离子植入器及其操作方法、在其中进行双模式操作的系统与流程

技术特征：
1.一种用于在离子植入器中进行双模式操作的系统，包括：活动束挡块，用以在第一方向上调整离子束的束宽度，所述第一方向垂直于所述离子束的第一局部行进方向；扫描器，当在第一状态中时在垂直于所述离子束的第二局部行进方向的第二方向上扫描所述离子束并且在第二状态中未受扰动地传输所述离子束；模式选择器，用以向所述活动束挡块以及向所述扫描器发送一组信号以便一致调整所述离子束的宽度和所述扫描器的状态；以及分析器磁体，其中所述活动束挡块安置在所述分析器磁体内。2.根据权利要求1所述的用于在离子植入器中进行双模式操作的系统，其中所述活动束挡块经配置以在第一位置与第二位置之间移动，其中在所述第一位置处，所述离子束形成具有由第一束高度与第一束宽度的比率界定的第一纵横比的带状束，并且在所述第二位置处，所述离子束形成具有由第二束高度与第二束宽度的比率界定的第二纵横比的点状束，其中所述第一纵横比小于所述第二纵横比。3.根据权利要求1所述的用于在离子植入器中进行双模式操作的系统，其中所述模式选择器经配置以：向所述活动束挡块发送第一信号以具有第一孔口宽度，所述第一孔口宽度经配置以传输带状束而不阻挡所述带状束，并...