半导体装置的制作方法

文档序号:15308481发布日期:2018-08-31 21:24阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
在方向偏置施加状态下防止半导体开关开启。包括:半导体开关SW,具有集电极C、发射极E、以及栅电极G;齐纳二极管5A,其一端与集电极C电气连接,其另一端与栅电极G电气连接,并且为N型半导体层与P型半导体层交互地相邻配置的结构;以及齐纳二极管5B,其一端与栅电极G电气连接,其另一端与发射极E电气连接,并且为N型半导体层与P型半导体层交互地相邻配置的结构,其中,齐纳二极管5A以及齐纳二极管5B被构成为:在反向偏置施加状态下,栅电极G的电压不会上升至半导体开关SW的开启阀值电压。

技术研发人员:小谷凉平;松原寿树;石塚信隆;三川雅人;押野浩
受保护的技术使用者:新电元工业株式会社
技术研发日:2016.12.22
技术公布日:2018.08.31
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