一种阵列基板及显示装置的制作方法

文档序号:15316734发布日期:2018-08-31 23:41阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板上依次设置有第一绝缘层、信号线、第二绝缘层以及导电薄膜,所述信号线与所述导电薄膜之间设置有使所述信号线与所述导电薄膜电连接的连接部,所述第二绝缘层与所述连接部正对的部位上设置有至少一个过孔,所述导电薄膜通过位于所述过孔内的连接部与所述信号线电连接;其中,

所述第一绝缘层与所述衬底基板之间形成有与所述连接部对应的金属衬垫;每一组相互对应的连接部和金属衬垫中,所述连接部在所述衬底基板上的投影位于所述金属衬垫在所述衬底基板上的投影内。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括位于所述第一绝缘层和衬底基板之间的栅线,所述金属衬垫与所述栅线同层同材质。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括源漏极金属层,所述信号线与所述源漏极金属层同层同材质。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二绝缘层为钝化层或者平坦层。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述导电薄膜为公共电极。

6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述导电薄膜上形成有与显示装置中阵列基板和彩膜基板之间的支撑隔垫物对应的多个凹槽。

7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述信号线、导电薄膜以及金属衬垫的厚度均处于0.1微米至0.5微米之间。

8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二绝缘层的厚度为1微米至5微米。

9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述第二绝缘层的材料为有机材料。

10.一种显示装置,包括彩膜基板,其特征在于,还包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板,所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置,且所述彩膜基板和所述阵列基板之间设有多个支撑隔垫物。

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