发光二极管的外延片及其制作方法与流程

文档序号:17475814发布日期:2019-04-20 06:07阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制作方法,属于光电子制造技术领域。该外延片包括衬底和依次形成在衬底上的缓冲层、u型GaN层、布拉格反射层、n型GaN层、n型AlGaN层、应力释放层、发光层和p型层,布拉格反射层包括交替层叠的多层AlN层和多层AlGaN层。由于AlN层的折射率小于AlGaN层的折射率,且AlN层和AlGaN层的折射率均小于n型GaN层的折射率,发光层发出的光在通过n型GaN层和布拉格反射层的界面时会发生全反射,且在通过AlN层和AlGaN层的界面时也会发生全反射,使向衬底一侧发出的光被反射向p型层一侧,从而提高出光效率,使LED的亮度得到提高。

技术研发人员:刘春杨;吕蒙普;胡加辉;李鹏
受保护的技术使用者:华灿光电(浙江)有限公司
技术研发日:2018.12.17
技术公布日:2019.04.19
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