1.一种过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，采用过渡金属硫族化合物纳米片为原料，对所述过渡金属硫族化合物纳米片的一部分区域进行保护，对所述过渡金属硫族化合物纳米片的未被保护区域进行酸处理以修复过渡金属硫族化合物纳米片的结构缺陷，在过渡金属硫族化合物纳米片的被保护区域与未被保护区域形成过渡金属硫族化合物同质结。
2.根据权利要求1所述过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
(1)将基底先后放入丙酮、乙醇、去离子水三种溶液中，在每种溶液中各超声清洗8-10分钟后，取出，氮气吹干；
(2)制备过渡金属硫族化合物纳米片；
(3)将步骤(2)制备获得的过渡金属硫族化合物纳米片转移至步骤(1)清洗后的基底上，获得带有基底的过渡金属硫族化合物纳米片；
(4)对过渡金属硫族化合物纳米片的一部分区域进行保护以使被保护区域不被酸处理影响，对所述过渡金属硫族化合物纳米片的未被保护区域进行酸处理，制备获得过渡金属硫族化合物同质结。
3.根据权利要求2所述过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，步骤(4)具体为：在所述过渡金属硫族化合物纳米片的一部分区域的上方搭建保护层；将步骤(3)带有基底的过渡金属硫族化合物纳米片浸泡在酸溶液中20-30min，制备获得过渡金属硫族化合物同质结。
4.根据权利要求2所述过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，步骤(4)具体为：将所述过渡金属硫族化合物纳米片的一部分区域进行悬空保护，将过渡金属硫族化合物纳米片未被悬空的区域浸泡在酸溶液中20-30min，然后用去离子水清洗，制备获得过渡金属硫族化合物同质结。
5.根据权利要求2所述过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，步骤(4)具体为：将所述过渡金属硫族化合物纳米片的一部分区域与固体酸接触以进行酸处理，过渡金属硫族化合物纳米片的未与固体酸接触的部分为保护区域，制备获得过渡金属硫族化合物同质结。
6.根据权利要求2所述过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中，制备获得的过渡金属硫族化合物纳米片为二硫化钼MoS2纳米片、二硒化钼MoSe2纳米片、二硫化钨WS2纳米片、或二硒化钨WSe2纳米片，所述过渡金属硫族化合物纳米片的厚度为0.01nm-100nm。
7.根据权利要求2所述过渡金属硫族化合物同质结的制备方法，其特征在于，在步骤(4)酸处理中，使用的酸为非氧化性酸，具体为双三氟甲基磺酰亚胺、卤酸、聚苯乙烯磺酸、甲酸或乙酸。
8.一种过渡金属硫族化合物同质结，其特征在于，所述同质结包括一基底、一过渡金属硫族化合物纳米片，所述过渡金属硫族化合物纳米片包括被保护区域与未被保护区域，所述被保护区域中的过渡金属硫族化合物纳米片未经过酸处理，所述未被保护区域中的过渡金属硫族化合物纳米片经过酸处理。
9.一种过渡金属硫族化合物同质结二极管，所述同质结二极管包括权利要求8所述同质结，其特征在于，在所述同质结二极管中，在所述同质结的两侧分别设置有一个电极。