1.一种电解电容器，其包含阳极体、在所述阳极体上形成的电介质层、覆盖所述电介质层的至少一部分的第1导电性高分子层、覆盖所述第1导电性高分子层的至少一部分的第2导电性高分子层、和在所述第1导电性高分子层与所述第2导电性高分子层之间形成的中间层，
所述中间层包含含有阳离子性基团的阳离子剂以及含有第1阴离子性基团和第2阴离子性基团的阴离子剂，
所述第1阴离子性基团比所述第2阴离子性基团吸电子性高，
在所述中间层中，所述第1阴离子性基团和所述第2阴离子性基团的数目的合计比所述阳离子性基团的数目多。
2.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，所述第1阴离子性基团为磺酸基、磷酸基、或膦酸基。
3.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，所述第1阴离子性基团为磺酸基。
4.根据权利要求3所述的电解电容器，其中，所述第2阴离子性基团为选自磷酸基、膦酸基、羧基和羟基中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，所述第1阴离子性基团和所述第2阴离子性基团的数目的合计为所述阳离子性基团的数目的1.1～5倍。
6.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，在所述中间层中，所述第2阴离子性基团的数目比所述第1阴离子性基团的数目多。
7.根据权利要求6所述的电解电容器，其中，所述第2阴离子性基团的数目为所述第1阴离子性基团的数目的1.5～6倍。
8.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，所述阴离子剂含有具有所述第1阴离子性基团的第1阴离子剂和具有所述第2阴离子性基团的第2阴离子剂。
9.根据权利要求8所述的电解电容器，其中，所述第1阴离子性基团为磺酸基，
所述第2阴离子性基团为选自磷酸基和膦酸基中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，所述阴离子剂含有具有所述第1阴离子性基团和所述第2阴离子性基团的第3阴离子剂。
11.根据权利要求10所述的电解电容器，其中，所述第1阴离子性基团为磺酸基，
所述第2阴离子性基团为选自磷酸基和膦酸基中的至少一种。
12.根据权利要求1所述的电解电容器，其中，所述阳离子性基团为氨基。
13.一种电解电容器的制造方法，其包括准备阳极体的第1工序，
在所述阳极体上形成电介质层的第2工序，
将形成有所述电介质层的所述阳极体用含有第1导电性高分子的第1处理液处理的第3工序，
将用所述第1处理液处理后的所述阳极体用包含含有阳离子性基团的阳离子剂以及含有第1阴离子性基团和第2阴离子性基团的阴离子剂的第2处理液处理的第4工序，以及
将用所述第2处理液处理后的所述阳极体用含有第2导电性高分子的第3处理液处理的第5工序，并且
所述第1阴离子性基团比所述第2阴离子性基团吸电子性高，
所述第1阴离子性基团和所述第2阴离子性基团的数目的合计比所述阳离子性基团的数目多。