专利名称：包含阻挡件的气刀腔的制作方法
包含阻挡件的气刀腔技术领域
本公开涉及一种气刀腔，更具体而言，涉及一种被构造为允许沿着隔断墙向下流的水(或清洗液)在隔断墙(或裂缝)前方落下的气刀腔，使得能够通过气刀有效地去除水， 并最终导致降低了基板的缺陷比例。
背景技术：
一般来说，使液晶显示器(IXD)、等离子显示板(PDP)等的玻璃基板受到湿式(清洗)工艺，在该工艺中，供应例如纯水的清洗液来处理玻璃基板。清洗工艺之后，使基板经受额外的工艺，以去除附着在基板表面的残留清洗液。这种额外的工艺包括清洗液处理和干燥。
图1中示出了用于清洗液处理的工艺。参考图1，在将基板I通过进入口 11输送到密闭的腔体10后，将来自气刀14的高压空气或高压惰性气体喷射到移动的基板I上，以去除例如水(或清洗液)的杂质。将已去除杂质的基板I通过排出口 12排出到外部。
附着在基板I上的例如水(或清洗液)的杂质被高压空气或高压惰性气体吹走。将被吹走的水(或清洗液)粒子通过排出口 13排出到外部。从气刀14释放出的大量空气或惰性气体在腔体10内部产生复杂的气流。这种空气流造成部分水(或清洗液)粒子附着在隔断墙16上。
附着在隔断墙16上的水(或清洗液)沿着隔断墙16向下流，并且落在基板I上。沿着隔断墙16向下流的部分水(或清洗液)落在从气刀14喷射出的空气或惰性气体的后方。 因此，将仍没有去除水(或清洗液)的基板I排出到外部。
像这样，当将附着在基板I上的残留水(或清洗液)排出到外部时，最终产品中的缺陷数量会增加。发明内容
技术问题
本公开被设计为用于解决先前技术的问题，因此，本公开的目的之一是提供一种被构造为允许沿着隔断墙向下流的水(或清洗液)在隔断墙(或裂缝)前方落下的气刀腔，使得能够通过气刀有效地去除水，并最终导致降低了基板的缺陷比例。
技术方案
根据本公开的一个优选实施例，一种气刀腔包括腔体，该腔体具有使基板进入的进入口和使基板排出的排出口 ；隔断墙，该隔断墙在所述腔体内部被设置在所述进入口与所述排出口之间，以将所述腔体的内部空间划分为与所述进入口连通的前部和与所述排出口连通的后部，并且该隔断墙具有能够使所述基板通过的裂缝；阻挡件，该阻挡件被设置在所述隔断墙上位于所述裂缝的上方；以及气刀，该气刀适于喷射高压气体，以去除所述基板中存在的水，其中，阻挡件防止沿着隔断墙向下流的水落在基板上。
优选地，隔断墙和阻挡件相对于基板的移动方向倾斜地设置。
气刀优选地被放置为在隔断墙后方处靠近裂缝，以便高压空气能够通过裂缝向前部喷射。
气刀也可以被放置在阻挡件下方，以允许从气刀喷射出的高压空气将落在基板上的水从阻挡件的末端推向进入口。
优选地，阻挡件向下倾斜。在这种情况下，沿着隔断墙向下流的水沿着阻挡件向下流，并在裂缝前方落下。优选地，阻挡件以与水平面成20° 35°的角度向下倾斜。
或者，阻挡件可以向上倾斜。在这种情况下，沿着隔断墙向下流的水沿着阻挡件横向流动，并在腔体的侧面向下流。
优选地，阻挡件被放置在从底层基板起9cnTllCm的高度处，并且具有9cm到13cm 的长度(U。
将参考附图详细描述本公开，在附图中，示出了本公开的优选实施例。因此，本公开的技术精神不应该被理解为局限于附图。
图1是示出了根据先前技术的气刀腔的构造的侧视图。
图2是示出了根据本公开的一个优选实施例的气刀腔的构造的侧视图。
图3是沿着图2的线II1-1IΓ的剖视图。
图4是图2的部分IV的放大图。
图5是示出了根据本公开的将气刀设置在阻挡件下方的气刀腔的放大图。
图6是根据图2的气刀腔中的阻挡件的位置比较附着在危险区域(D)的水量的图表。
图7是根据图2的气刀腔中的阻挡件的角度(Θ )比较附着在危险区域(D)的水量的图表。
图8是根据图2的气刀腔中的阻挡件的长度(L)比较附着在危险区域(D)的水量的图表。
具体实施方式
在下文中，将参考附图详细地描述本公开的优选实施例。在描述之前，要理解的是，在本说明书和附加的权利要求书中所使用的术语不应当被理解为局限于一般的和字典上的含义，而是基于允许发明人适当地定义术语以获得最佳解释的原则，根据与本公开的技术方面对应的含义和概念进行解释。因此，仅提供这里所描述的实施例用于说明目的，而并非旨在限制本公开的技术范围。同样地，要理解的是，在递交本申请时可以对本申请做出其他的等效变化和修改。
图2是示出了根据本公开的一个优选实施例的气刀腔的构造的侧视图，图3是示出气刀腔的平面图(即沿着线ΙΙΙ-ΙΙΓ的剖视图)，并且图4是图2的部分IV的放大图。
参考这些附图，气刀腔100包括腔体20 ;隔断墙30，设置在腔体20的内部；阻挡件40，设置在隔断墙30上；以及气刀14，适于喷射高压空气。
腔体20包括使基板I进入的进入口 21、使基板I排出的排出口 22以及适于移动基板I的传送滚筒23。通过进入口 21进入腔体20的基板I借助于传送滚筒23进行移动，并通过排出口 22排出到外部。传送滚筒23通过驱动电机(未示出)进行旋转，以移动基板I。
腔体20可以进一步包括使空气和/或水(或清洗液)粒子排出到外部的通风口 25。
隔断墙30在腔体20内部设置在进入口 21与排出口 22之间，以将腔体20的内部空间划分为与进入口 21连通的前部(A)和与排出口 22连通的后部(B)。隔断墙30具有能够使基板I通过的裂缝32。隔断墙30连同气刀14防止水(或清洗液)粒子和空气从前部 (A)移到后部(B)。
通过空气过滤器(未示出)将空气供应到后部(B)。这种空气供应可以更有·效地防止空气和/或水粒子从前部(A)进入到后部(B)。
阻挡件40设置在隔断墙30上位于裂缝32的上方。
阻挡件40阻挡沿着隔断墙30向下流的水落向裂缝32。即是，沿着隔断墙30向下流的水(或清洗液)沿着阻挡件40向下流，并且在裂缝32前方落下。隔断墙40优选的尺寸是长度等于或大于裂缝32的宽度。
阻挡件40以与水平面呈预定的角度(Θ )向下倾斜。优选地，该角度(Θ)在 20° 35°之间。如果角度(Θ)小于20°，则水被吸附到阻挡件40的下表面，这是不可取的。同时，如果角度(Θ )大于35°，则在阻挡件40下方产生涡流，这将不利地阻碍气刀14 的操作。更优选地，该角度(Θ )约为27. 5°。
优选地，将阻挡件40放置在从底层基板起9cm到I Icm的高度处。优选地，阻挡件 40的长度(L)在约9cm和约13cm之间。
或者，阻挡件40可以被配置为向上倾斜。在这种情况下，可以将沿着隔断墙30向下流的水收集到阻挡件40中。
又或者，阻挡件40可以被配置为向上倾斜，并指向腔体20的一侧。在这种情况下， 沿着隔断墙30向下流的水沿着阻挡件流向腔体20的该侧。水可以通过在腔体20的该侧形成的排水孔(未示出)排出。
气刀14喷射高压空气或高压惰性气体，以去除附着在基板I上的水(或清洗液)。 将一对气刀布置为在通过的基板I的上方和下方彼此相对。
将气刀14放置为靠近裂缝32。优选地，气刀倾斜，以便高压空气可以通过裂缝32 向前部(A)喷射，如图4所示。
虽然图4示出了将气刀14设置为靠近裂缝32，但考虑到待被去除的水(或清洗液) 量，可以进一步设置至少一个气刀。例如，除设置为靠近裂缝32的气刀14之外，可以在前部(A)设置额外的一个气刀14。
如图3所示，优选地，所有的隔断墙30、阻挡件40以及气刀14相对于基板I的移动方向倾斜。利用该结构，使得更大量的高压空气被喷射到基板I上，提高了可以去除附着在基板I上的例如水(或清洗液)的杂质的可能性。为了便于理解和方便起见，在图3中将传送滚筒23和基板I省略。
如图5所示，气刀14可以被进一步设置在阻挡件40的下方。优选地，将额外的气刀14放置在阻挡件40末端的后方。这种布置允许从气刀14喷射出的高压气体将落在基板上的水从阻挡件40的末端推向进入口 21。
图6是根据阻挡件40的位置比较附着在危险区域(在图4中由D表示)的水量的图表。具体地说，根据具有图2至图4的构造的气刀腔100中的阻挡件40的位置(即从底层基板起的距离)，图6图示地比较了附着在危险区域(D)(即面对进入口 21并且放置在阻挡件下方的隔断墙一侧的表面区域)的水量。将阻挡件40的角度(Θ )和长度(L)分别设置为 27. 5。和 Ilcm0
如同从图6的图表中可以看出的，当阻挡件40设置在从底层基板起9cnTllcm的高度处时，附着在危险区域(D)的水量少于没有设置阻挡件时的水量。尤其是，当阻挡件40 设置在从底层基板起IOcm的高度处时，附着在危险区域(D)的水量最少为无。
图7是根据具有图2至图4的构造的气刀腔100中的阻挡件40的角度(Θ )比较附着在危险区域(D)的水量的图表。阻挡件40设置在从底层基板起IOcm的高度处，并且具有Ilcm的长度(L)。
如同从图7的图表中可以看出的，当阻挡件40的倾斜角度(Θ )为20° 35°时， 附着在危险区域(D)的水量要少于没有设置阻挡件时的水量。尤其是，当阻挡件40的倾斜角度(Θ )是27. 5°时，附着在危险区域(D)的水量最少。
图8是根据具有图2至图4的构造的气刀腔100中的阻挡件40的长度(L)比较附着在危险区域(D)的水量的图表。阻挡件40设置在从底层基板起IOcm的高度处，并且倾斜角度(0)是27.5°。
如同从图8的图表中可以看出的，当阻挡件40的长度(L)为9cm到13cm时，附着在危险区域(D)的水量要少于没有设置阻挡件时的水量。尤其是，当阻挡件40的长度(L) 是Ilcm时，附着在危险区域(D)的水量最少为无。
根据本公开的气刀腔100的操作步骤将在下面进行说明。
首先，将经受过清洗工艺的基板I通过进入口 21输送到腔体20内。基板I借助于传送滚筒23进行移动。
在清洗工艺中使用的水(或清洗液)仍附着在基板I上。当基板I通过裂缝32时， 附着在基板I上的水(或清洗液)被 从气刀14喷射出的高压空气吹走。通过前部(A)中的空气流移动被吹走的水(或清洗液)粒子。将移动的水(或清洗液)粒子的一部分通过通风口 25排出到外面，并且移动的水(或清洗液)粒子的残留部分附着在隔断墙30等上。附着在隔断墙30上的水(或清洗液)沿着隔断墙30和阻挡件40向下流，并落在基板I上。由于阻挡件40以角度(Θ )向下倾斜，从而水(或清洗液)落在裂缝32前方的基板I上，并且可以由气刀14去除。
如果没有阻挡件40，则沿着隔断墙30向下流的水(或清洗液)落向裂缝32，并且部分水(或清洗液)存在于从气刀14喷射出的高压气体的后方并且因此不能被去除。通过本公开的被构造为允许水(或清洗液)在裂缝32前方落下的气刀腔100，解决了该问题。
从气刀14喷射出的高压气体所吹走的部分水(或清洗液)可能会附着在阻挡件40 的下表面和阻挡件40下方的部分隔断墙30上。附着在阻挡件40的下表面和阻挡件40下方的部分隔断墙30上的水分别沿着阻挡件40的下表面和隔断墙30向下流，并且可以再一次落在基板I上。可以由气刀14去除下落的水。像这样，附着在阻挡件40的下表面和阻挡件40下方的部分隔断墙30上的水(或清洗液)量要远小于附着在阻挡件40上方的部分隔断墙30上的水(或清洗液)量，这大大降低了污染基板I的可能性。
工业实用性
本公开的气刀腔被构造为允许沿着隔断墙向下流的水(或清洗液)在隔断墙(或裂缝)前方落下。由于这种构造，使得能够通过气刀有效地去除水，从而有助于降低基板缺陷的比 例。
权利要求
1.一种气刀腔，包括 腔体，该腔体具有使基板进入的进入口和使所述基板排出的排出口； 隔断墙，该隔断墙在所述腔体内部被设置在所述进入口与所述排出口之间，以将所述腔体的内部空间划分为与所述进入口连通的前部和与所述排出口连通的后部，并且该隔断墙具有能够使所述基板通过的裂缝； 阻挡件，该阻挡件被设置在所述隔断墙上位于所述裂缝的上方；以及 气刀，该气刀适于喷射高压气体，以去除所述基板中存在的水， 其中，所述阻挡件防止沿着所述隔断墙向下流的水落在所述基板上。
2.根据权利要求1所述的气刀腔，其中，所述隔断墙、所述阻挡件以及所述气刀相对于所述基板的移动方向倾斜地设置。
3.根据权利要求1或2所述的气刀腔，其中，所述气刀被放置为在所述隔断墙后方处靠近所述裂缝，使得所述高压气体能够通过所述裂缝向所述前部喷射。
4.根据权利要求1或2所述的气刀腔，其中，所述气刀被放置在所述阻挡件下方，以允许从所述气刀喷射出的所述高压气体将落在所述基板上的水从所述阻挡件的末端推向所述进入口。
5.根据权利要求1或2所述的气刀腔，其中，所述阻挡件向下倾斜。
6.根据权利要求5所述的气刀腔，其中，沿着所述隔断墙向下流的水沿着所述阻挡件向下流，并在所述裂缝前方落下。
7.根据权利要求6所述的气刀腔，其中，所述阻挡件以与水平面成20° 35°的角度向下倾斜。
8.根据权利要求1或2所述的气刀腔，其中，所述阻挡件向上倾斜。
9.根据权利要求8所述的气刀腔，其中，沿着所述隔断墙向下流的水沿着所述阻挡件横向流动，并在所述腔体的侧面向下流。
10.根据权利要求1或2所述的气刀腔，其中，所述阻挡件被放置在从所述底层基板起9cm到Ilcm的高度处,并具有9cm到13cm的长度(L)。
全文摘要
本发明公开了一种被构造为允许沿着隔断墙向下流的水在裂缝前方落下的气刀腔。由于这种构造，使得能够通过气刀有效地去除水，从而有助于降低基板的缺陷比例。
文档编号H01L21/302GK103003922SQ201180034690
公开日2013年3月27日 申请日期2011年7月14日 优先权日2010年7月14日
发明者朴寿赞, 林艺勋, 闵庚勋 申请人:Lg化学株式会社