技术总结
本发明的实施例描述了包括具有间隙或空隙的栅极间隔件的器件和结构以及形成这种器件和结构的方法。根据一些实施例，该结构包括衬底、位于衬底上方的栅极堆叠件、位于衬底上方的接触件以及横向设置在栅极堆叠件与接触件之间的间隔件。间隔件包括第一电介质侧壁部分和第二电介质侧壁部分。空隙设置在第一电介质侧壁部分与第二电介质侧壁部分之间。
技术研发人员：江国诚;蔡庆威;刘继文;梁英強
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
文档号码：201610116599
技术研发日：2016.03.02
技术公布日：2016.12.21