晶体管的制作方法

文档序号:12191528阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种晶体管,其特征在于,所述晶体管包括栅极(5)、源极(3)、漏极(4)、绝缘层(1)和沟道层(2);

所述栅极(5)和所述沟道层(2)分别位于所述绝缘层(1)的两侧,所述沟道层(2)仅为一个过渡金属硫族化合物层;

所述源极(3)和所述漏极(4)分别位于所述沟道层(2)表面上的两端。

2.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述源极(3)与所述漏极(4)的距离为20nm。

3.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述过渡金属硫族化合物层为WSe2

4.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述过渡金属硫族化合物层为MoS2

5.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,所述绝缘层(1)为SiO2

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1