OLED显示装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种oled显示装置。

背景技术：

目前的显示领域中，有机发光二极管(organiclight-emittingdiode,oled)因具有高效率、制备工艺简单、优良的特性等优点具有广阔的前景。现有技术的oled显示装置中的发光材料层，通过精密金属掩模版，形成子像素大小的膜图案，红色发光材料层图案、绿色材料发光层图案、蓝色材料发光层图案并置沉积的像素限定层凹形部位内。现有的oled显示装置中的像素限定层为梯形结构，使得位于像素限定层上的发光薄膜图案层发出的红色光线、绿色光线以及蓝色光线垂直于屏幕发射，造成屏幕的亮度视角限制和屏幕色偏现象。

综上所述，现有的oled显示装置，由于屏幕上的发光像素阵列为平面型，使发光薄膜图案层发出的光线垂直于屏幕，进一步导致了屏幕存在视角限制和屏幕色偏现象。

技术实现要素：

本发明提供一种oled显示装置，能够使发光薄膜图案层发出的光线在多个方向上出射，以解决现有的oled显示装置，由于屏幕上的发光像素阵列为平面型，使发光薄膜图案层发出的光线垂直于屏幕，进一步导致了屏幕存在视角限制的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种oled显示装置，包括：基板、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、栅极金属层、第二栅极绝缘层、源漏极金属层、钝化层、平坦化层、有机光阻层、阳极金属层、像素限定层、oled像素层以及薄膜封装层；

其中，所述第二栅极绝缘层上形成有第一通孔，所述源漏极金属层通过所述第一通孔与所述有源层连通；所述钝化层以及所述平坦化层上形成有第二通孔并暴露出所述源漏极金属层，所述阳极金属层通过所述第二通孔与所述源漏极金属层连通；所述有机光阻层位于所述平坦化层的表面，所述有机光阻层设置为隆起状结构。

根据本发明一优选实施例，所述隆起状结构包括直线部分以及斜坡部分，所述直线部分位于所述隆起结构的顶边，所述斜坡部分位于所述隆起结构的两侧边。

根据本发明一优选实施例，所述隆起状结构为单层膜结构。

根据本发明一优选实施例，所述隆起状结构为双层膜结构。

根据本发明一优选实施例，所述平坦化层的表面设置有柱状突起，所述柱状突起覆盖相邻的两所述有机光阻层的边缘。

根据本发明一优选实施例，所述柱状突起的材质与所述像素限定层的材质相同，所述柱状突起的高度大于所述像素限定层的高度。

根据本发明一优选实施例，所述柱状突起的高度范围为1～10um。

根据本发明一优选实施例，所述oled像素层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属电极层以及有机覆盖层等，不限于上述膜层。

根据本发明一优选实施例，所述发光层还包括红色发光层、绿色发光层以及蓝色发光层。

根据本发明一优选实施例，所述发光层为白色发光层，所述薄膜封装层上设置有间隔间隙，所述间隔间隙上设置有滤色层。

本发明的有益效果为：本发明所提供的oled显示装置，在平坦化层上设置一层隆起状结构的有机光阻层，使有机光阻层之上的发光薄膜图案层发出的光线在多个方向上出射，进一步使出射光线更加均匀，更进一步改善了显示屏幕的视角。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明oled显示装置结构示意图。

图2为本发明oled显示装置的有机光阻层的隆起结构方案一示意图。

图3为本发明oled显示装置的有机光阻层的隆起结构方案二示意图。

图4为本发明oled显示装置方案一局部放大示意图。

图5为本发明oled显示装置方案二局部放大示意图。

图6为本发明oled显示装置方案三局部放大示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明针对现有的oled显示装置，由于屏幕上的发光像素阵列为平面型，使发光薄膜图案层发出的光线垂直于屏幕，进一步导致了屏幕存在视角限制的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。

如图1所示，为本发明oled显示装置结构示意图。其中，本发明提供一种oled显示装置，包括：基板10、缓冲层20、有源层31、第一栅极绝缘层30、栅极金属层41、第二栅极绝缘层40、源漏极金属层51、钝化层50、平坦化层60、有机光阻层71、阳极金属层72、像素限定层80、oled像素层73以及薄膜封装层90；

其中，所述第二栅极绝缘层40上形成有第一通孔42，所述源漏极金属层51通过所述第一通孔42与所述有源层31连通；所述钝化层50以及所述平坦化层60上形成有第二通孔52并暴露出所述源漏极金属层51，所述阳极金属层72通过所述第二通孔52与所述源漏极金属层51连通；所述有机光阻层71位于所述平坦化层60的表面，所述有机光阻层71设置为隆起状结构。

具体地，所述基板10的材料为聚酰亚胺或玻璃；所述缓冲层20的材料为氮化硅或氧化硅其中的一种或两种；所述第一栅极绝缘层30的材料为氮化硅或氧化硅，所述第二栅极绝缘层40的材料与所述第一栅极绝缘层的材料相同；所述源漏极金属层51的材料均为钛或钛铝合金；所述栅极金属层41的材料为钼；所述有源层31的材料为金属氧化物，包括氧化铟镓锌或氧化铟锌；所述钝化层50的材料为氧化硅、氮化硅、氮硅化合物中的两种或多种的任意组合所构成的复合层结构，优选为sio/sinx叠层；所述平坦化层60为有机光阻层。

具体地，所述有机光阻层71是在所述平坦化层60的表面，采用采用旋转涂布或者缝隙涂布法等涂布光阻溶液，光阻涂布后经历一定温度和时间的烘烤，然后使用光罩曝光，曝光之后进行显影和烘干后形成具有隆起状结构的图形。

具体地，所述阳极金属层72铺设在所述有机光阻层71上，所以所述有机光阻层71的形状对所述阳极金属层72的影响比较大，由于所述oled像素层73位于所述阳极金属层72表面，所以所述有机光阻层71的形状进而影响所述oled像素层73的像素阵列；所述阳极金属层72是通过物理气相沉积(pvd)的方法制作氧化铟锡膜/金属膜/氧化铟锡膜的三层结构。

具体地，在所述阳极金属层72之上涂布光阻层，再次经历曝光、光阻显影以及金属电极层蚀刻，然后剥离残余光阻层，形成所述oled像素层73。

具体地，所述oled像素层73包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属电极层以及有机覆盖层等，不限于上述膜层。

具体地，所述像素限定层80位于所述阳极金属层72以及所述oled像素层73的边缘两端，所述像素限定层80的高度可以大于或等于所述有机光阻层71与所述阳极金属层72的高度之和，也可以小于所述有机光阻层71与所述阳极金属层72的高度之和，由工艺需求决定。

具体地，所述薄膜封装层90为三明治结构，两层无机层起隔绝水氧的作用，一层有机层夹在中间起平坦缓冲的作用。

如图2所示，为本发明oled显示装置的有机光阻层的隆起结构方案一示意图。其中，所述有机光阻层71的所述隆起状结构包括直线部分711以及斜坡部分712，所述直线部分711位于所述隆起结构的顶边，所述斜坡部分712位于所述隆起结构的两侧边；所述隆起状结构为单层膜结构。

所述直线部分711和斜坡部分712的长度在总长的占比，对于后续oled的光学特性影响大，具体地，影响屏幕正面垂直出射光线和倾斜出射光线的占比。所述第一圆弧层7121的高度分别为h1、h2以及h3(h1＞h2＞h3)时，相对应的所述直线部分711的长度分别为l1、l2以及l3(l1＜l2＜l3)。通过调整所述直线部分711的长度在所述有机光阻层71的总长度的占比，进而能够调整所述阳极金属层72的水平部分的长度。

如图3所示，为本发明oled显示装置的有机光阻层的隆起结构方案二示意图。其中，所述隆起状结构为双层膜结构，两层膜的厚度可以相同，也可以不同，可以根据制程需求决定第一层膜713和第二层膜714的厚度。其中，所述第一层膜713的水平部分长度为l1，所述第二层膜714的水平部分长度为l2。采用该结构，在该双层结构的隆起结构上表面覆盖所述阳极金属层72，可以使得所述斜坡部分712具有更大的比例。

如图4所示，为本发明oled显示装置方案一局部放大示意图。其中，所述平坦化层60上使用有机光阻制备具有隆起状结构的所述有机光阻层71，所述oled像素层73设置于所述有机光阻层71表面。所述oled像素层73包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属电极层以及有机覆盖层等，不限于上述膜层。其中，所述空穴注入层、所述空穴传输层、所述空穴阻挡层、所述电子传输层、所述电子注入层、所述金属电极层以及所述有机覆盖层等膜层使用共通型金属掩模版制备，使用精密金属掩模板制作所述发光层，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层、蓝光发光层。使用制作红色发光层的精密金属掩模板、绿色发光层的的精密金属掩模板和蓝色发光层的精密金属掩模板依次制作红光发光层、绿光发光层、蓝光发光层。

所述封装膜层90覆盖下部的所述oled像素层73。通过所述封装膜层90封装之后结束。红、绿、蓝三个像素分别出射光线红色、绿色、蓝色光线，出射的光线包括垂直光线，也包括倾斜光线。

优选地，为了延长两侧圆弧边的长度，也可以使用图3示意的双层有机光阻形成的隆起结构，单层或双层有机光阻的结构由制程需求决定。

如图5所示，为本发明oled显示装置方案二局部放大示意图。其与本发明oled显示装置方案一的不同之处仅在于所述平坦化层60的表面设置有柱状突起81，所述柱状突起81覆盖相邻的两所述有机光阻层71的边缘。

具体地，所述柱状突起81的材质与所述像素限定层80的材质相同，所述柱状突起81的高度大于所述像素限定层80的高度；所述柱状突起81的高度范围为1～10um，优选为2um。所述阳极金属层72和所述oled像素限定层73通过真空真镀方法制备，所述柱状突起81的作用是控制金属掩模版和tft基板的间距，保证掩模版在水平方向移动时，已经沉积在所述阳极金属层72之上的薄膜不会被划伤。所述柱状突起81的分布密度根据制程需要决定。

如图6所示，为本发明oled显示装置方案三局部放大示意图。其与本发明oled显示装置方案一的不同之处仅在于所述oled像素层73中的所述发光层为白色发光层，所述薄膜封装层90上设置有间隔间隙100，所述间隔间隙100上设置有滤色层110。

其中，所述oled像素层73包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、金属电极层以及有机覆盖层等，不限于上述膜层。所述oled像素层73中的各膜层均采用珙桐型掩膜版制作；所述白色发光层经历所述滤色层110分别发出红色、绿色、蓝色光线，出射的光线包括垂直光线，也包括倾斜光线。

本发明所制备的oled显示装置可以实现红、绿、蓝三种颜色的发光层并置在同一水平面上，而且红色、绿色、蓝色三个子像素各具有特殊的隆起结构，发光子像素即可实现垂直向上出射光线，也有一定比例的光线倾斜出射，这样可以改善oled显示面板的视角特性(亮度-视角特性和白画面颜色-视角特性)。

本发明所制备的另一oled显示装置可以实现红、绿、蓝三种颜色的发光层并置在同一水平面上，oled像素层在整个屏幕范围内为连续的膜层，而且发射白光，各个隆起的结构出射白光，白光通过上部的滤色膜之后，可以出射红色、绿色、蓝色光线。

本发明制备的oled显示装置在阵列基板制程中与现有技术相比增加了一道光罩，成本有所增加；在蒸镀制程时生产的掩模板都没有发生变化，蒸镀制程不会引起成本增加。本发明的oled显示装置中发光的子像素由平面型变为三维型。三维型红绿蓝子像素出射光线既包括垂直光线也包括倾斜光线，现有技术之下红绿蓝子像素只有垂直光线出射，可以实现出射光在各个方向上更加均匀；借助此发明，可以改善显示屏幕的亮度-视角特性，随着观察视角的变化，屏幕亮度变化更小，白画面色偏-视角特性也可以改善，随着观察视角的变化，屏幕色偏更小。

本发明的有益效果为：本发明所提供的oled显示装置，在平坦化层上设置一层隆起状结构的有机光阻层，使有机光阻层上的发光薄膜图案层发出的光线在多个方向上出射，进一步使出射光线更加均匀，更进一步改善了显示屏幕的视角。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。