式显示面板的制造方法,其是接续在 图IA至图IC的步骤之后;
图2至图5是根据本发明数个实施例的形成在支撑基板上的堆栈层的剖面示意 图;图6A至图6C是根据本发明另图7A至图7C是根据本发明另元件其中,附图标记100 支撑基板102 第一粘着层106:第二粘着层110:堆栈层120 像素阵列150 显示面板单元
具体实施例方式图IA至图IC是根据本发明一实施例的可挠式显示面板的制造方法。请先参照图 1A,首先提供支撑基板100,支撑基板100为具有高刚硬性、低膨胀系数以及高杨氏系数性 质的基板,其例如是玻璃基板或不锈钢基板等等。接着,在支撑基板100上形成堆栈层110。此堆栈层110从下往上包括第一粘着层 102、第一基材104、第二粘着层106以及第二基材108。根据本发明的一实施例,在支撑基 板100上形成堆栈层110的方法例如是采用滚轮111偏贴的方式或是其它种贴附方式。上述的第一粘着层102主要是要将第一基材104与支撑基板100粘着在一起;第 二粘着层106主要是要将第一基材104与第二基材108粘着在一起。而第一基材104在后 续主要是作为可挠式显示面板的保护膜,并且阻挡水气以及气体入侵可挠式显示面板内; 第二基材108主要是用来承载可挠式显示面板中的像素阵列之用。因此,一般来说,第一基 材104的材质的选择条件是是具有阻挡水气以及气体的功能。而第二基材108的材质的选 择条件主要是能够承受像素阵列的制造过程中的高温以及蚀刻等等的作用。基于上述,堆 栈层110中的第一粘着层102、第一基材104、第二粘着层106以及第二基材108的材料、厚 度以及尺寸等等,可以是下列图2至图5所示的数种实施例。图2是根据本发明一实施例的形成在支撑基板上的堆栈层的剖面示意图。请参照 图2,在此实施例中,堆栈层110中的第一基材102的尺寸大于第二基材108的尺寸。根据 本实施例,由于第一粘着层102主要是要将第一基材104与支撑基板100粘着在一起,因而 第一粘着层102的尺寸与第一基材102的尺寸相当。由于第二粘着层106主要是要将第一 基材104与第二基材108粘着在一起,因此,第二粘着层106的尺寸与第二基材108的尺寸 相当。图3是根据本发明另一实施例的形成在支撑基板上的堆栈层的剖面示意图。请参 照图3,在此实施例中,堆栈层110中的第一基材104的厚度等于或大于第二基材108的厚 度。例如,第一基材104与第二基材108的厚度比例为1 1 10 1。由于第一基材104 主要是作为可挠式显示面板的保护膜并阻挡水气以及气体入侵可挠式显示面板内。因此, 可以选择使第一基材104的厚度大于第二基材108的厚度,借以达到较佳的保护效果。图4是根据本发明另一实施例的形成在支撑基板上的堆栈层的剖面示意图。请
一实施例的可挠式显示面板的制造方法; 一实施例的可挠式显示面板的制造方法;
101 显示单元区域 104 第一基材 108 第二基材 111 滚轮 130 切割线参照图4,在此实施例中,堆栈层110中的第一基材104的材料与第二基材108的材料 不相同。上述的第一基材104与第二基材108的材料可分别选自有机材料、无机材料、 有机材料与无机材料的混合物或是有机材料与无机材料的复合层。所述有机材料包括 聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene ter印hthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(poly ethylene naphthalate, PEN)、聚醚砜 / 聚苯醚砜(Polyethersulfone PES)、聚碳酸 酯(polycarbonate, PC)、聚亚酰胺(polyimide, PI)、环状烯腈聚合物(Cyclic Olefin Polymer ART0N)或聚芳酯树脂(polyarylate resin,PAR)。所述的无机材料包括金属或是 玻璃。根据本发明的实施例,第一基材104与第二基材108的材料组合可以是(a)第一基材104是使用有机材料且第二基材108是使用有机材料。举例而言,第 一基材104是使用PET且第二基材108是使用PEN。(b)第一基材104是使用有机材料且第二基材108是使用无机材料。举例而言,第 一基材104是使用PET且第二基材108是使用玻璃(薄层玻璃)。(c)第一基材104是使用无机材料且第二基材108是使用无机材料。举例而言,第 一基材104是使用玻璃(薄层玻璃)且第二基材108是使用金箔。(d)第一基材104是使用无机材料且第二基材108是使用有机材料。举例而言,第 一基材104是使用铝且第二基材108是使用PI。根据本实施例,上述四种组合较佳的是,第一基材104是采用金属,且第二基材 108是采用有机材料。但本发明不限于此。此外,上述所列举的四种组合的实例仅是为了使 本领域技术人员了解本发明,但其并非用以限定本发明。图5是根据本发明又一实施例的形成在支撑基板上的堆栈层的剖面示意图。请参 照图5,在此实施例中,堆栈层110中的第一粘着层102的厚度大于第二粘着层106的厚度。 此外,第一粘着层102与第二粘着层106包括硅树脂(silicone)胶或是环氧树脂(印oxy resin)胶。换言之,于上述图IA的步骤中,即在支撑基板100上形成堆栈层110的步骤中,推 迭层110可以是上述图2至图5中所述的任一种堆栈层。然,本发明不限于此。在图IA的步骤之后,接着请参考图1B,在堆栈层110的第二基材108上形成一像 素阵列120,以构成一可挠式显示面板。所述的像素阵列120例如是包括多条扫描线、多条 数据线、多个主动元件以及多个像素电极。根据其它实施例,上述的像素阵列120还可进一 步包括彩色滤光阵列、遮光图案或是共享电极图案。根据又一实施例,上述的像素阵列120 也可进一步包括显示介质。上述像素阵列120中的元件的制造例如是经过数道涂布、沉积、 蚀刻、高温处理程序而形成。之后,请参照图1C,进行一分离程序,以使堆栈层110的第一粘着层102与第一基 材104分离开来。根据本发明的实施例,上述的分离程序是利用水使第一粘着层102与第 一基材104分离。根据本发明的另一实施例,上述的分离程序是利用紫外光照射使第一粘 着层102与第一基材104分离。在分离程序之后,第一粘着层102会留在支撑基板100上, 而使得第一基材104暴露出来。在本实施例中,暴露出来的第一基材104即可作为可挠式 显示面板的保护膜。根据本发明的另一实施例,上述的图IC的步骤之后,可进一步进行图ID至图IE
7的步骤。请参照图1D,在上述图IC的分离程序之后,所形成的结构为第一基材104、第二粘 着层106、第二基材108以及像素阵列120。之后,如图IE所示,进行另一分离程序以使第 二粘着层106与第二基材108分离开来。在此分离程序之后,第二粘着层106留在第一基 材104上。一般对于中小尺寸的显示面板来说,可在一片大基板上形成多个显示单元,之后, 再进行切割程序以形成数个显示面板。本发明的堆栈层的概念也可以应用于此种制造方法 当中,如下所述。图6A至图6C是根据本发明一实施例的可挠式显示面板的制造方法。在图6A至 图6C的实施例中,与上述图IA至图IC相同的元件以相同的符号表示且不再重复赘述。请 参照图6A,首先提供支撑基板100。特别是,支撑基板100具有多个显示单元区域101。之后,支撑基板100上形成堆栈层110,所述堆栈层110从下往上包括第一粘着层 102、第一基材104、第二粘着层106以及第二基材108。同样地,第一粘着层102、第一基材 104、第二粘着层106以及第二基材108的厚度以及材质的选择可以是如图3至图5所述的 各种组合。在此实施例中,第一粘着层102与第一基材104的尺寸与支撑基板100的尺寸相 当。在每一显示单元区域101内的第二粘着层106以及第二基材108的尺寸则各自小于第 一粘着层102与第一基材104的尺寸。换言之,第二基材108在对应每一显示单元区域101 内即具有一个基材单元,且第二基材108在每一显示单元区域101内的基材单元的面积小 于一个显示单元区域101的面积。之后,在堆栈层110的第二基材108上形成像素阵列120,也就是在每一个显示单 元区域101内的第二基材108形成一个像素阵列120。类似地,此像素阵列120中的元件已 经在先前详细说明,因此不再赘述。之后,在沿着切割线130进行切割程序,以形成多个显 示面板单元150,如图6B所示。接着,如图6C所示,进行分离程序,以使每一显示面板单元150的第一粘着层102 与第一基材104分离开来。根据本发明的实施例,上述的分离程序是利用水使第一粘着层 102与第一基材104分离。根据本发明的另一实施例,上述的分离程序是利用紫外光照射使 第一粘着层102与第一基材104分离。在分离程序之后,第一粘着层102会留在支撑基板 100上,而使得第一基材104暴露出来。因此,暴露出来的第一基材104即是作为可挠式显 示面板的保护膜。类似地,根据另一实施例,在图6C的步骤之后,也可进一步进行另一分离程序(如 图D至图IE所示的分离程序),以使第二粘着层106与第二基材108分离开来。在此分离 程序之后,第二粘着层106留在第一基材104上。图7A至图7C是根据本发明一实施例的可挠式显示面板的制造方法。在图7A至 图7C的实施例中,与上述图6A至图6C相同的元件以相同的符号表示且不再重复赘述。请 参照图7A,首先提供支撑基板100。特别是,支撑基板100具有多个显示单元区域101。之后,支撑基板100上形成堆栈层110,所述堆栈层110从下往上包括第一粘着层 102、第一基材104、第二粘着层106以及第二基材108。类似地,第一粘着层102、第一基材 104、第二粘着层106以及第二基材108的厚度以及材质的选择可以是如图3至图5所述的 各种组合。
在此实施例中,第一粘着层102、第一基材104、第二粘着层106以及第二基材108 的尺寸与支撑基板100的尺寸相当。换言之,此实施例的第一粘着层102、第一基材104、第 二粘着层106以及第二基材108的尺寸大致相同。之后,在堆栈层110的第二基材108上形成像素阵列120,也就是在每一个显示单 元区域101内的第二基材108形成一个像素阵列120。类似地,此像素阵列120中的元件已 经在先前详细说明,因此不再赘述。之后,在沿着切割线130进行切割程序,以形成多个显 示面板单元150,如图7B所示。接着,如图7C所示,进行分离程序,以使每一显示面板单元150的第一粘着层102 与第一基材104分离开来。同样地,上述的分离程序是利用水或是利用紫外光照射使第一 粘着层102与第一基材104分离。在分离程序之后,第一粘着层102会留在支撑基板100 上,而使得第一基材104暴露出来。因此,暴露出来的第一基材104即是作为可挠式显示面 板的保护膜。类似地,根据另一实施例,在图7C的步骤之后,也可进一步进行另一分离程序(如 图ID至图IE所示的分离程序),以使第二粘着层106与第二基材108分离开来。在此分离 程序之后,第二粘着层106留在第一基材104上。综上所述,由于上述实施例是直接将堆栈层形成在支撑基板上。在堆栈层上进行 像素阵列的制作时,第一基材可作为隔离层,用以隔离当第一基材贴附于支撑基板时所产 生的气泡以及环境中的尘粒,以避免进行像素阵列的制作时塑料基板上的线路产生断线。 此外,在堆栈层上完成像素阵列的制作以及进行分离程序之后,暴露出来的第一基材即可 作为可挠式显示面板的保护膜。因此,第二基材不会有暴露在环境当中而被尘粒污染的机 会。因而可以避免传统可挠式显示面板为了贴附保护膜而导致尘粒污染的问题,进而可避 免因尘粒的存在而导致像素阵列中的元件或线路产生断线或裂缝。当然,本发明还可有其它多种实施例,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟 悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形 都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
一种可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,包括在一支撑基板上形成一堆栈层,该堆栈层从下往上包括一第一粘着层、一第一基材、一第二粘着层以及一第二基材;在该第二基材上形成一像素阵列;以及进行一分离程序,以使该第一粘着层与该第一基材分离开来,其中在该分离程序之后,该第一粘着层留在该支撑基板上。
2.根据权利要求1所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,在进行该分离程 序之后,该第一基材作为一保护膜。
3.根据权利要求2所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材的尺 寸大于该第二基材的尺寸。
4.根据权利要求2所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材的厚 度大于该第二基材的厚度。
5.根据权利要求4所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材与该 第二基材的厚度比例为1 1 10 1。
6.根据权利要求2所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材的材 料与该第二基材的材料不相同。
7.根据权利要求6所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材与该 第二基材的材质分别选自有机材料、无机材料、有机材料与无机材料的混合物或是有机材 料与无机材料的复合层。
8.根据权利要求7所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,所述有机材料包 括聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜/聚苯醚砜、聚碳酸酯、聚亚酰胺、环 状烯腈聚合物或聚芳酯树脂。
9.根据权利要求7所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,所述无机材料包 括金属或是玻璃。
10.根据权利要求7所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材包含 金属,该第二基材包含有机材料。
11.根据权利要求2所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一粘着层的 厚度大于该第二粘着层的厚度。
12.根据权利要求2所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一粘着层与 该第二粘着层包括硅树脂胶或是环氧树脂胶。
13.根据权利要求2所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该分离程序包括 利用水使该第一粘着层与该第一基材分离,或是利用紫外光照射使第一粘着层与该第一基 材分离。
14.根据权利要求1所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,更包括进行另一 分离程序以使该第二粘着层与该第二基材分离开来,该第二粘着层留在第一基材上。
15.一种可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,包括提供一支撑基板,其中该支撑基板具有多个显示单元区域;在该支撑基板上形成一堆栈层,该堆栈层从下往上包括一第一粘着层、一第一基材、一第二粘着层以及一第二基材;在该第二基材上形成多个像素阵列,其中每一像素阵列对应形成在一个显示单元区域内;进行一切割程序,以形成多个显示面板单元;以及进行一分离程序,以使每一显示面板单元的该第一粘着层与该第一基材分离开来,其 中在该分离程序之后,每一显示面板单元的该第一粘着层留在该支撑基板上且该第一基材 作为一保护膜。
16.根据权利要求15所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第二基材具 有多个基材单元,其对应设置在该些显示单元区域内,且每一基材单元的面积小于一个显 示单元区域的面积。
17.根据权利要求15所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材的 厚度大于该第二基材的厚度。
18.根据权利要求17所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材与 该第二基材的厚度比例为1 1 10 1。
19.根据权利要求15所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材的 材料与该第二基材的材料不相同。
20.根据权利要求19所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材与 该第二基材的材质分别选自有机材料、无机材料或是有机材料与无机材料的混合物。
21.根据权利要求20所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,所述有机材料 包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜/聚苯醚砜、聚碳酸酯、聚亚酰胺、 环状烯腈聚合物或聚芳酯树脂。
22.根据权利要求20所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,所述无机材料 包括金属或是玻璃。
23.根据权利要求20所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基材包 含金属,该第二基材包含有机材料。
24.根据权利要求15所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一粘着层 的厚度大于该第二粘着层的厚度。
25.根据权利要求15所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该第一粘着层 与该第二粘着层包括硅树脂胶或是环氧树脂胶。
26.根据权利要求15所述的可挠式显示面板的制作方法,其特征在于,该分离程序包 括利用水使该第一粘着层与该第一基材分离,或是利用紫外光照射使第一粘着层与该第一 基材分离。
全文摘要
本发明公开了一种可挠式显示面板的制作方法。此方法包括在支撑基板上形成堆栈层,所述堆栈层从下往上包括第一粘着层、第一基材、第二粘着层以及第二基材。在上述第二基材上形成像素阵列。之后,进行分离程序,以使第一粘着层与第一基材分离开来,其中在分离程序之后,第一粘着层留在支撑基板上。由于本发明是直接将堆栈层形成在支撑基板上。在堆栈层上进行像素阵列的制作时,第一基材可作为隔离层,用以隔离当第一基材贴附于支撑基板时所产生的气泡以及环境中的尘粒,以避免进行像素阵列的制作时塑料基板上的线路产生断线。
文档编号H01L21/77GK101964323SQ20101025479
公开日2011年2月2日 申请日期2010年8月13日 优先权日2010年8月13日
发明者彭佳添, 方玮嘉, 胡至仁 申请人:友达光电股份有限公司
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