1.一种用于提供衬底检验的方法，其包括：
接收衬底的多个检验图像，其中所述多个检验图像包含来自检验系统的两个或更多个通道的两个或更多个图像；
基于来自第一通道的第一图像来产生第一噪声图像，及基于来自额外通道的额外图像来产生额外噪声图像；
基于所述第一噪声图像来产生第一信噪比图像，及基于所述额外噪声图像来产生额外信噪比图像；
识别所述第一信噪比图像中的一或多个第一像素候选者及所述额外信噪比图像中的一或多个额外像素候选者；
基于所述一或多个经识别第一像素候选者及所述一或多个经识别额外像素候选者，在共同像素候选位点处，将来自所述第一信噪比图像的图像数据与来自所述额外信噪比图像的图像数据组合以形成组合图像；及
使用所述组合图像来检测所述衬底上的缺陷。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述检验系统包括：
光学检验系统或电子束检验系统中的至少一者。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一通道与第一检验系统相关联，且所述额外通道与额外检验系统相关联。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一通道及所述额外通道与单个检验系统相关联。
5.根据权利要求1所述的方法，其中从来自所述第一通道的所述第一图像产生第一噪声图像，及从来自所述额外通道的所述额外图像产生额外噪声图像包括：
从与中位强度曲线相关联的噪声统计，计算第一噪声图像及第二噪声图像。
6.根据权利要求1所述的方法，其中识别所述第一信噪比图像中的一或多个第一像素候选者及所述额外信噪比图像中的一或多个额外像素候选者包括：
将图像滤波过程、数据变换过程或噪声统计分析过程中的至少一者应用于所述第一信噪比图像或所述额外信噪比图像中的至少一者。
7.根据权利要求1的方法，其中识别所述第一信噪比图像中的一或多个第一像素候选者及所述额外信噪比图像中的一或多个额外像素候选者包括：
将阈值应用于所述第一信噪比图像或所述额外信噪比图像中的至少一者。
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述组合图像具有至少比来自所述检验系统的所述第一通道的所述第一图像或来自所述检验系统的所述额外通道的所述额外图像高的信噪比。
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述组合图像具有至少比来自所述检验系统的所述第一通道的所述第一图像或来自所述检验系统的所述额外通道的所述额外图像低的噪声。
10.根据权利要求1所述的方法，其中所述检验系统包括：
暗场检验系统或明场检验系统中的至少一者。
11.根据权利要求1所述的方法，其中所述衬底包括：
晶片。
12.一种检验设备，其包括：
检验系统，其用于从衬底获取一组检验结果；及
控制器，其经通信地耦合到所述检验系统，所述控制器包含用于执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器，所述组程序指令经配置以引起所述一或多个处理器：
接收衬底的多个检验结果，其中所述多个检验结果包含来自所述检验系统的第一通道的第一图像及来自所述检验系统的额外通道的至少一额外图像；
基于来自所述第一通道的所述第一图像来产生第一噪声图像，及基于来自所述额外通道的所述额外图像来产生额外噪声图像；
基于所述第一噪声图像来产生第一信噪比图像，及基于所述额外噪声图像来产生额外信噪比图像；
识别所述第一信噪比图像中的一或多个第一像素候选者及所述额外信噪比图像中的一或多个额外像素候选者；
基于所述一或多个经识别第一像素候选者及所述一或多个经识别额外像素候选者，在共同像素候选位点处，将来自所述第一信噪比图像的图像数据与来自所述额外信噪比图像的图像数据组合以形成组合图像；及
使用所述组合图像来检测所述衬底上的缺陷。
13.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述检验系统包括：
光学检验系统或电子束检验系统中的至少一者。
14.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述第一通道与第一检验系统相关联，且所述额外通道与额外检验系统相关联。
15.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述第一通道及所述额外通道与单个检验系统相关联。
16.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述一或多个处理器经配置以从来自所述第一通道的所述第一图像产生第一噪声图像，及从来自所述额外通道的所述额外图像产生额外噪声图像包括：
从与中位强度曲线相关联的噪声统计计算第一噪声图像及第二噪声图像。
17.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述一或多个处理器经配置以将图像滤波过程、数据变换过程或噪声统计分析过程中的至少一者应用于所述第一信噪比图像或所述额外信噪比图像中的至少一者。
18.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述一或多个处理器经配置以将阈值应用于所述第一信噪比图像或所述额外信噪比图像中的至少一者。
19.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述组合图像具有至少比来自所述检验系统的所述第一通道的所述第一图像或来自所述检验系统的所述额外通道的所述额外图像高的信噪比。
20.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述组合图像具有至少比来自所述检验系统的所述第一通道的所述第一图像或来自所述检验系统的所述额外通道的所述额外图像低的噪声。
21.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述检验系统包括：
暗场检验系统或明场检验系统中的至少一者。
22.根据权利要求12所述的检验设备，其中所述衬底包括：
晶片。