一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片的制作方法

文档序号:14349363阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种高增益紫外至近红外InGaAs探测器芯片,在其磷化铟(InP)衬底之上结构依次为:InP接触层、铟镓砷(InGaAs)吸收层、氧化硅(SiO2)介质层、源极金属电极、石墨烯层、漏极金属电极以及栅极金属电极,如附图所示。本发明的优点在于:一方面石墨烯展现良好的半金属特性,与InGaAs层接触能够形成肖特基光电二极管,实现光探测;另一方面石墨烯无禁带宽度且其光学透过性极好,能够拓宽该新型InGaAs探测器光谱响应至近紫外,同时能够增加InGaAs层的光吸收;此外,石墨烯具有极高的迁移率和极快的载流子传输特性,使得该探测器对光生载流子的注入拥有极高的量子增益特性。

技术研发人员:曹高奇;邵秀梅;李雪;杨波;邓双燕;程吉凤;于一臻;龚海梅
受保护的技术使用者:中国科学院上海技术物理研究所
技术研发日:2017.12.06
技术公布日:2018.05.04
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