本实用新型涉及二极管生产技术领域，具体涉及二极管芯片酸洗设备。
背景技术：
二极管，是电子元件当中，一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过。二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过(称为顺向偏压)，反向时阻断(称为逆向偏压)。因此，二极管可以想成电子版的逆止阀。
在现有的轴向二极管的生产工艺，其工艺流程为：引线排向—芯片筛选—芯片装填—焊接—酸洗—上胶—烘烤—塑封—后固化—电镀—印字测试—外检—包装。但是在酸洗时，需要酸的浓度和温度恒定，常规的方法是将一定浓度和温度的酸输送到酸洗箱内，通过连接酸洗箱上的喷头进行喷洒酸洗，所述酸洗箱外表面设有保温夹层，且夹层内设有保温水，以达到对酸洗箱内的酸进行保温，但是采用上述保温方式的效果并不好，且酸对酸洗箱具有腐蚀作用，容易导致夹层内的保温水进入到酸洗箱内导致酸的浓度被稀释，因此，由于酸的浓度被稀释且温度不稳定，进而导致二极管的酸洗达不到要求。
技术实现要素：
针对上述不足，本实用新型的目的在于，提供一种二极管芯片酸洗设备，其通过温控装置的设置，可实时对酸洗箱内进行温度监测和制冷制热，保持酸洗箱内酸的温度恒定，保证了二极管芯片酸洗质量。
为实现上述目的，本实用新型所提供的技术方案是：
一种二极管芯片酸洗设备，包括工作仓、酸洗箱、酸洗盘、温控装置、喷头和控制器。所述酸洗箱和酸洗盘分布设置于所述工作仓内，且所述酸洗盘通过设置于一侧的气缸推动，所述待酸洗二极管芯片装设于所述酸洗盘上，所述温控装置包括制冷制热盘管、压缩外机和温感器，所述制冷制热盘管装设于所述酸洗箱内且与设置于工作仓外的压缩外机连接，所述温感器设置于所述酸洗箱内。所述喷头设置于所述酸洗盘的一侧且通过连接管连接于所述酸洗箱上，所述连接管上设有电磁阀。所述控制器装设于所述工作仓上且与所述温控装置和电磁阀电性连接控制。
优选的，所述酸洗箱的外表面设有保温夹层，且保温夹层内设有保温材料。
优选的，所述连接管上设有多个上述喷头，且喷头上设有开关，所述喷头的喷口朝所述酸洗盘设置。
优选的，所述工作仓内于所述酸洗盘的一侧设有支撑柱，所述电磁阀和连接管分别设于支撑柱上。
优选的，所述工作仓的前端设有滑动玻璃门，当对二极管芯片进行冲洗时可起到防护作用，防止酸飞溅。
优选的，所述酸洗盘的下方设有回收池，用于对二极管芯片冲洗的酸进行回收。
优选的，所述酸洗盘相互连接且呈镂空结构。
优选的，所述酸洗箱采用PP塑料板。
优选的，所述工作仓内于所述酸洗盘的一侧向上凸设有安装台，所述酸洗箱装设于所述安装台上。
本实用新型的有益效果为：
本实用新型二极管芯片酸洗设备通过制冷制热盘管装设于所述酸洗箱内且与设置于工作仓外的压缩外机连接，并通过压缩外机热交换实现酸洗箱内的制冷和制热，保持酸洗箱内酸的温度在一定范围内恒定，且所述温感器设置于所述酸洗箱内，用于实时监测酸洗箱内的温度变化，因此，本实用新型采用上述结构设计保证了酸洗箱内酸的浓度和温度的恒定，提高了二极管芯片的酸洗质量。
下面结合附图与实施例，对本实用新型进一步说明。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型二极管芯片酸洗设备的结构示意图；
图2是图1所示二极管芯片酸洗设备装的酸洗箱的剖视图。
图中各附图标记说明如下。
工作仓—1、酸洗箱—2、保温夹层—2a、酸洗盘—3、温控装置—4、制冷制热盘管—4a、压缩外机—4b、温感器—4c、喷头—5、开关—5a、控制器—6、连接管—7、电磁阀—8、支撑柱—9、滑动玻璃门—10、回收池—11、安装台—12。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详予说明。
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
请参阅图1和图2，一种二极管芯片酸洗设备，包括工作仓1、酸洗箱2、酸洗盘3、温控装置4、喷头5和控制器6。所述酸洗箱2和酸洗盘3分布设置于所述工作仓1内，且所述酸洗盘3通过设置于一侧的气缸推动，所述待酸洗二极管芯片装设于所述酸洗盘3上，且所述酸洗箱2和酸洗盘3呈相邻设置。所述温控装置4包括制冷制热盘管4a、压缩外机4b和温感器4c，所述制冷制热盘管4a装设于所述酸洗箱2内且与设置于工作仓1外的压缩外机4b连接，本实用新型通过压缩外机4b热交换实现酸洗箱2内的制冷和制热，保持酸洗箱2内酸的温度在一定范围内恒定。所述温感器4c设置于所述酸洗箱2内，用于实时监测酸洗箱2内的温度变化。所述喷头5设置于所述酸洗盘3的一侧且通过连接管7连接于所述酸洗箱2上，所述连接管7上设有电磁阀8，用于控制所述酸的流量大小。所述控制器6装设于所述工作仓1上且与所述温控装置4和电磁阀8电性连接控制。
进一步的，所述酸洗箱2的外表面设有保温夹层2a，且保温夹层2a内设有保温材料，可防止酸洗箱2散热过快。
进一步的，所述连接管7上设有多个上述喷头5，可同时实现多个产品的酸洗，且喷头5上设有开关5a，所述喷头5的喷口朝所述酸洗盘3设置。
在本实施例中，所述工作仓1内于所述酸洗盘3的一侧设有支撑柱9，所述电磁阀8和连接管7分别设于支撑柱9上。
进一步的，所述工作仓1的前端设有滑动玻璃门10，当对二极管芯片进行冲洗时可起到防护作用，防止酸飞溅。
在本实施例中，所述酸洗盘3的下方设有回收池11，用于对二极管芯片冲洗的酸进行回收。
在本实施例中，所述酸洗盘3相互连接呈镂空结构。
在本实施例中，所述酸洗箱2采用PP塑料板。
具体的，所述工作仓1内于所述酸洗盘3的一侧向上凸设有安装台12，所述酸洗箱2装设于所述安装台12上。
综上所述，本实用新型二极管芯片酸洗设备通过制冷制热盘管4a装设于所述酸洗箱2内且与设置于工作仓1外的压缩外机4b连接，并通过压缩外机 4b热交换实现酸洗箱2内的制冷和制热，保持酸洗箱2内酸的温度在一定范围内恒定，且所述温感器4c设置于所述酸洗箱2内，用于实时监测酸洗箱2内的温度变化，因此，本实用新型采用上述结构设计保证了酸洗箱2内酸的浓度和温度的恒定，提高了二极管芯片的酸洗质量。
根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制，采用与其相同或相似的其它装置，均在本实用新型保护范围内。