1.一种气体封闭系统，其包括：
气体封闭装置，其包括：
限定出第一容积的打印系统封闭装置，所述打印系统封闭装置操作性地联接到环境控制系统，所述环境控制系统配置成给第一容积提供受控处理环境；
限定出第二容积的辅助封闭装置，所述辅助封闭装置操作性地联接到环境控制系统，所述环境控制系统配置成给第二容积提供受控处理环境；
其中，所述气体封闭装置具有允许在所述打印系统封闭装置与所述辅助封闭装置之间进入的第一可密封开口、以及允许从所述气体封闭装置的外部进入所述辅助封闭装置的第二可密封开口；
容置于所述打印系统封闭装置内的工业打印系统，其包括：
包括至少一个打印头装置的打印头组件，
用于支撑基底的基底支撑设备；以及
运动系统，其用于将所述打印头组件相对于所述基底进行定位；
位于所述气体封闭装置中的处理器，其中，所述处理器的位置接近所述第一可密封开口，以便使所述处理器能够执行要求在所述打印系统封闭装置与所述辅助封闭装置之间的运动的操作；以及
容置于所述辅助封闭装置中的打印头管理系统。
2.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述打印系统封闭装置的所述第一容积的受控处理环境包括保持为惰性气体环境的气体环境。
3.根据权利要求2所述的气体封闭系统，其中，所述第一容积的所述惰性气体环境使用选择自氮气、稀有气体、以及其组合的一种或多种气体来保持。
4.根据权利要求2所述的气体封闭系统，其中，第一容积的所述惰性气体环境包括分别为100 ppm或更低水平的水和氧气。
5.根据权利要求2所述的气体封闭系统，其中，第一容积的所述惰性气体环境包括分别为1 ppm或更低水平的水和氧气。
6.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述辅助封闭装置的所述第二容积在所述气体封闭装置的总容积的1%至10%之间。
7.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述处理器具有端部执行器。
8.根据权利要求7所述的气体封闭系统，其中，所述端部执行器选自刀片型端部执行器、钳子型端部执行器和夹具型端部执行器。
9.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述处理器位于限定出所述第一容积的所述打印系统封闭装置中。
10.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述处理器位于限定出所述第二容积的所述辅助封闭装置中。
11.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，限定第二容积的所述辅助封闭装置构建为所述气体封闭装置的一部段。
12.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，限定第二容积的所述辅助封闭装置是适应性受控环境封闭装置。
13.根据权利要求12所述的气体封闭系统，其中，所述适应性受控环境封闭装置能移动。
14.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，限定出第二容积的所述辅助封闭装置是转移室。
15.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述辅助封闭装置是载荷锁定室。
16.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述基底支撑设备可支撑具有在Gen 3.5与Gen 10之间的尺寸的基底。
17.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述基底支撑设备可支撑具有在Gen 5与Gen 8.5之间的尺寸的基底。
18.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述基底支撑设备是悬浮台。
19.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述环境控制系统配置成提供与气体封闭系统外部的环境不同的第二容积的受控处理环境。
20.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述环境控制系统配置成提供与打印系统封闭装置的第一容积的受控处理环境不同的辅助封闭装置的第二容积的受控处理环境。
21.根据权利要求1所述的气体封闭系统，其中，所述环境控制系统配置成提供与提供用于打印系统封闭装置的第一容积的受控处理环境相同的辅助封闭装置的第二容积的受控处理环境。