技术总结
本发明公开了在写入大型基板时运用偏移修正的多光束图案产生器以及相关方法。多光束图案产生器可包括空间光调制器(SLM)，空间光调制器具有独立可控制的反射镜以将光反射至基板上，以写入图案。图案可在写入周期中写入，其中基板移动至写入周期区域位置。通过在作用位置中的SLM的反射镜，SLM将光反射至基板上，以写入图案于基板上。通过确定在每一个写入周期中基板相对于SLM的位置与偏移，SLM的一些反射镜可数字地受控制至非作用位置或作用位置，以补偿基板的偏移。以此方式，利用偏移补偿，写入在基板上的图案可准确地写入。
技术研发人员：克里斯多弗·本彻
受保护的技术使用者：应用材料公司
文档号码：201580009495
技术研发日：2015.03.11
技术公布日：2016.11.16