一种快恢复二极管的制作方法

文档序号:11320152阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种快恢复二极管,其特征在于,包括框架本体(1)、设置在所述框架本体(1)上的至少一个芯片(2)、带状导体(3)和引脚(4),其中:

所述带状导体与所述芯片(2)和引脚(4)对应设置,所述带状导体(3)的两端的焊接面分别与所述芯片(2)和所述引脚(4)焊接,且所述焊接面设置在所述带状导体(3)两端与所述芯片(2)和引脚(4)接触面积较大的侧面。

2.根据权利要求1所述的快恢复二极管,其特征在于,所述带状导体(3)设置为长方体结构。

3.根据权利要求2所述的快恢复二极管,其特征在于,所述带状导体(3)的中间设置为圆柱形结构、两端设置为长方体结构。

4.根据权利要求2所述的快恢复二极管,其特征在于,所述带状导体(3)设置为铜或铝结构。

5.根据权利要求1所述的快恢复二极管,其特征在于,所述框架本体(1)包括依次设置的碳化硅衬底、介电材料层和耐火金属层。

6.根据权利要求1所述的快恢复二极管,其特征在于,所述框架本体(1)的表面还设置保护膜。

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