专利名称：以铁硅铝为气隙的电抗器铁心的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种电抗器铁心，尤其是以铁硅铝为气隙的电抗器铁心。
背景技术：
电抗器具有滤波、整流、保护电路等作用，它作为一个无功补偿手段被应用于电力 系统中。温升是电抗器的一个重要的性能参数，气隙又是影响温升的一个因素，传统气隙分 布的位置及其所用的材料，都使电抗器有一个较高的温升，也使得产品在制造过程中有较 差的工艺性。传统的电抗器铁心气隙采用的是绝缘材料作为气隙，这种气隙往往单层厚度不能 超过3mm，因为单层气隙越大，则产生的边缘磁通则越大，这样则会影响铁心的磁导率，产生 较大的涡流损耗，使线圈及加持件产生热量，增加损耗，故传统方式都采用多层式、分段式 加气隙的方式调节电感量，这样要将单柱总气隙均分或按一定比例分到铁芯的各段上去， 这样尽管可以减少边缘磁通，减少损耗，但这种加气隙的方式本身工艺性很差，表现为以下 几点1.气隙分段后难以保证其气隙厚度的精确；2.气隙分段后，增加了铁心的裁片数量， 增大了铁心尺寸控制的难度；3.气隙分段后增加了电抗器的装配难度；4.气隙分段后增加 了装配过程中很多不可控制因素。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种以铁硅铝为气隙的电抗器铁心，不仅使气隙厚度能 精确控制，还简化了铁心的结构，减少了铁心的制作时间，提高了电抗器整体尺寸的控制精 度，同时电抗器温升将会更低，且保持在一个稳定的状态，有利于延长使用寿命。为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是一种以铁硅铝为气隙的电抗器铁心，包括铁心中柱，其特别之处在于，在至少一根 铁心中柱中间安装有一整块铁硅铝合金气隙。其中在所有铁心中柱中间均安装有铁硅铝合金气隙。用铁硅铝合金块作为气隙，不用分段，不但使气隙厚度能精确控制外，还大大简化 了铁心的结构，减少了铁心的制作时间，提高了电抗器整体尺寸的控制精度，使电抗器制造 过程具有良好的工艺性。传统铁心Imm的气隙相当于约8mm铁硅铝合金块气隙，用铁硅铝 合金块作为气隙会增大电抗器铁心的散热面积，而且铁硅铝合金块相对于绝缘材料来说具 有高导热的优点，同时铁硅铝合金块也具有一定的磁导率，最大程度上减少了边缘磁通，这 样电抗器产生的涡流损耗会减少，在线圈与加持件产生的热量就会降低，所以采用铁硅铝 合金块代替一些绝缘材料作为气隙，可大大降低电抗器的温升，若温升过大，会使电抗器线 圈的层间绝缘、线圈与骨架老化甚至烧坏，会降低电抗器的使用寿命，采用铁硅铝合金块作 为气隙，电抗器温升将会更低，且会保持在一个稳定的状态，这样不但增加电抗器的使用寿 命而且能使其长期稳定的工作。
附图1为本实用新型背景技术中现有铁心的结构示意图；附图2为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型铁心的制造方法如下1.在对电抗器设计时，计算出铁心理论气隙1(铁硅铝合金块)厚度，其截面同铁 心截面；2.铁心裁片时，将铁心中柱2按设计要求分为两段，完成铁心装配；3.电抗器整体装配时，在线圈套入铁心后，将铁心中柱2上段部分取出，按大于 (大于Imm左右)气隙1理论厚度在电抗器铁心中柱2间夹入铁硅铝合金块，将上段部分原 位放回，完成初步装配；4.实测电抗器的电感量，比较与设计要求值的差异；5.通过磨制稍微改变气隙1 (铁硅铝合金块)的厚度，调节电抗器的电感量使其符 合设计要求；6.确定出实际的气隙1 (铁硅铝合金块)厚度；7.完成装配。实施例1验证环氧板与铁硅铝合金块分别作为气隙1时电抗器的温升样品1采用环氧板作为气隙1，样品2采用铁硅铝合金块作为气隙1，样品1与样 品2线圈、铁心均相同，试验前将两电抗器的电感量及压降调节相同，在同等的条件下进行 实验。实验一样品1与样品2线圈温升对比。
权利要求一种以铁硅铝为气隙的电抗器铁心，包括铁心中柱(2)，其特征在于在至少一根铁心中柱(2)中间安装有一整块铁硅铝合金气隙(1)。
2.如权利要求1所述的以铁硅铝为气隙的电抗器铁心，其特征在于其中在所有铁心 中柱(2)中间均安装有铁硅铝合金气隙(1)。
专利摘要本实用新型涉及一种电抗器铁心，尤其是以铁硅铝为气隙的电抗器铁心，包括铁心中柱(2)，其特点是，在至少一根铁心中柱(2)中间安装有一整块铁硅铝合金气隙(1)。用铁硅铝合金块作为气隙，不用分段，不但使气隙厚度能精确控制外，还大大简化了铁心的结构，减少了铁心的制作时间，提高了电抗器整体尺寸的控制精度，使电抗器制造过程具有良好的工艺性。
文档编号H01F27/24GK201725661SQ201020062320
公开日2011年1月26日 申请日期2010年1月22日 优先权日2010年1月22日
发明者焦海波 申请人:焦海波