一种高透光率金属网格柔性导电薄膜及其制备工艺的制作方法

文档序号:12612790阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,包括柔性基底层,以及其一侧设置的金属网格层和另一侧设置的UV固化纳米结构层。

2.根据权利要求1所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,所述的柔性基底层为透明、可弯折的聚合物材料,包括常见的PET、PEN、PI、PPS、PC、PES、PEI、PAR或PCO柔性聚合物材料。

3.根据权利要求1所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,所述的金属网格层为:在柔性基底层表面辊压直线交叉槽,然后将银浆涂布到直线交叉槽中,并进行烘烤、清洗得到的导电网格层。

4.根据权利要求3所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,所述的直线交叉槽由两组平行的直线槽按夹角10°~90°交叉构成,其中,各直线槽的槽宽为50nm~10μm,相邻的直线槽的距离大小为100nm~500μm。

5.根据权利要求1所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,所述的UV固化纳米结构层为具有紫外固化功能的透明胶水,压印到柔性基底层上之后通过紫外光固化形成的具有提高透光率的纳米结构阵列。

6.根据权利要求5所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,所述的UV固化纳米结构层为提高透光率的纳米结构,该纳米结构为圆锥结构、四棱锥结构、半球状结构或半椭球状结构形成的具有一定高度和距离的纳米阵列结构。

7.根据权利要求6所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜,其特征在于,所述的纳米阵列结构的直径为30nm~800nm,结构高度为50nm~900nm,结构距离为50nm~2000nm。

8.一种如权利要求1所述的高透光率金属网格柔性导电薄膜的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:

1)准备好柔性基底、金属网格直线槽模具、UV固化纳米结构层模具;

2)将金属网格直线槽模具、UV固化纳米结构层模具分别粘紧在相应位置的成型辊上;

3)柔性聚合物分别经过:放卷-张紧力调节辊-压力辊-金属网格直线槽成型辊-保形辊-银浆自动刮涂-烘干箱-压力辊-支承辊-UV胶涂布-UV固化纳米结构层成型辊-紫外光固化-脱模-保形辊-支承辊-收卷得到正面具有金属网格层、背面具有纳米阵列结构层的薄膜。

9.根据权利要求8所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜的制备工艺,其特征在于,所述的金属网格直线槽模具为采用光刻、软刻蚀或纳米压印技术制备得到的纳米模具;

所述的UV固化纳米结构层模具为阳极氧化铝法(AAO)得到的具有纳米多孔结构的阳极氧化铝模具。

10.根据权利要求8所述的一种高透光率金属网格柔性导电薄膜的制备工艺,其特征在于,所述的金属网格直线槽成型辊和UV固化纳米结构层成型辊的滚压加工温度为20~80℃;所述的收卷的速度为0~50m/min;所述的压力辊的压力值为0.05~9kg/cm2

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