本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体涉及一种集中沥水型单晶硅硅片。
背景技术：
硅材料，是重要的半导体材料，化学元素符号Si，电子工业上使用的硅应具有高纯度和优良的电学和机械等性能，硅是产量最大、应用最广的半导体材料，它的产量和用量标志着一个国家的电子工业水平，单晶硅在太阳能电池中的应用，高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在光伏技术和微小型半导体逆变器技术飞速发展的今天，利用硅单晶所生产的太阳能电池可以直接把太阳能转化为光能，实现了迈向绿色能源革命的开始。
硅片是硅材料存在的一种物理形式，在正常的应用中，硅片，是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力，科学技术的发展不断推动着半导体的发展，自动化和计算机等技术发展，使硅片这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度，然而硅片在加工时，不同的工艺节点都会使得硅片加工出现瑕疵。
硅片在实际的使用中，在某些场合会涉及到户外使用，因此硅片会遇到雨水干扰，这样整体硅片上的雨水会分散排放，影响实际的使用，同时硅片硅片若面积过大，雨水排放不及时，还会导致硅片负载过大，增加了危险性。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种结构简单，设计合理，便于沥水的集中沥水型单晶硅硅片。
本实用新型所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现：
一种集中沥水型单晶硅硅片，主体为一硅片本体，其特征在于：所述的硅片本体上设置有若干凹形流道，所述的凹形流道的端部设置有弧形流道，所述的弧形流道一端延伸于硅片本体的底部边缘处。
所述的凹形流道设置为弯曲的流线型，方便了水流的积攒和排放，更加均衡方便。
所述的弧形流道设置有两组，且均位于凹形流道的两端部，两组弧形流道同时使用，排水更加便捷。
本实用新型在使用时：当雨水直接落在硅片表面上，由于凹形流道的原因，水流会集中于凹形流道内，然后凹形流道内的水会排向弧形流道后，由硅片侧边排出。
本实用新型的有益效果是：本实用新型设计新颖，结构简单，通过在硅片本身进行流道设置，方便了雨水的集中，进行集中排出，避免雨水散落于硅片上造成损伤，效果显著，便于推广及使用。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
如图1所示，一种集中沥水型单晶硅硅片，主体为一硅片本体1，硅片本体1上设置有若干凹形流道2，凹形流道2的端部设置有弧形流道3，弧形流道3一端延伸于硅片本体1的底部边缘处，凹形流道2设置为弯曲的流线型，方便了水流的积攒和排放，更加均衡方便，弧形流道3设置有两组，且均位于凹形流道2的两端部，两组弧形流道3同时使用，排水更加便捷。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。