1.一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：包括金属真空腔室(11)、若干个依次同轴设置、直径不同的石英介质桶，最上端的所述石英介质桶上端密封，最下端的所述石英介质桶和所述金属真空腔室(11)连通，相邻两所述石英介质桶之间相互连通，每个石英介质桶外均缠绕有射频线圈，每个石英介质桶及射频线圈外均设置有屏蔽室，每相邻两石英介质桶之间相互屏蔽隔离，所述每个石英介质桶上均设置有进气口，所述金属真空腔室(11)底部设置出气口(111)。
2.根据权利要求1所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述石英介质桶为两个，下方的石英介质桶(12)顶部固定有第一金属盖板(14)，上方的石英介质桶(13)固定于所述第一金属盖板(14)上，所述第一金属盖板(14)和上方的石英介质桶(13)、下方的石英介质桶(12)之间分别通过密封法兰相互密封，下方的石英介质桶(12)上的进气口开在所述第一金属盖板(14)上。
3.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：上方的石英介质桶(13)顶部通过第二金属盖板(17)密封，上方的石英介质桶(13)上的进气口开在所述第二金属盖板(17)的中心，所述第二金属盖板(17)和上方的石英介质桶(13)之间通过密封法兰相互密封。
4.根据权利要求3所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述下方的石英介质桶(12)底部固定有第三金属盖板(15)，所述下方的石英介质桶(12)和所述第三金属盖板(15)之间通过密封法兰相互密封。
5.根据权利要求1所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述金属真空腔室(11)顶部和所述第三金属盖板(15)之间相互密封。
6.根据权利要求5所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述第三金属盖板(15)上设置有连通所述金属真空腔室(11)内腔的进气口。
7.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述金属真空腔室(11)侧壁上开有若干个观察窗(113)，每个观察窗(113)上分别设置有一连接法兰。
8.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述下方的石英介质桶(12)和上方的石英介质桶(13)之间通过金属屏蔽隔层(25)相互屏蔽隔离。
9.根据权利要求2所述的提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室，其特征在于：所述下方的石英介质桶(12)内径为30-60cm、高度为10-30cm、壁厚1-2cm，所述上方的石英介质桶(13)内径为3-10cm、高度为10-20cm、壁厚0.5-1cm。