技术总结
本文中公开的技术提供了用于准确地增加特征部密度以创建高分辨率特征部并且还在亚分辨率特征部的间距上进行切割的方法和制造结构。技术包括使用具有不同蚀刻特性的多种材料来选择性地蚀刻特征部并在指定的位置创建切口或块。多线层由提供不同蚀刻特性的三种或更多种不同的材料形成。使用包括交织蚀刻掩模的蚀刻掩模用于选择性地蚀刻选定的被曝光材料内的切口。然后可以对各种结构进行切割和形成。可以在记忆层中记录形成结构和切口，该记忆层也可以用作蚀刻掩模。
技术研发人员：姜浩英;安东·德维利耶
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2017.01.26
技术公布日：2018.10.23