1.一种图形化方法，其特征在于，包括：
在基底上制作至少一凸起结构，所述凸起结构的位置与需要图形化的区域对应；
在所述凸起结构上形成一膜层；
采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化。
2.根据权利要求1所述的图形化方法，其特征在于，在所述基底上制作至少两邻接的凸起结构，相邻的所述凸起结构的高度不同；
沿平行于所述基底的方向，所述凸起结构的宽度小于或等于所述纳米压印模板的宽度。
3.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，沿垂直于所述基底的方向，高度最小的所述凸起结构的高度，与所述纳米压印模板的下压高度相等。
4.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，沿垂直于所述基底的方向，相邻的所述凸起结构的高度差，不小于所述纳米压印模板的下压深度。
5.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，所述采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化，包括：
按照所述凸起结构的高度递增的顺序，采用纳米压印模板依次对所述凸起结构上方的所述膜层进行图形化。
6.根据权利要求5所述的图形化方法，其特征在于，所述采用纳米压印模板对所述膜层进行图形化，还包括：
按照所述凸起结构的高度递增的顺序，依次对完成图形化的膜层进行遮挡。
7.根据权利要求1-6任一项所述的图形化方法，其特征在于，在基底上制作凸起结构，包括：
采用构图工艺在所述基底上制作凸起结构。
8.根据权利要求7所述的图形化方法，其特征在于，所述凸起结构的材料包括有机树脂，或无机透明材料。
9.根据权利要求8所述的图形化方法，其特征在于，所述无机透明材料包括氮化硅或氧化硅。
10.根据权利要求1所述的图形化方法，其特征在于，所述在所述凸起结构上形成一膜层，包括：
采用构图工艺在所述凸起结构上形成一金属层。