1.一种硅片清洁装置，其特征在于：包括转盘(1)、传送机构、限位机构、顶板机构以及清洁机构，所述转盘(1)上沿周向设有上料工位(11)、印刷工位(12)、下料工位(13)和清洁工位(14)，且每个工位上设有一个工作台(3)，四个所述工作台(3)沿所述转盘(1)周向均匀分布，所述工作台(3)边长与所述硅片(2)边长相同，所述工作台(3)上设有多个吸气孔(3-1)；
所述限位机构包括矩形限位框(4)，所述限位框(4)设于所述上料工位(11)的工作台(3)上方，所述限位框(4)下端面由内框向外框方向逐渐向下倾斜，所述限位框(4)内框边长小于所述工作台(3)边长，所述限位框(4)外框边长大于所述工作台(3)边长，所述限位框(4)与所述上料工位(11)的工作台(3)同轴，所述限位框(4)上端设有用于控制所述限位框(4)靠近或远离所述上料工位(11)的工作台(3)的第一驱动装置；
所述顶板机构包括依次连接的弯管接头(5)和支撑块(6)，所述弯管接头(5)为具有四分之一圆的弧形管状结构，所述工作台(3)底部设有所述弯管接头(5)，所述弯管接头(5)一端与所述工作台(3)底端固定连接，所述弯管接头(5)另一端与所述支撑块(6)固定连接，所述支撑块(6)为外径与所述弯管接头(5)外径相同的四分之一圆形结构，所述支撑块(6)圆心与所述转盘(1)底端铰接，所述支撑块(6)上设有用于驱动所述支撑块(6)围绕圆心转动的第二驱动装置；
所述清洁机构包括风刀(10)、毛刷(9)以及用于固定风刀(10)和毛刷(9)的支架(8)，所述支架(8)竖直设于所述上料工位(11)的工作台(3)上方且位于靠近所述转盘(1)轴心的一侧，所述支架(8)上设有驱动所述支架(8)沿竖直方向上下移动的第三驱动装置。
2.如权利要求1所述的硅片清洁装置，其特征在于：所述传送机构包括用于将硅片(2)移至所述上料工位(11)的工作台(3)上的吸盘。