吹扫装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提出了一种吹扫装置，包括与设备机台相连通的导流模块，一端连接导流模块另一端连接气源的多个管路。在设备机台上添加导流模块和管路，管路一端与导流模块相连，另一端连接气源，由气源提供惰性气体从而通过管路和导流模块对设备机台内部进行惰性气体的吹扫，排出大气以及大气中的水汽，从而避免卤族元素与水汽发生反应生成酸，进而避免酸对设备机台的腐蚀，一方面能够提高设备机台的使用寿命，另一方面能够降低晶圆缺陷的产生。
【专利说明】吹扫装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种吹扫装置。
【背景技术】
[0002]半导体制造工艺中，刻蚀工艺是十分重要的一环。随着半导体器件的特征尺寸的逐渐缩小，对刻蚀工艺的要求也越来越高，对刻蚀的精准度和程度等均有着极大的挑战。通常情况下，刻蚀设备采用的刻蚀气体多为HBr和Cl2。
[0003]在晶圆在设备机台的刻蚀腔体内完成刻蚀工艺后会传输回晶圆盒(FOUP)内。然而，晶圆的表面残留的部分Br或Cl卤族元素会与设备机台内大气中的水汽发生反应，生成相应的酸，由于设备机台内部大多为金属材质，因此酸会腐蚀对设备机台内进行腐蚀,进而容易产生颗粒等，最终会导致设备机台的使用寿命大大降低，严重时会导致晶圆缺陷增加几率。
[0004]针对现有的问题，通常解决方式为设备工程师定期清理设备机台的内部，更换设备机台内部的机械手臂等方式来减少对晶圆造成的缺陷，然而，该种解决方式大大增加了生产成本，同时影响设备的使用率，影响工厂的产能以及危及设备工程师的安全。
实用新型内容
[0005]本实用新型的目的在于提供一种吹扫装置，能够对设备机台内部进行气体吹扫，能够降低设备机台内部的湿度，加大设备机台内部气体的流速，避免形成酸对设备机台内部的腐蚀以及降低晶圆缺陷的产生。
[0006]为了实现上述目的，本实用新型提出了一种吹扫装置，用于对设备机台内部进行气体吹扫，所述装置包括至少一个导流模块以及多个管路，其中，所述导流模块与所述设备机台相连通，所述管路一端连接导流模块，另一端连接气源。
[0007]进一步的，所述吹扫装置还包括一压力表，所述压力表固定在所述管路上。
[0008]进一步的，所述吹扫装置还包括一调压阀，所述调压阀固定在所述管路上。
[0009]进一步的，所述吹扫装置还包括一手阀，所述手阀固定在所述管路上。
[0010]进一步的，所述导流模块为2个，并通过所述管路相连通。
[0011]进一步的，所述导流模块通过螺丝与所述设备机台相连通。
[0012]进一步的，所述管路通过焊接方式与所述导流模块相连通。
[0013]进一步的，所述管路与所述导流模块相连的一端还设有均流板。
[0014]进一步的，所述均流板为圆形，并设有多个均匀排列的通孔。
[0015]进一步的，所述管路是直径为1/2英寸的不锈钢管路。
[0016]与现有技术相比，本实用新型的有益效果主要体现在:在设备机台上添加导流模块和管路，管路一端与导流模块相连，另一端连接气源，由气源提供惰性气体从而通过管路和导流模块对设备机台内部进行惰性气体的吹扫，排出大气以及大气中的水汽，从而避免卤族元素与水汽发生反应生成酸，进而避免酸对设备机台的腐蚀，一方面能够提高设备机台的使用寿命，另一方面能够降低晶圆缺陷的产生。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型一实施例中吹扫装置的结构示意图；
[0018]图2为本实用新型一实施例中均流板的结构示意图。
【具体实施方式】
[0019]下面将结合示意图对本实用新型的吹扫装置进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。
[0020]为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
[0021]在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0022]请参考图1，在本实施例中提出了一种吹扫装置，用于对设备机台10内部进行气体吹扫，所述装置包括至少一个导流模块20以及多个管路21，其中，所述导流模块20与所述设备机台10相连，所述管路21 —端连接导流模块20，另一端连接气源(图未示出)。
[0023]在本实施例中，所述吹扫装置还包括一压力表30，所述压力表30固定在所述管路21上，用于测量管路21内的气体压力。所述吹扫装置还包括一调压阀40，所述调压阀40固定在所述管路21上，所述调压阀40用于调节所述管路21内气体的压力，优选控制气体压力在0.5mpa左右。所述吹扫装置还包括一手阀50，所述手阀50固定在所述管路21上，能够实现手动关闭和打开所述管路21。
[0024]在本实施例中，所述导流模块20为2个，并通过所述管路21相连通，所述导流模块20通过螺丝与所述设备机台10的上端相连通，所述管路21通过焊接方式与所述导流模块20相连通，所述管路21与所述导流模块20相连的一端还设有均流板22。
[0025]请参考图2，所述均流板22为圆形，并设有多个均匀排列的通孔23，用于使管路21内的气体均匀的流入至所述导流模块20内，从而可以均匀的流入至所述设备机台10内，实现对设备机台10内的全面吹扫。
[0026]在本实施例中，所述管路21是直径为1/2英寸的不锈钢管路，管路21 —端可以连接气源，也可以由厂务提供气体，采用的气体优选为惰性气体，并且是干燥的惰性气体，不含有水汽，从而能够避免水汽与卤族元素发生反应产生酸。
[0027]综上，在本实用新型实施例提供的吹扫装置中，在设备机台上添加导流模块和管路，管路一端与导流模块相连，另一端连接气源，由气源提供惰性气体从而通过管路和导流模块对设备机台内部进行惰性气体的吹扫，排出大气以及大气中的水汽，从而避免卤族元素与水汽发生反应生成酸，进而避免酸对设备机台的腐蚀，一方面能够提高设备机台的使用寿命，另一方面能够降低晶圆缺陷的产生。
[0028]上述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不对本实用新型起到任何限制作用。任何所属【技术领域】的技术人员，在不脱离本实用新型的技术方案的范围内，对本实用新型揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本实用新型的技术方案的内容，仍属于本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种吹扫装置，用于对设备机台内部进行气体吹扫，其特征在于，所述装置包括至少一个导流模块以及多个管路，其中，所述导流模块与所述设备机台相连通，所述管路一端连接导流模块，另一端连接气源。
2.如权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述吹扫装置还包括一压力表，所述压力表固定在所述管路上。
3.如权利要求2所述的吹扫装置，其特征在于，所述吹扫装置还包括一调压阀，所述调压阀固定在所述管路上。
4.如权利要求3所述的吹扫装置，其特征在于，所述吹扫装置还包括一手阀，所述手阀固定在所述管路上。
5.如权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述导流模块为2个，并通过所述管路相连通。
6.如权利要求5所述的吹扫装置，其特征在于，所述导流模块通过螺丝与所述设备机台相连通。
7.如权利要求6所述的吹扫装置，其特征在于，所述管路通过焊接方式与所述导流模块相连通。
8.如权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述管路与所述导流模块相连的一端还设有均流板。
9.如权利要求8所述的吹扫装置，其特征在于，所述均流板为圆形，并设有多个均匀排列的通孔。
10.如权利要求1所述的吹扫装置，其特征在于，所述管路是直径为1/2英寸的不锈钢管路。
【文档编号】H01L21/67GK203774267SQ201420149062
【公开日】2014年8月13日 申请日期:2014年3月28日 优先权日:2014年3月28日
【发明者】楼丰瑞 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司