一种阵列基板及显示装置的制作方法

文档序号:14004809阅读:来源:国知局
一种阵列基板及显示装置的制作方法

技术特征:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板上设有待修复像素单元以及与所述待修复像素单元相邻排布的相邻像素单元,所述待修复像素单元设有断路修复结构,所述断路修复结构包括与所述相邻像素单元中的驱动用薄膜晶体管的漏极连接的修复线;

所述修复线与所述待修复像素单元中的OLED阳极绝缘,且所述修复线在所述衬底基板的正投影,与所述待修复像素单元中的OLED阳极在所述衬底基板的正投影具有重合区;断路修复点位于所述重合区。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述相邻像素单元为所述待修复像素单元的同列相邻行像素单元;所述修复线为所述同列相邻行像素单元中的驱动用薄膜晶体管的漏极延伸线。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述漏极延伸线在所述衬底基板的正投影,与所述待修复像素单元中的OLED阳极的阳极延伸线在所述衬底基板的正投影,具有重合区。

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述漏极延伸线面向所述阳极延伸线的表面层叠设置钝化层和平坦化层;

所述平坦化层对应所述断路修复点的区域设置凹槽,所述阳极延伸线覆盖所述凹槽。

5.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,同一行的所述待修复像素单元对应同一条栅线;

所述修复线在所述衬底基板的正投影,与对应栅线在所述衬底基板的正投影交叉。

6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述相邻像素单元为所述待修复像素单元的同行相邻列像素单元;所述修复线与所述同行相邻列像素单元中的所述驱动用薄膜晶体管的栅极同层绝缘设置,且所述修复线与所述同行相邻列像素单元中的所述驱动用薄膜晶体管的漏极之间设有层间绝缘层,所述漏极通过设在所述层间绝缘层的过孔与所述修复线连接。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,同一列的所述待修复像素单元对应同一条数据线;

所述修复线在所述衬底基板的正投影,与对应数据线在所述衬底基板的正投影交叉。

8.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,

所述修复线与所述待修复像素单元中的OLED阳极之间层叠设置所述层间绝缘层、钝化层和平坦化层;

所述平坦化层对应所述断路修复点的区域设有凹槽,所述待修复像素单元中的OLED阳极覆盖所述凹槽;或

所述平坦化层和所述钝化层对应所述断路修复点的区域均设有凹槽,所述待修复像素单元中的OLED阳极覆盖所述凹槽。

9.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述待修复像素单元中的OLED阳极对应所述断路修复点的部分覆盖有像素界定层。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。

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