深紫外LED及其制造方法与流程

文档序号:11289734阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及一种深紫外LED,其设计波长设为λ,其特征在于,从基板的相反侧按顺序具有Al反射电极层、极薄膜金属层以及透明p型AlGaN接触层,在所述透明p型AlGaN接触层的厚度方向的范围内具有光子晶体周期结构,并且,所述光子晶体周期结构具有光子带隙。

技术研发人员:鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;前田哲利;定昌史;上村隆一郎;长田大和;岛谷聪
受保护的技术使用者:丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
技术研发日:2015.07.29
技术公布日:2017.09.26
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